掩模组件制造技术

技术编号:39388367 阅读:9 留言:0更新日期:2023-11-18 11:12
掩模组件包括:掩模框架,具有多个侧边和由多个侧边限定的开口区域,多个侧边包括在第一方向上延伸的第一侧边;间隙部分,在与第一方向交叉的第二方向上凹入第一侧边;掩模片,覆盖开口区域;以及间隙调整部分,跨间隙部分拉伸焊接到掩模框架。拉伸焊接到掩模框架。拉伸焊接到掩模框架。

【技术实现步骤摘要】
掩模组件
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2022年3月22日在韩国知识产权局提交的第10

2022

0035534号韩国专利申请的优先权和权益,该韩国专利申请的全部公开内容通过引用并入本文中。


[0003]本公开的一个或多个实施方式的方面涉及掩模组件和制造显示装置的方法,并且更具体地,涉及可以改善沉积材料的沉积质量的掩模组件及制造显示装置的方法。

技术介绍

[0004]电子装置已经被广泛使用。电子装置已经在移动电子装置和固定电子装置中进行各种使用。电子装置包括向用户提供视觉信息(诸如图像和/或视频)的显示装置,以支持各种合适的功能。
[0005]通过沉积各种合适的层(诸如有机层、金属层等),形成可视地显示数据的显示装置。可以对沉积材料进行沉积以形成显示装置的多个层。换言之,将沉积材料从沉积源喷出,并且通过掩模组件沉积在衬底上。在这种状态下,当在掩模片和/或掩模片焊接至其的掩模框架中发生形变时,沉积材料可能不沉积在衬底上的期望位置处,并且因此,沉积质量可能降低。
[0006]在本
技术介绍
部分中公开的以上信息是为了增强对本公开的
技术介绍
的理解,并且因此,它可以包含不构成现有技术的信息。

技术实现思路

[0007]本公开的一个或多个实施方式涉及掩模组件和制造显示装置的方法,该掩模组件可以通过包括当掩模片和/或掩模框架变形时可以具有可调整的长度的、掩模框架的侧边来改善沉积质量。
[0008]然而,本公开的方面和特征不限于以上描述的方面和特征。
[0009]另外的方面和特征将部分地在随后的描述中阐述,并且部分地将根据描述而显而易见,或可以通过实践本公开的所呈现的实施方式中的一个或多个来获知。
[0010]根据本公开的一个或多个实施方式,掩模组件包括:掩模框架,具有多个侧边和由多个侧边限定的开口区域,多个侧边包括在第一方向上延伸的第一侧边;间隙部分,在与第一方向交叉的第二方向上凹入第一侧边;掩模片,覆盖开口区域;以及间隙调整部分,跨间隙部分拉伸焊接到掩模框架。
[0011]在实施方式中,间隙部分可以包括:第一部分,在平面图中在第二方向上凹入;以及第二部分,在第一部分的一个端部部分处,并且在第二方向上凹入,第二部分的至少部分的宽度大于第一部分的宽度。
[0012]在实施方式中,第二部分在平面图中可以具有圆形形状。
[0013]在实施方式中,第一部分在第一方向上的宽度可以小于第一部分在第二方向上的
长度。
[0014]在实施方式中,第一部分在第一方向上的宽度可以沿着第二方向逐渐减小。
[0015]在实施方式中,掩模片可以包括在第一方向上彼此平行的第一掩模片和第二掩模片,并且间隙部分可以在第二方向上与第一掩模片和第二掩模片间隔开,并且可以在第一方向上位于第一掩模片和第二掩模片之间。
[0016]在实施方式中,掩模片可以包括在第一方向上彼此平行的第一掩模片和第二掩模片,并且间隙部分可以在第二方向上与第一掩模片和第二掩模片间隔开,并且可以在第二方向上与第一掩模片在第一方向上延伸的宽度和第二掩模片在第一方向上延伸的宽度中的每个重叠。
[0017]根据本公开的一个或多个实施方式,制造显示装置的方法包括:准备掩模组件,掩模组件包括掩模框架,掩模框架具有在第一方向上延伸的第一侧边和在与第一方向交叉的第二方向上凹入第一侧边的第一间隙部分;在掩模框架上设置一个或多个掩模片;检查设置在掩模框架上的一个或多个掩模片的对准;以及通过跨第一间隙部分将间隙调整部分拉伸焊接到第一侧边来调整掩模框架的长度。
[0018]在实施方式中,设置一个或多个掩模片可以包括将一个或多个掩模片焊接并且固定到掩模框架。
[0019]在实施方式中,掩模框架还可以具有在与第一方向交叉的第二方向上延伸的第二侧边以及在第二侧边中的第二间隙部分,并且该方法还可以包括通过将间隙调整部分跨第二间隙部分拉伸焊接到第二侧边来调整掩模框架的第二侧边的长度。
[0020]在实施方式中,第一间隙部分可以包括多个第一间隙部分,并且调整掩模框架的第一侧边的长度可以包括选择性地将间隙调整部分拉伸焊接到多个第一间隙部分中的一些。
[0021]在实施方式中,一个或多个掩模片可以包括在第一方向上彼此平行的第一掩模片和第二掩模片,并且第一间隙部分可以在第二方向上与第一掩模片和第二掩模片间隔开且可以在第一方向上位于第一掩模片和第二掩模片之间。
[0022]在实施方式中,一个或多个掩模片可以包括在第一方向上彼此平行的第一掩模片和第二掩模片,并且第一间隙部分可以在第二方向上与第一掩模片和第二掩模片间隔开,并且可以定位成在第二方向上与第一掩模片在第一方向上延伸的宽度和第二掩模片在第一方向上延伸的宽度中的每个重叠。
[0023]根据本公开的一个或多个实施方式,制造显示装置的方法包括:准备掩模组件,掩模组件包括具有在第一方向上延伸的第一侧边的掩模框架和在与第一方向交叉的第二方向上凹入第一侧边的第一间隙部分;将第一间隙调整部分跨第一间隙部分拉伸焊接到第一侧边;在掩模框架上设置一个或多个掩模片;检查设置在掩模框架上的一个或多个掩模片的对准;以及移除第一间隙调整部分以使第一侧边的长度延伸,或将第二间隙调整部分与第一间隙调整部分相邻地跨第一间隙部分拉伸焊接到第一侧边,以使第一侧边的长度收缩。
[0024]在实施方式中,设置一个或多个掩模片可以包括将一个或多个掩模片焊接并且固定到掩模框架。
[0025]在实施方式中,掩模框架还可以具有在与第一方向交叉的第二方向上延伸的第二
侧边以及在第二侧边中的第二间隙部分,并且该方法还可以包括将第一间隙调整部分跨第二间隙部分拉伸焊接到第二侧边。
[0026]在实施方式中,该方法还可以包括:移除跨第二间隙部分的第一间隙调整部分,以使第二侧边的长度延伸;或将第二间隙调整部分与跨第二间隙部分的第一间隙调整部分相邻地跨第二间隙部分拉伸焊接到第二侧边,以使第二侧边的长度收缩。
[0027]在实施方式中,一个或多个掩模片可以包括在第一方向上彼此平行的第一掩模片和第二掩模片,并且第一间隙部分可以在第二方向上与第一掩模片和第二掩模片间隔开且可以在第一方向上位于第一掩模片和第二掩模片之间。
[0028]在实施方式中,一个或多个掩模片可以包括在第一方向上彼此平行的第一掩模片和第二掩模片,并且第一间隙部分可以在第二方向上与第一掩模片和第二掩模片间隔开,并且可以在第二方向上与第一掩模片在第一方向上延伸的宽度和第二掩模片在第一方向上延伸的宽度中的每个重叠。
[0029]在实施方式中,第二间隙调整部分可以在第二方向上与第一间隙调整部分间隔开,并且可以平行于第一间隙调整部分定位。
[0030]本公开的以上以及其它方面和特征将根据以下附图、详细描述、以及权利要求书及其等同而变得更加明显。
附图说明
[0031]本公开的以上及其它方面和特征本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模组件,其特征在于,包括:掩模框架,具有多个侧边和由所述多个侧边限定的开口区域,所述多个侧边包括在第一方向上延伸的第一侧边;间隙部分,在与所述第一方向交叉的第二方向上凹入所述第一侧边;掩模片,覆盖所述开口区域;以及间隙调整部分,跨所述间隙部分拉伸焊接到所述掩模框架。2.根据权利要求1所述的掩模组件,其特征在于,所述间隙部分包括:第一部分,在平面图中在所述第二方向上凹入;以及第二部分,在所述第一部分的一个端部部分处,并且在所述第二方向上凹入,所述第二部分的至少部分的宽度大于所述第一部分的宽度。3.根据权利要求2所述的掩模组件,其特征在于,所述第二部分在所述平面图中具有圆形形状。4.根据权利要求2所述的掩模组件,其特征在于,所述第一部分在所述第一方向上的所述宽度小于所述第一部分在所述第二方向上的长度。5.根据权利要求2所述的掩模组件,其特征在于,所述第一部分在所述第一方向上的所述宽度沿着所述第二方向逐渐减小。6.根据权利要求1所述的掩模组件,其特征在于,所述掩模片包括在所述第一方向上彼此平行的第一掩...

【专利技术属性】
技术研发人员:张原荣李锺大
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:新型
国别省市:

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