一种ALD双腔腔体快拆结构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种ALD双腔腔体的结构改进，特别涉及一种ALD双腔腔体快拆结构，可以实现在反应气体接触的部分快速维修更换，保证实验稳定性，包括外腔壳体、等离子发生器、进气管、排气管和内腔壳体；所述等离子发生器安装在外腔壳体顶部，并与内腔壳体连通，所述进气管通过匀气装置一与内腔壳体连通，所述内腔壳体通过排气管与外部连通，其特征在于，还包括上部接头和锥形进气管，所述上部接头穿过外腔壳体的顶部并与等离子发生器连通，所述锥形进气管位于内腔壳体中并与上部接头可拆式连接，还包括快速连接件，所述快速连接件将锥形进气管和匀气装置一与内腔壳体可拆式连接，所述进气管通过快拆接头与匀气装置一可拆式连接。气管通过快拆接头与匀气装置一可拆式连接。气管通过快拆接头与匀气装置一可拆式连接。

【技术实现步骤摘要】
一种ALD双腔腔体快拆结构


[0001]本技术涉及一种ALD双腔腔体的结构改进，特别涉及一种ALD双腔腔体快拆结构。

技术介绍

[0002]原子层沉积，ALD是一种适合于研制最新的和前沿性的产品的薄膜制备技术。原子层沉积ALD也是一种用于纳米技术研究的有效方法。典型的原子层沉积应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。
[0003]原子层沉积测试是从设计走向量产的必不可少的环节，目前现有技术中对于ALD工艺的测试设备一般采用双腔体结构，包括外腔腔体和内腔腔体，在外腔腔体内壁设有电热丝，内腔腔体内摆放有测试材料，在对原子层沉积测试进行中外腔腔体保持负压并进行加热，内腔腔体内通入多种反应气体，对内腔腔体中摆放的测试材料表面上形成纳米薄膜，但长时间的测试过程中反应气体会与原子层沉积设备的内腔体的内壁和各气路也形成纳米薄膜层。
[0004]由于测试设备中通入的气体多样化，所以内腔结构中已有的薄膜层材料会影响到下一次的实验，当测试设备进行长时间的多样化测试后需要进行内腔的清洗和更换，否则难以保证原子层沉积测试的效果稳定性。
[0005]现有技术中的内腔结构，采用焊接和一体式结构设计比较多，这导致了对于内腔结构的更换，操作非常复杂，大大提高了设备的养护成本。

技术实现思路

[0006]针对
技术介绍
中提到的问题，本技术的目的是提供一种ALD双腔腔体快拆结构，可以实现在反应气体接触的部分快速维修更换，保证实验稳定性。
[0007]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种ALD双腔腔体快拆结构，包括外腔壳体、等离子发生器、进气管、排气管和内腔壳体；所述等离子发生器安装在外腔壳体顶部，并与内腔壳体连通，所述进气管通过匀气装置一与内腔壳体连通，所述内腔壳体通过排气管与外部连通，其特征在于，还包括上部接头和锥形进气管，所述上部接头穿过外腔壳体的顶部并与等离子发生器连通，所述锥形进气管位于内腔壳体中并与上部接头可拆式连接，还包括快速连接件，所述快速连接件将锥形进气管和匀气装置一与内腔壳体可拆式连接，所述进气管通过快拆接头与匀气装置一可拆式连接。
[0008]作为优选，所述快速连接件为螺栓，螺栓依次通过锥形进气管底部并穿过匀气装置一后与内腔壳体顶部螺接。
[0009]作为优选，所述的匀气装置一包括匀气盘和匀气环，所述匀气环位于匀气盘内部，匀气盘与进气管连通，匀气环上设有均匀排列的气孔，所述匀气环与匀气盘可拆式连接。
[0010]作为优选，所述的匀气盘和匀气环均为多片弧形片拼装形成。
[0011]作为优选，所述匀气装置一的数量可以为多个。
[0012]作为优选，所述内腔壳体底部可拆式连接有匀气装置二，排气管与匀气装置二可拆式连接。
[0013]作为优选，所述匀气装置一和匀气装置二的结构相同。
[0014]综上所述，本技术主要具有以下有益效果：本技术通过对外腔壳体内部的各个部件的结构设计以及连接关系的处理，从而实现了在外腔壳体内的所有部件近乎全部可拆，并且拆卸的方式非常方便，由于气相沉积实验中内腔壳体与反应气体接触部分形成镀膜的现象是无法克服的，所以实现快速拆卸更换可以大大的保证原子层沉积的沉积效果和稳定性。
附图说明
[0015]图1为本技术的结构示意图；
[0016]图2为本技术的局部放大示意图；
[0017]图3为本技术的匀气装置一的结构示意图。
[0018]附图标记：1、外腔壳体；2、等离子发生器；3、进气管；4、排气管；5、内腔壳体；6、匀气装置一；7、上部接头；8、锥形进气管；9、快速连接件；10、匀气盘；11、匀气环；12、匀气装置二；13、弧形片。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]本技术的ALD双腔腔体快拆结构，包括外腔壳体1、等离子发生器2、进气管3、排气管4和内腔壳体5；由于进气管3的数量比较多，所以一般采用软管结构，可进一步降低布局要求，排气管4安装在外腔壳体1的底部且与外腔壳体1可拆式连接所述等离子发生器2安装在外腔壳体1顶部并与内腔壳体5连通，所述进气管3通过匀气装置一6与内腔壳体5连通，匀气装置一6位于内腔壳体5的上方，所述内腔壳体5通过排气管4与外部连通，排气管4与内腔壳体5的底部连通，为了实现内腔壳体5的所有与反应气体接触的地方在外腔壳体1的内部就可以完成拆卸，无需对外腔壳体1进行其他拆装，所以增设有上部接头7和锥形进气管8，所述上部接头7穿过外腔壳体1的顶部并与等离子发生器2连通，所述锥形进气管8位于内腔壳体5中并与上部接头7可拆式连接，等离子发生器2对气体进行等离子激发后，通过上部接头7进入锥形进气管8，由于采用锥形结构激发后的气体可以均匀布散，当气体向内腔壳体5进行输送时会经过匀气装置一6，匀气装置一6可以为多个，每一个匀气装置一6对应连接一个进气管3用于通入一种反应气体，当所有反应气体在内腔壳体5中混合反应后，会向内腔壳体5中的基材表面形成镀膜，还包括快速连接件9，所述快速连接件9将锥形进气管8和匀气装置一6与内腔壳体5可拆式连接，所述进气管3通过快拆接头与匀气装置一6可拆式连接；所述快速连接件9为螺栓也可以为夹爪或卡接件，若采用螺栓结构，则螺栓依次通过锥形进气管8底部并穿过匀气装置一6后与内腔壳体5顶部螺接；当长期的原子层沉积测试后，在进气管3、内腔壳体5，匀气装置一6内部都会形成镀膜，进而影响后续的原子层沉
积测试实验稳定性，所以会将外腔壳体1打开，将锥形进气管8从上部接头7上取下，上部接头7与锥形进气管8之间可以直接通过法兰螺接，匀气装置一6、内腔壳体5和锥形进气管8在未进行连接时是采用压紧式的配合方式，将快速连接件9拆下后，可以根据需要直接将多个匀气装置一6直接通过敲击的方式从相邻机构中抽离，从而完成在内腔壳体5中就将所有部件完成更换。
[0021]所述的匀气装置一6包括匀气盘10和匀气环11，所述匀气环11位于匀气盘10内部，匀气盘10与进气管3连通，匀气环11上设有均匀排列的气孔，所述匀气环11与匀气盘10可拆式连接；所述的匀气盘10和匀气环11均为多片弧形片13拼装形成；作为匀气环11的弧形片13上设有多个气孔，所述内腔壳体5底部可拆式连接有匀气装置二12，排气管4与匀气装置二12可拆式连接；所述匀气装置一6和匀气装置二12的结构相同。为进一步的便于匀气装置一6和匀气装置二12的装配，弧形片13可以分别拆装形成匀气盘10和匀气环11，从而大大的提高了拆卸安装的效率。
[0022]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种ALD双腔腔体快拆结构，包括外腔壳体(1)、等离子发生器(2)、进气管(3)、排气管(4)和内腔壳体(5)；所述等离子发生器(2)安装在外腔壳体(1)顶部，并与内腔壳体(5)连通，所述进气管(3)通过匀气装置一(6)与内腔壳体(5)连通，所述内腔壳体(5)通过排气管(4)与外部连通，其特征在于，还包括上部接头(7)和锥形进气管(8)，所述上部接头(7)穿过外腔壳体(1)的顶部并与等离子发生器(2)连通，所述锥形进气管(8)位于内腔壳体(5)中并与上部接头(7)可拆式连接，还包括快速连接件(9)，所述快速连接件(9)将锥形进气管(8)和匀气装置一(6)与内腔壳体(5)可拆式连接，所述进气管(3)通过快拆接头与匀气装置一(6)可拆式连接。2.如权利要求1所述的ALD双腔腔体快拆结构，其特征在于，所述快速连接件(9)为螺栓，螺栓依次通过锥形进气管(8)底部并穿过匀气装置一(6)后...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐涛，左雪芹，
申请(专利权)人：江苏迈纳德微纳技术有限公司，
类型：新型
国别省市：