清洁设备、机动车辆和方法技术

技术编号:39421148 阅读:25 留言:0更新日期:2023-11-19 16:09
提供了一种用于清洁机动车辆的光学仪器的外表面的清洁设备。清洁设备包括用于将清洁流体供应到光学仪器的外表面的清洁流体供应器。清洁设备还包括用于临时覆盖至少光学仪器的外表面的盖。盖相对于光学仪器的外表面是可运动的。清洁设备被布置成能够使盖在覆盖位置与释放位置之间运动,在覆盖位置上,盖覆盖外表面,在释放位置上,盖使外表面露出。在从覆盖位置运动到释放位置时,或反之亦然,盖可以处于连续的中间位置,在连续的中间位置上,盖覆盖光学仪器的外表面的对应的第一部分,而使所述外表面的对应的第二部分露出。清洁设备被布置成使得在覆盖位置和连续的中间位置中的至少一个位置上,清洁设备在盖的至少一部分与光学仪器的外表面的至少一部分之间限定流动路径,以便于允许清洁流体在盖的所述至少一部分与光学仪器的外表面的所述至少一部分之间流动。动。动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】清洁设备、机动车辆和方法


[0001]本专利技术涉及一种用于清洁机动车辆的光学仪器的外表面的清洁设备,特别是包括用于将清洁流体供应到光学仪器的外表面的清洁流体供应器的清洁设备。

技术介绍

[0002]用于清洁机动车辆的光学仪器的外表面的清洁设备是已知的。
[0003]例如,已知的用于清洁安装在汽车车顶上的摄像头的窗玻璃外表面的清洁设备包括用于向所述外表面喷洒清洁流体的一个或多个喷嘴。
[0004]具有这种常规设置的系统的缺点在于,可能需要相对高的压力通过喷洒来清洁外表面。这可能导致使用相对多的清洁流体。可替代地或另外地,通常难以相对良好地到达并清洁外表面的所有区域,特别是以不涉及复杂系统的方式。
[0005]另外地或可替代地,这种常规设置的另一个缺点在于,例如由于行驶时的风,部分清洁流体可能被吹走,然后不会到达待清洁的外表面。这不仅可能导致清洁流体的浪费,因此人们会相对快速地用尽清洁流体和/或因此可能需要相对大的清洁流体贮存器来储存相对大量的待使用的清洁流体,而且这还可能导致流体存积到外部环境,这可能导致不期望的空气污染和/或水污染。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的是提供一种用于清洁机动车辆的光学仪器的外表面的替代性清洁设备。特别地,本专利技术的目的是提供一种用于清洁机动车辆的光学仪器的外表面的清洁设备,该清洁设备包括用于将清洁流体供应到光学仪器的外表面的清洁流体供应器,更特别地,该清洁设备防止现有技术的清洁设备的缺点中的至少一个缺点。更特别地,本专利技术可以旨在提供一种清洁设备,其可以防止清洁流体的浪费和/或其可以防止相对大量的清洁流体可能进入环境和/或其可以以相对有效和/或相对高效的方式清洁光学仪器的外表面。
[0007]另外,本专利技术提供了一种用于清洁机动车辆的光学仪器的外表面的清洁设备,其中清洁设备包括清洁流体供应器,清洁流体供应器用于将清洁流体供应到所述光学仪器的外表面,清洁设备还包括盖,盖用于临时覆盖至少光学仪器的外表面,盖可以相对于光学仪器的外表面运动,其中清洁设备被布置成能够使盖在覆盖位置与释放位置之间运动,在覆盖位置上,盖覆盖外表面,在释放位置上,盖使外表面露出,其中当从覆盖位置向释放位置运动时,或反之亦然,盖可以处于连续的中间位置,在中间位置上,盖覆盖光学仪器的外表面的对应的第一部分并使外表面的对应的第二部分露出,并且其中清洁设备被布置成使得在包括优选地由覆盖位置和连续的中间位置组成的一组位置中的至少一个位置上,清洁设备在盖的至少一部分与光学仪器的外表面的至少一部分之间限定流动路径,以便于允许清洁流体在盖的所述至少一部分与光学仪器的外表面的所述至少一部分之间流动。
[0008]特别地,清洁设备可以被布置成使得在清洁设备在盖的至少所述部分与光学仪器的外表面的至少所述部分之间限定所述流动路径的所述至少一个位置上,清洁设备允许所
供应的清洁流体(特别是清洁液体)流动经过所述流动路径并流过外表面的所述部分。
[0009]另外地或可替代地,清洁设备可以被布置成使得在清洁设备在盖的至少所述部分与光学仪器的外表面的至少所述部分之间限定所述流动路径的所述至少一个位置上,优选地其中流动路径形成为小的开槽空间,清洁流体可以被压抵在所述外表面上,特别是在相对长的距离上,并且可以沿着清洁流体流过外表面的所述部分的路线在不同位置上对污垢施加力。因此,这可以是方便的,即,清洁流体不仅将力施加到位于单个位置的污垢上,在该单个位置上,清洁流体首先与外表面接触,如常规的摄像头喷洒系统的情况一样,而且因此可以将力施加到沿着清洁流体流过外表面的所述部分的路线在不同位置的污垢上。
[0010]通过将清洁设备布置成使得在包括覆盖位置和连续的中间位置的组中的至少一个位置上,并且优选为在位置的所述组中的多个位置上,更优选为在位置的所述组中的所述位置中的每个位置上,清洁设备在盖的至少一部分与光学仪器的外表面的至少一部分之间限定流动路径,清洁设备可以允许清洁流体在盖的所述至少一部分与光学仪器的外表面的所述至少一部分之间流动,以便于冲洗外表面。特别地,通过覆盖光学仪器的外表面的至少一部分,并且让清洁流体在其间流动,可以防止清洁流体可能被意外地吹走,例如由于风,例如由于行驶而产生的风。
[0011]通过经由流动路径将清洁流体供应到外表面,该流动路径可以形成为例如细长的管道或分体形状的腔或以任何其它合适的形式,这可以是方便的,即,相对多的清洁流体将实际到达待清洁的外表面,这通常与喷洒器系统的情况不同,例如典型地用于将挡风玻璃清洗液喷洒到机动车辆的挡风玻璃上的喷洒器系统或用于清洁汽车上的车顶摄像头的喷洒器系统。
[0012]另外地或可替代地,通过经由在盖与待清洁的外表面之间的流动路径(特别是小的开槽空间)将清洁流体供应到外表面,清洁流体可以在相对长的距离上被压抵在所述外表面上,并且可以将力施加到沿着清洁流体的路径在不同位置的污垢上。因此,清洁流体不仅将力施加到位于单个位置的污垢上,在该单个位置上,清洁流体首先与外表面接触,如常规的摄像头喷洒系统的情况一样。
[0013]因此,例如,本专利技术可以便于使用相对少的清洁流体,而与例如常规的摄像头喷洒系统相比,本专利技术还可以便于相对有效的清洁。
[0014]通过提供脉冲流动,优选为具有相对高的波动率,效果和/或效率甚至可以进一步提高。
[0015]通过使盖(特别是其后侧,当所述盖覆盖所述外表面时,所述后侧面向光学仪器的外表面)限定在某种程度上预定的流动路线,并且通过使清洁流体(特别是以加压方式)经由所述在某种程度上预定的流动路线流过外表面的至少一部分,这可以是方便的,即,清洁流体可以相对良好地分布在外表面上,和/或这可以是方便的,即,清洁流体可以对存在于外表面上的污垢施加相对高的力和/或剪切应力。
[0016]另外地或可替代地,在盖的后侧上的清洁流体流动路线影响型式可以影响在外表面上的流动路线,特别是以便于不同于基本上径直的路线,例如基本上笔直的或弯曲的路线。
[0017]优选地,清洁流体流动路线影响型式可以以所述流动的路线可以随时间变化的方式来影响清洁流体的流动。
[0018]因此,例如,清洁流体流动路线影响型式可以使得能够引入相对湍流的流动,这可以相对有效地清洁外表面的至少一部分,例如由于该湍流流动可以使得能够产生或增加剪切应力。
[0019]例如,另外,在实施例中,盖的后表面可以设置有流动路线影响型式,其例如可以至少部分地通过一个或多个流动中断元件形成,例如钉状物、肋状物等。
[0020]在实施例中,清洁设备可以被布置成使得盖的后表面在覆盖位置和连续的中间位置中的至少一个位置上面向光学仪器的外表面,并且其中盖的所述后表面设置有流体流动路线影响型式,其中所述后表面包括一个或多个流动中断元件,例如钉状物等,一个或多个流动中断元件可以影响在外表面上的流动路线,特别是以便于使其不同于基本上径直的路线,例如基本上笔直的或单一弯曲的路线。
[0021]在优选实施例中,至少在清洁设备限定盖的至少一本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于清洁机动车辆的光学仪器的外表面的清洁设备,所述清洁设备包括清洁流体供应器,所述清洁流体供应器用于将清洁流体供应到所述光学仪器的外表面,所述清洁设备还包括盖,所述盖用于临时覆盖至少所述光学仪器的外表面,所述盖能够相对于所述光学仪器的外表面运动,其中所述清洁设备被布置成能够使所述盖在覆盖位置与释放位置之间运动,在所述覆盖位置上,所述盖覆盖所述外表面,在所述释放位置上,所述盖使所述外表面露出,其中所述盖在从所述覆盖位置向所述释放位置运动或反之亦然时,能够处于连续的中间位置,在所述连续的中间位置上,所述盖覆盖所述光学仪器的外表面的对应的第一部分并使所述外表面的对应的第二部分露出,其中所述清洁设备被布置成使得在包括所述覆盖位置和所述连续的中间位置的一组位置中的至少一个位置上,所述清洁设备在所述盖的至少一部分与所述光学仪器的外表面的至少一部分之间限定流动路径,以便于允许清洁流体在所述盖的所述至少一部分与所述光学仪器的外表面的所述至少一部分之间流动。2.根据权利要求1所述的清洁设备,其中,所述清洁设备被布置成能够使清洁流体例如沿基本向下的方向流过所述光学仪器的外表面的至少一部分。3.根据权利要求1或2所述的清洁设备,其中,所述清洁流体供应器包括至少一个流出口,所述至少一个流出口位于所述光学仪器的外表面的上方。4.根据前述权利要求中任一项所述的清洁设备,其中,所述光学仪器是摄像头或包括摄像头。5.根据前述权利要求中任一项所述的清洁设备,其中,所述光学仪器的外表面由透镜形成,特别是由摄像头透镜形成。6.根据权利要求5所述的清洁设备,其中,由所述透镜形成的所述外表面是带涂层的外表面,优选为通过防刮和/或抗反射的涂层来涂覆。7.根据前述权利要求中任一项所述的清洁设备,其中,所述清洁设备被布置成用于收集被供应到所述流动路径中并流过所述光学仪器的外表面的清洁流体的至少一部分。8.根据前述权利要求中任一项所述的清洁设备,其中,所述光学元件的外表面是弯曲的,特别是凸面的,更特别地基本上形成为圆柱形表面区域或基本上形成为球形表面区域。9.根据权利要求8所述的清洁设备,其中,所述盖的后表面在所述覆盖位置和所述连续的中间位置中的至少一个位置上面向所述光学仪器的外表面,并且其中所述盖的所述后表面是基本上弯曲的,特别是基本上凹面的,更特别地基本上形成为球形表面区域。10.根据前述权利要求中任一项所述的清洁设备,其中,所述光学仪器是激光雷达仪器或包括激光雷达仪器,特别地,其中所述光学仪器的外表面能够是基本上平坦的,更特别地,其中所述外表面能够沿向上的方向延伸,例如沿基本上竖直的方向延伸。11.根据前述权利要求中任一项所述的清洁设备,其中,所述盖的后表面在所述覆盖位置和所述连续的中间位置中的至少一个位置上面向所述光学仪器的外表面,并且其中所述盖的所述后表...

【专利技术属性】
技术研发人员:J
申请(专利权)人:荷兰反光镜控制器国际有限公司
类型:发明
国别省市:

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