表面处理剂及具有表面处理层的基材的制造方法技术

表面处理剂含有：具有反应性甲硅烷基的含氟化合物(A)；和选自由含氟酮化合物(B1)：R1COR2、含氟环状酮化合物(下述B2)及含氟聚醚化合物(B3)：R4‑

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面处理剂及具有表面处理层的基材的制造方法


[0001]本公开涉及表面处理剂及具有表面处理层的基材的制造方法。

技术介绍

[0002]含氟化合物表现高的润滑性、拒水拒油性等。若对基材的表面赋予含氟化合物而形成表面处理层，则对基材的表面赋予润滑性、拒水拒油性等。因此，变得容易擦掉基材的表面的污垢，污垢的去除性提高。在含氟化合物中，具有在全氟亚烷基链中存在醚键(
‑
O
‑
)的聚(氧全氟亚烷基)链的含氟醚化合物的油脂等污垢的去除性也优异。
[0003]对于可用作用于对表面赋予拒水拒油性等的成分的含氟醚化合物，例如，可举出国际公开第2018/181936号中记载的具有全氟聚醚基及固化性部位的化合物。
[0004]作为对基材的表面赋予含氟化合物的方法，可举出物理蒸镀法(PVD法)、化学蒸镀法(CVD法)等真空蒸镀方法。作为其他赋予方法，可举出通过浸渍法、喷雾法等将包含含氟化合物的表面处理剂涂布于基材的表面并进行干燥的湿润覆盖法。

技术实现思路

[0005]专利技术要解决的问题
[0006]但是，有时因含氟化合物的种类、将含氟化合物赋予至基材的表面的方法不同而表面处理层的平坦性降低。若表面处理层的平坦性降低，则有时成为外观的恶化、透光性降低等的原因。
[0007]本公开是鉴于上述现有的情况而作出的，其目的在于，提供可形成平坦性优异的表面处理层的表面处理剂、及具有使用该表面处理剂的表面处理层的基材的制造方法。
[0008]用于解决问题的方案
[0009]用于达成前述课题的具体手段如下。
[0010]<1>一种表面处理剂，其含有：具有反应性甲硅烷基的含氟化合物(A)；和选自由下述式(B1)所示的含氟酮化合物(B1)、下述式(B2)所示的含氟环状酮化合物(B2)及下述式(B3)所示的含氟聚醚化合物(B3)组成的组中的至少1种化合物(B)。
[0011]R1COR2(B1)
[0012][0013]R4‑
[OR5]q
‑
R6(B3)
[0014](式(B1)中，R1及R2各自独立地表示碳数1～5的直链状、支链状或环状的含氟烷基。
[0015]式(B2)中，R3表示与羰基的碳原子一起形成3元～5元的环结构、且具有氟原子的残基。R3任选被碳数1～2的含氟烷基取代。
[0016]式(B3)中，R4及R6各自独立地表示碳数1～3的含氟烷基，q表示1以上的整数，R5表
示碳数1～6的全氟亚烷基，q为2以上的整数时，多个R5任选相同或不同。)
[0017]<2>根据<1>所述的表面处理剂，其中，前述化合物(B)的总含有率为50～99.999质量％。
[0018]<3>根据<1>或<2>所述的表面处理剂，其中，前述式(B1)中的R1及R2所示的含氟烷基的至少一者为支链状的含氟烷基。
[0019]<4>根据<3>所述的表面处理剂，其中，前述式(B1)中的R1及R2所示的含氟烷基的两者为支链状的含氟烷基。
[0020]<5>根据<3>或<4>所述的表面处理剂，其中，前述支链状的含氟烷基在α碳上具有支链结构。
[0021]<6>根据<1>～<5>中任一项所述的表面处理剂，其中，前述含氟聚醚化合物(B3)的沸点为50～220℃。
[0022]<7>根据<1>～<6>中任一项所述的表面处理剂，其中，前述含氟聚醚化合物(B3)的数均分子量为300～1000。
[0023]<8>根据<1>～<7>中任一项所述的表面处理剂，其中，前述含氟聚醚化合物(B3)包含全氟聚醚化合物。
[0024]<9>根据<1>～<8>中任一项所述的表面处理剂，其中，前述含氟酮化合物(B1)包含全氟酮化合物。
[0025]<10>根据<1>～<9>中任一项所述的表面处理剂，其中，前述含氟环状酮化合物(B2)包含全氟环状酮化合物。
[0026]<11>一种具有表面处理层的基材的制造方法，其中，将<1>～<10>中任一项所述的表面处理剂涂布于基材的表面后，使其干燥。
[0027]<12>根据<11>所述的具有表面处理层的基材的制造方法，其中，前述基材的表面的材质为金属、树脂、玻璃、陶瓷、或它们的复合材料。
[0028]专利技术的效果
[0029]根据本公开，能够提供可形成平坦性优异的表面处理层的表面处理剂、及具有使用该表面处理剂的表面处理层的基材的制造方法。
具体实施方式
[0030]以下，对用于实施本公开的方式详细地进行说明。但本公开不限定于以下的实施方式。在以下的实施方式中，对于其构成要素(也包括要素步骤等)，除了特别说明的情况以外，不是必须的。关于数值及其范围也同样，不限制本公开。
[0031]本公开中用“～”表示的数值范围包含记载于“～”前后的数值分别作为最小值及最大值。
[0032]本公开中大气压是指101.3kPa。
[0033]本公开中，将式(1)所示的单元记为“单元(1)”。其他式所示的单元也同样记载。将式(2)所示的基团记为“基团(2)”。其他式所示的基团也同样记载。将式(3)所示的化合物记为“化合物(3)”。其他式所示的化合物也同样记载。
[0034]本公开中，“亚烷基任选具有A基团”的情况下，亚烷基可以在亚烷基中的碳
‑
碳原子间具有A基团，也可以如亚烷基
‑
A基团
‑
那样在末端具有A基团。
[0035]本公开中的术语的含义如下。
[0036]“2价的有机聚硅氧烷残基”为下式所示的基团。下式中的R
x
各自独立地为烷基(优选碳数1～10)、或苯基。另外，g1为1以上的整数，优选1～9的整数、更优选1～4的整数。
[0037][0038]“硅亚苯基骨架基团”为
‑
Si(R
y
)2PhSi(R
y...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种表面处理剂，其含有：具有反应性甲硅烷基的含氟化合物(A)；和选自由下述式(B1)所示的含氟酮化合物(B1)、下述式(B2)所示的含氟环状酮化合物(B2)及下述式(B3)所示的含氟聚醚化合物(B3)组成的组中的至少1种化合物(B)，R1COR2(B1)R4‑
[OR5]
q
‑
R6(B3)式(B1)中，R1及R2各自独立地表示碳数1～5的直链状、支链状或环状的含氟烷基，式(B2)中，R3表示与羰基的碳原子一起形成3元～5元的环结构、且具有氟原子的残基，R3任选被碳数1～2的含氟烷基取代，式(B3)中，R4及R6各自独立地表示碳数1～3的含氟烷基，q表示1以上的整数，R5表示碳数1～6的全氟亚烷基，q为2以上的整数时，多个R5任选彼此相同或不同。2.根据权利要求1所述的表面处理剂，其中，所述化合物(B)的总含有率为50～99.999质量％。3.根据权利要求1或权利要求2所述的表面处理剂，其中，所述式(B1)中的R1及R2所示的含氟烷基的至少一者为支链状的含氟烷基。4.根据权利要求3所述的表面处理剂，其中，所述式(B...

【专利技术属性】
技术研发人员：青山元志，原口将幸，
申请(专利权)人：AGC株式会社，
类型：发明
国别省市：