【技术实现步骤摘要】
一种蓝宝石基片用软硬同体固结磨盘及其制备方法
[0001]本专利技术涉及磨盘制造领域,具体涉及一种蓝宝石基片用软硬同体固结磨盘及其制备方法
。
技术介绍
[0002]蓝宝石材料具有化学性质稳定
、
机械强度高和优良的光电透过性,是制备光学元器件
、
窗口
、LED
衬底和超导薄膜基片等的主要材料之一
。
然而,由于蓝宝石硬度高
(
仅次于金刚石
)、
脆性大,是一种典型的难加工材料,其晶片制备加工过程工艺复杂
、
周期长
。
特别是对用于
GaN
外延生长的蓝宝石基片,其表面平整度和加工质量直接影响外延层的生长品质和器件性能,因此需要高效低损伤超精密加工
。
[0003]一般使用固结金刚石磨料进行蓝宝石基片的加工,能够获得较优的加工效率和尺寸精度,但同时也极易造成晶片表面及亚表面等损伤和缺陷,给后续加工带来不利影响
。
为进一步提升蓝宝石基片的加工效率和质量,基于固相摩擦化学反应理论已公开多个专利,如专利
CN108098569A
公布了一种抛光蓝宝石基片的内含钕化物软质磨料的固着磨具及其制作方法,磨粒主要为二氧化硅
。
专利
CN101148035A
提及了一种软硬磨粒混合的半固着磨粒磨具
。
专利
CN105856089A
公布了一种研磨复合体及其制备方 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种蓝宝石基片用软硬同体固结磨盘,其特征在于:所述软硬同体固结磨盘包括多个同体单元,每个同体单元包括软质区域与硬质区域,软质区域硬度为肖氏
90
‑
100HD
,硬质区域硬度为软质区域硬度的
1.1
‑
1.4
倍;软质区域与硬质区域面积比为
2:1
‑
1:2
,软质区域和硬质区域磨料浓度比为
1:1
‑
1:5
;软质区域或硬质区域的磨料粒径为
W0.5
‑
W40。2.
根据权利要求1所述的一种蓝宝石基片用软硬同体固结磨盘,其特征在于
:
所述软质区域中含有硬质磨料,硬质磨料的硬度不低于蓝宝石;所述硬质区域中含有软质磨料,软质磨料为能与蓝宝石发生固相反应的材料,且硬度比蓝宝石基片低
。3.
根据权利要求1所述的一种蓝宝石基片用软硬同体固结磨盘,其特征在于
:
所述软硬同体单元构成截面包括但不限于同心圆环
、
对称半圆环
、
同心六边形在内的复合结构
。4.
根据权利要求1所述的一种蓝宝石基片用软硬同体固结磨盘,其特征在于
:
所述软质磨料包括但不限于
SiO2、ZnO、Cr2O3、CeO2、Fe2O3、MgO
中的一种或多种的组合,粒径为
W0.5
‑
W40。5.
根据权利要求1所述的一种蓝宝石基片用软硬同体固结磨盘,其特征在于:所述硬质磨料包括但不限于金刚石
、
立方氮化硼
、
碳化硅
、
氧化锆
、
氧化铝中的一种或多种的组合
。6.
根据权利要求1所述的一种蓝宝石基片用软硬同体固结磨盘,其特征在于:所述硬质结合剂包括酚醛树脂
、
环氧树脂
、ABS
树脂
、
双马来酰亚胺树脂
、
三聚氰胺树脂
、
氰酸酯树脂
、
聚醚酰亚胺
、
聚醚醚酮树脂中的一种或多种
。7.
根据权利要求1所述的一种蓝宝石基片用软硬同体固结磨盘,其特征在于:所述软质...
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