沉积掩模制造技术

本申请涉及沉积掩模

【技术实现步骤摘要】
沉积掩模
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于
2018
年6月
12
日提交至韩国知识产权局的第
10
‑
2018
‑
0067675
号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的全部内容通过引用并入本文
。


[0003]本公开涉及沉积掩模及包括沉积掩模的掩模组件，并且更具体地涉及配置为改善沉积工艺中的准确度和均匀性的沉积掩模及包括该沉积掩模的掩模组件
。

技术介绍

[0004]作为自发光显示设备之一的有机发光显示设备具有诸如视角宽
、
对比度良好且响应速度快的技术优点，且因此作为下一代显示设备脱颖而出
。
有机发光显示设备包括两个相对的电极和插置于所述电极之间的中间层
(
例如，至少一个发光层
)。
可使用包括沉积法的多种方法来形成中间层
。
在沉积法的情况下，沉积掩模
(
例如，精细金属掩模
(FMM))
放置成与衬底紧密接触
。
通过沉积掩模将沉积材料供应到衬底上以形成具有期望图案的薄沉积膜
。
这里，沉积掩模设置为具有其形状与待形成到衬底上的薄沉积膜的图案的形状相同的开口
。

技术实现思路

[0005]本专利技术构思的实施方式提供沉积掩模，该沉积掩模配置为改善沉积工艺中的准确度和均匀性
。
[0006]根据本专利技术构思的实施方式，沉积掩模可包括设置有图案部分的图案化区域和设置在图案化区域的第一方向上的相对的端附近的多个结合区域
。
图案部分可包括：其中限定有第一图案孔的第一图案部分；以及多个第二图案部分，多个第二图案部分中限定有第二图案孔且位于第一图案部分和结合区域的第一方向上的相对的端之间
。
作为第二图案孔中相邻的第二图案孔之间的最小距离的第二距离可大于作为第一图案孔中相邻的第一图案孔之间的最小距离的第一距离
。
[0007]在实施方式中，第一图案孔中的每一个的尺寸可与第二图案孔中的每一个的尺寸基本相等
。
[0008]在实施方式中，第二距离可大于或等于约
20
μ
m。
[0009]在实施方式中，第二图案部分中的每一个可包括：第一部分，第一部分邻近多个结合区域中的结合区域设置，并且第一部分中限定有第二图案孔；以及第二部分，第二部分设置在第一部分与第一图案部分之间，且第二部分中限定有第一图案孔
。
[0010]在实施方式中，在第一部分中，第二图案孔可限定为形成至少两个行
。
[0011]在实施方式中，第二图案部分中的每一个还可包括第三部分，第三部分设置在第一部分与结合区域之间，且第三部分中限定有第三图案孔
。
作为第三图案孔中相邻的第三图案孔之间的最小距离的第三距离可大于第二距离
。
[0012]在实施方式中，第一图案部分可包括：多个沉积部，多个沉积部在第一方向上彼此间隔开，且多个沉积部中限定有第一图案孔；以及至少一个阻挡部，至少一个阻挡部设置在沉积部之间
。
[0013]在实施方式中，阻挡部的开口率可小于沉积部中的每一个的开口率
。
[0014]在实施方式中，阻挡部的开口率可以是
0。
[0015]在实施方式中，阻挡部可设置成具有限定在其中的多个第四图案孔
。
第四图案孔中的每一个的尺寸可与第一图案孔中的每一个的尺寸基本相等
。
[0016]在实施方式中，第四图案孔中相邻的第四图案孔之间的最小距离可大于或等于第二距离
。
[0017]在实施方式中，阻挡部可设置成具有限定在其中的多个第四图案孔
。
第四图案孔中的每一个的尺寸可小于第一图案孔中的每一个的尺寸
。
[0018]在实施方式中，第四图案孔中相邻的第四图案孔之间的最小距离可与第一距离基本相等
。
[0019]在实施方式中，阻挡部的开口率可与沉积部中的每一个的开口率基本相等
。
[0020]在实施方式中，阻挡部的在第一方向上的宽度可与第二图案部分的在第一方向上的宽度不同
。
[0021]在实施方式中，第一图案孔之间的最大距离可与第二距离基本相等
。
[0022]在实施方式中，沉积掩模还可包括切割部，切割部邻近多个结合区域的在第一方向上的相对的端设置
。
切割部中的每一个可包括虚设图案部分，虚设图案部分中限定有虚设图案孔，以及虚设图案孔可限定成具有与第一图案孔的布置结构基本相同的布置结构
。
[0023]在实施方式中，切割部中的每一个可设置成具有夹持凹口，夹持凹口在第一方向上从切割部的外侧向内凹入
。
[0024]根据本专利技术构思的实施方式，掩模组件可包括框架组和设置在框架组上的多个沉积掩模，多个沉积掩模中的每一个在第一方向上延伸
。
框架组可包括支承框以及在与第一方向交叉的第二方向上延伸且在第一方向上布置的多个支承条
。
多个支承条中的每一个的在第二方向上的相对的端可联接至支承框
。
沉积掩模中的每一个可包括在第一方向上彼此间隔开且固定至支承框的多个结合区域以及设置在结合区域之间且设置有图案部分的图案化区域
。
图案部分可包括第一图案部分和多个第二图案部分，其中，第一图案部分设置成与图案部分的中央重叠，且第一图案部分中限定有多个第一图案孔，多个第二图案部分设置在第一图案部分和结合区域的在第一方向上的相对端之间
。
多个第二图案孔可限定在多个第二图案部分中的每一个的至少一个区域中
。
第二图案孔中相邻的第二图案孔之间的最小距离可大于第一图案孔中相邻的第一图案孔之间的最小距离
。
[0025]在实施方式中，第一图案孔中的每一个的尺寸可与第二图案孔中的每一个的尺寸基本相等
。
[0026]在实施方式中，支承条包括至少一个第一支承条和第二支承条，其中，至少一个第一支承条在第一方向上布置并且与第一图案部分的一部分重叠，第二支承条是支承条的在第一方向上的最外部的支承条且与沉积掩模中的每一个的第二图案部分重叠
。
[0027]在实施方式中，第一图案部分包括：多个沉积部，多个沉积部在第一方向上彼此间隔开，且多个沉积部中限定有第一图案孔；以及至少一个阻挡部，至少一个阻挡部设置在沉
积部之间且与第一支承条重叠
。
[0028]在实施方式中，第二支承条中的每一个在第一方向上的宽度可与第一支承条中的每一个在第一方向上的宽度不同
。
[0029]在实施方式中，结合区域的开口率可以是
0。
[0030]在实施方式中，支本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
沉积掩模，包括：图案化区域，设置有图案部分；多个结合区域，设置在所述图案化区域的在第一方向上相对的端附近；以及多个虚设图案部分，设置在所述图案化区域的在所述第一方向上相对的端，其中，所述图案部分包括：第一图案部分，所述第一图案部分中限定有第一图案孔；以及多个第二图案部分，所述多个第二图案部分中限定有第二图案孔，且所述多个第二图案部分位于所述第一图案部分和所述结合区域的在所述第一方向上的相对的端之间，每个所述第二图案部分将所述第一图案部分的所述相对的端中的一个连接到所述结合区域中的一个，其中，作为所述第二图案孔中相邻的第二图案孔之间的最小距离的第二距离大于作为所述第一图案孔中相邻的第一图案孔之间的最小距离的第一距离，以及其中，所述第二图案部分中的每一个包括：第一部分，所述第一部分邻近所述多个结合区域中的结合区域设置，并且所述第一部分中限定有所述第二图案孔；以及第二部分，所述第二部分设置在所述第一部分与所述第一图案部分之间，且所述第二部分中限定有所述第一图案孔，以及其中，所述图案化区域和所述结合区域设置在所述虚设图案部分之间
。2.
如权利要求1所述的沉积掩模，其中，所述第一图案孔中的每一个的尺寸与所述第二图案孔中的每一个的尺寸相等
。3.
如权利要求1所述的沉积掩模，其中，所述第二距离大于或等于
20
μ
...

【专利技术属性】
技术研发人员：金相勳，李丞赈，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：