一种多晶硅杂质检测设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种多晶硅杂质检测设备，包括试验箱，所述试验箱的侧壁上固定连接有设备箱，所述设备箱的侧壁上开设有散热孔，所述试验箱远离设备箱的侧壁上转动连接有防护门，所述防护门的外侧壁位置处固定连接有显示器，所述防护门靠近显示器底端位置处的外侧壁上固定连接有控制面板，所述试验箱的内部开设有槽口一。本实用新型专利技术通过设置有试验、防护层一和防护层二，试验箱为钢铁材质具有防辐射性能，防护层一为复合铅板，固定连接在试验箱的内侧壁上，有良好的防辐射效果，防护层二为防辐射塑料，防护层二固定连接在防护层二的内侧壁上，有防辐射效果，表面光滑，便于箱体内部的清洁，通过三种材料的复合，提高了防护箱防辐射的效果。辐射的效果。辐射的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种多晶硅杂质检测设备


[0001]本技术涉及检测
，具体为一种多晶硅杂质检测设备。

技术介绍

[0002]多晶硅，是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时，硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核，如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒，则这些晶粒结合起来，就结晶成多晶硅，多晶硅有灰色金属光泽，熔点为1410℃，沸点为2355℃。溶于氢氟酸和硝酸的混酸中，不溶于水、硝酸和盐酸。硬度介于锗和石英之间，室温下质脆，切割时易碎裂。加热至800℃以上即有延性，1300℃时显出明显变形。常温下不活泼，高温下与氧、氮、硫等反应。高温熔融状态下，具有较大的化学活泼性，几乎能与任何材料作用。具有半导体性质，是极为重要的优良半导体材料，但微量的杂质即可大大影响其导电性。电子工业中广泛用于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、录像机、电子计算机等的基础材料。由干燥硅粉与干燥氯化氢气体在一定条件下氯化，再经冷凝、精馏、还原而得。
[0003]多晶硅杂质检测设备包括有检测箱，内置X射线发射器用来发射X射线，X射线是一种波长很短的电磁波，能穿透一定厚度的物质，并能使荧光物质发光、照相乳胶感光、气体电离。在用高能电子束轰击金属“靶”材产生X射线，它具有与靶中元素相对应的特定波长，称为特征(或标识)X射线。当一束X射线通过晶体时将发生衍射，衍射波叠加的结果使射线的强度在某些方向上加强，在其他方向上减弱。分析在照相底片上得到的衍射花样，便可确定晶体结构和内部杂质的含量。
[0004]多晶硅杂质检测设备在运行时会发射X射线，X射线具有穿透性和辐射性，X射线可能穿透检测设备，对操作人员造成辐射，从而引起操作人员体内生物大分子及水分子的电离和激发反应，产生有害效应，影响人体的身体健康。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种多晶硅杂质检测设备，以解决上述
技术介绍
中提出多晶硅杂质检测设备在运行时会发射X射线，X射线具有穿透性和辐射性，X射线可能穿透检测设备，对操作人员造成辐射，从而引起操作人员体内生物大分子及水分子的电离和激发反应，产生有害效应，影响人体的身体健康的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种多晶硅杂质检测设备，包括试验箱，所述试验箱的侧壁上固定连接有设备箱，所述设备箱的侧壁上开设有散热孔，所述试验箱远离设备箱的侧壁上转动连接有防护门，所述防护门的外侧壁位置处固定连接有显示器，所述防护门靠近显示器底端位置处的外侧壁上固定连接有控制面板，所述试验箱的内部开设有槽口一，所述试验箱的内底端固定连接有托盘，诉述试验箱的内顶端固定连接有放射组件，所述防护门靠近试验箱的侧壁上设置有插接组件一，所述插接组件一包括有固定连接在防护门侧壁上的固定块一，所述试验箱靠近固定块一的侧壁上设置有插接组件二，所述插接组件二包括有固定连接在试验箱侧壁上的固定块二。
[0007]优选的，所述试验箱的内侧壁上固定连接有防护层一，所述防护层一远离试验箱的内侧壁上固定连接有防护层二。
[0008]通过采用上述技术方案，提高了防护箱的防护效果
[0009]优选的，所述防护门的内侧壁上固定连接有卡槽，所述卡槽呈“回”字形布置。
[0010]通过采用上述技术方案，便于卡接密封圈。
[0011]优选的，所述卡槽的靠近防护门的侧壁位置处卡接有密封圈，密封圈为防辐射橡胶材质，所述卡槽的剖面呈“L”型。
[0012]通过采用上述技术方案，提高了防护门关闭时的密封性和防辐射性能。
[0013]优选的，所述固定块一靠近固定块二的侧壁上固定连接有插接杆一，所述插接杆一的顶端开设有孔槽。
[0014]通过采用上述技术方案，便于插接杆一的固定限位。
[0015]优选的，所述固定块二的内部开设有插接槽，所述插接槽的内部插接有插接杆二，所述插接杆二的顶端固定连接有端帽，所述插接杆二的外表面固定连接有挡板，所述插接杆二靠近挡板顶端的外表面缠绕有弹簧。
[0016]通过采用上述技术方案，提高了防护门关闭时的稳定性。
[0017]优选的，所述插接槽呈“凸”字型，所述插接槽的内部尺寸大于插接杆一的外部尺寸，所述插接杆二与孔槽的尺寸相匹配。
[0018]通过采用上述技术方案，便于插接杆一和插接杆二的插接和限位。
[0019]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0020](1)通过设置有试验、防护层一和防护层二，试验箱为钢铁材质具有防辐射性能，防护层一为复合铅板，固定连接在试验箱的内侧壁上，有良好的防辐射效果，防护层二为防辐射塑料，防护层二固定连接在防护层二的内侧壁上，有防辐射效果，表面光滑，便于箱体内部的清洁，通过三种材料的复合，提高了防护箱防辐射的效果；
[0021](2)通过设置有防护门、卡槽和密封圈，防护门的材质与试验箱材质相同均能够防辐射，卡槽呈“L”型方便卡接密封圈，密封圈为防辐射橡胶材质，具有良好的弹性和防辐射性能能够提高防护门关闭时的密封性减少辐射外漏；
[0022](3)通过设置有插接组件一和插接组件二，插接组件一包括插接杆一和孔槽，插接杆插接在插接槽的内部，通过插接杆二插接在孔槽内实现对插接杆一的限位提高了防护门封闭的稳定性。
附图说明
[0023]图1为本技术的正视立体结构示意图；
[0024]图2为本技术的试验箱剖视结构示意图；
[0025]图3为本技术的防护门后视结构示意图；
[0026]图4为本技术的卡槽剖视结构示意图；
[0027]图5为本技术的图1中A处放大结构示意图；
[0028]图6为本技术的插接组件剖视结构示意图。
[0029]图中：1、试验箱；2、设备箱；3、散热孔；4、防护门；5、显示器；6、控制面板；7、槽口一；8、防护层一；9、防护层二；10、托盘；11、放射组件；12、卡槽；13、密封圈；14、插接组件一；
1401、固定块一；1402、插接杆一；1403、孔槽；15、插接组件二；1501、固定块二；1502、插接槽；1503、插接杆二；1504、端帽；1505、挡板；1506、弹簧。
具体实施方式
[0030]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0031]请参阅图1
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6，本技术提供的一种实施例：一种多晶硅杂质检测设备，包括试验箱1，试验箱1的侧壁上固定连接有设备箱2，设备箱2的侧壁上开设有散热孔3，试验箱1远离设备箱2的侧壁上转动连接有防护门4，防护门4的外侧壁位置处固定连接有显示器5，防护门4靠近显示器5底端位置处的外侧壁上固定连接有控制面板6，防护门4的内侧壁上固定连接有卡槽12，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多晶硅杂质检测设备，包括试验箱(1)，其特征在于：所述试验箱(1)的侧壁上固定连接有设备箱(2)，所述设备箱(2)的侧壁上开设有散热孔(3)，所述试验箱(1)远离设备箱(2)的侧壁上转动连接有防护门(4)，所述防护门(4)的外侧壁位置处固定连接有显示器(5)，所述防护门(4)靠近显示器(5)底端位置处的外侧壁上固定连接有控制面板(6)，所述试验箱(1)的内部开设有槽口一(7)，所述试验箱(1)的内底端固定连接有托盘(10)，所述试验箱(1)的内顶端固定连接有放射组件(11)，所述防护门(4)靠近试验箱(1)的侧壁上设置有插接组件一(14)，所述插接组件一(14)包括有固定连接在防护门(4)侧壁上的固定块一(1401)，所述试验箱(1)靠近固定块一(1401)的侧壁上设置有插接组件二(15)，所述插接组件二(15)包括有固定连接在试验箱(1)侧壁上的固定块二(1501)。2.根据权利要求1所述的一种多晶硅杂质检测设备，其特征在于：所述试验箱(1)的内侧壁上固定连接有防护层一(8)，所述防护层一(8)远离试验箱(1)的内侧壁上固定连接有防护层二(9)。3.根据权利要求1所述的一种多晶硅杂质检测设备，其特征在于：所述防护门(4)的内侧壁上...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓云，王乐刚，马艳红，
申请(专利权)人：扬州嘉辉新能源有限公司，
类型：新型
国别省市：