研磨分液装置和研磨设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种研磨分液装置和研磨设备，涉及晶片研磨技术领域，该研磨分液装置包括分液头、分液盘和研磨液管，分液头设置在分液盘的上方，研磨液管连接于分液盘的底侧，分液盘上设置有分液环槽，分液环槽内设置有多个分液孔洞，每个分液孔洞均贯通至分液盘的底侧，并连接有研磨液管，每个分液孔洞的至少两侧设置有延伸至分液孔洞边缘的导向斜面，导向斜面由分液孔洞的边缘朝向远离分液孔洞中心的方向延伸，导向斜面用于将研磨液引导至分液孔洞。通过在相邻的两个分液孔洞之间设置导向斜面，能够将残留在分液孔洞之间的研磨液以引导至分液孔洞，从而避免研磨液在分液槽中沉积、残留，提升研磨液的流动性。提升研磨液的流动性。提升研磨液的流动性。

【技术实现步骤摘要】
研磨分液装置和研磨设备


[0001]本技术涉及晶片研磨
，具体而言，涉及一种研磨分液装置和研磨设备。

技术介绍

[0002]碳化硅晶体在切割成片后，需要对晶片通过研磨盘进行研磨动作，研磨时需要向研磨盘供给研磨液，目前的研磨液，直接送入分液槽后通过分液槽送入下方的研磨液管，研磨液管再连接至研磨盘。分液槽上开设有孔洞供研磨液流动，然而，由于分液槽底壁通常为平面结构，容易造成研磨液残留，或者造成研磨液中固体物质沉积在孔洞之间的区域，不利于研磨液的流通。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种.研磨分液装置和研磨设备，其能够避免研磨液在分液槽中沉积、残留，提升研磨液的流动性。
[0004]本技术的实施例是这样实现的：
[0005]第一方面，本技术提供.一种研磨分液装置，包括分液头、分液盘和研磨液管，所述分液头设置在所述分液盘的上方，所述研磨液管连接于所述分液盘的底侧，所述分液盘上设置有分液环槽，所述分液环槽内设置有多个分液孔洞，每个所述分液孔洞均贯通至所述分液盘的底侧，并连接有所述研磨液管，所述分液头用于向所述分液环槽输送研磨液，且每个所述分液孔洞的至少两侧设置有延伸至所述分液孔洞边缘的导向斜面，所述导向斜面由所述分液孔洞的边缘朝向远离所述分液孔洞中心的方向延伸，所述导向斜面用于将研磨液引导至所述分液孔洞。
[0006]在可选的实施方式中，相邻两个所述分液孔洞之间设置有凸块，所述凸块延伸至所述分液环槽的侧壁，且所述凸块的两侧具有所述导向斜面。
[0007]在可选的实施方式中，位于同一所述凸块上的两个所述导向斜面相互接合。
[0008]在可选的实施方式中，每个所述导向斜面为平面结构，且每个所述凸块的截面呈三角形。
[0009]在可选的实施方式中，相邻两个所述导向斜面之间的夹角在15
°‑
60
°
之间。
[0010]在可选的实施方式中，所述每个所述导向斜面为外凸弧面或内凹弧面。
[0011]在可选的实施方式中，所述凸块的顶端设置有过渡弧面，所述过渡弧面延伸至所述分液环槽的侧壁，且所述过渡弧面的两侧边缘分别接合于所述导向斜面。
[0012]在可选的实施方式中，所述研磨分液装置还包括多个添加管，多个所述添加管设置在所述分液盘周围，并用于与多个所述分液孔洞对应设置，用于向所述分液环槽中注入添加剂。
[0013]在可选的实施方式中，每个所述分液孔洞的底端嵌设有接管头，所述接管头向下伸出所述分液盘，所述研磨液管套接在所述接管头上。
[0014]第二方面，本技术提供一种研磨设备，包括研磨盘和如前述实施方式任一项所述的研磨分液装置，所述研磨液管连接至所述研磨盘。
[0015]本技术实施例的有益效果包括：
[0016]本技术实施例提供了一种研磨分液装置和研磨设备，在分液盘上设置分液环槽，利用分液头将研磨液供给至分液环槽，然后在分液环槽中设置多个分液孔洞，通过分液孔洞将研磨液供给至下方的研磨液管，其中分液孔洞的至少两侧设置有导向斜面，该导向斜面呈外扩状，用于将研磨液引导至分液孔洞。通过在相邻的两个分液孔洞之间设置导向斜面，能够将残留在分液孔洞之间的研磨液以引导至分液孔洞，从而避免研磨液大量残留在分液环槽中。相较于现有技术，本技术提供的研磨分液装置，通过设置导向斜面，能够避免研磨液在分液槽中沉积、残留，提升研磨液的流动性。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0018]图1为本技术第一实施例提供的研磨分液装置的结构示意图；
[0019]图2为图1中A
‑
A处的局部剖面结构示意图；
[0020]图3为图1中B
‑
B处的局部剖面结构示意图；
[0021]图4为本技术第二实施例中分液环槽内部的局部剖面结构示意图。
[0022]图标:
[0023]100
‑
研磨分液装置；110
‑
分液头；130
‑
分液盘；131
‑
分液环槽；133
‑
分液孔洞；150
‑
研磨液管；151
‑
接管头；170
‑
导向斜面；171
‑
凸块；173
‑
过渡弧面；190
‑
添加管。
具体实施方式
[0024]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0025]因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0026]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0027]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和
操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0028]此外，术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。
[0029]在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0030]正如
技术介绍
中所公开的，现有技术中分液槽中开设的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种研磨分液装置，其特征在于，包括分液头(110)、分液盘(130)和研磨液管(150)，所述分液头(110)设置在所述分液盘(130)的上方，所述研磨液管(150)连接于所述分液盘(130)的底侧，所述分液盘(130)上设置有分液环槽(131)，所述分液环槽(131)内设置有多个分液孔洞(133)，每个所述分液孔洞(133)均贯通至所述分液盘(130)的底侧，并连接有所述研磨液管(150)，所述分液头(110)用于向所述分液环槽(131)输送研磨液，且每个所述分液孔洞(133)的至少两侧设置有延伸至所述分液孔洞(133)边缘的导向斜面(170)，所述导向斜面(170)由所述分液孔洞(133)的边缘朝向远离所述分液孔洞(133)中心的方向延伸，所述导向斜面(170)用于将研磨液引导至所述分液孔洞(133)。2.根据权利要求1所述的研磨分液装置，其特征在于，相邻两个所述分液孔洞(133)之间设置有凸块(171)，所述凸块(171)延伸至所述分液环槽(131)的侧壁，且所述凸块(171)的两侧具有所述导向斜面(170)。3.根据权利要求2所述的研磨分液装置，其特征在于，位于同一所述凸块(171)上的两个所述导向斜面(170)相互接合。4.根据权利要求3所述的研磨分液装置，其特征在于，每个所述导向斜面(170)为平面结构，且每...

【专利技术属性】
技术研发人员：林义复，林育仪，张炜国，徐晨，余明轩，田涵文，
申请(专利权)人：通威微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：