掩膜版、涂胶方法及显示面板技术

本申请实施例提供的一种掩膜版、涂胶方法及显示面板，涉及显示技术领域，用于解决现有技术中有机胶的坡度角较大的问题。所述掩膜版包括遮挡部，所述遮挡部的边缘具有多个凸起，所述凸起沿第一方向延伸，所述第一方向为从所述遮挡部到远离所述遮挡部的方向。本申请通过在掩膜版的边缘设置多个凸起，可以在待涂胶基层上的有机胶图案边缘形成有机胶凸条，利用有机胶凸条自身的流平性，使得有机胶凸条间的无胶区域被周边的有机胶填充，从而可以减少最终形成的有机胶的边界与有机胶的中部的厚度差，进而可以有效地降低有机胶边界的坡度角。进而可以有效地降低有机胶边界的坡度角。进而可以有效地降低有机胶边界的坡度角。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版、涂胶方法及显示面板


[0001]本申请涉及显示
，具体而言，涉及一种掩膜版、涂胶方法及显示面板。

技术介绍

[0002]显示面板工艺制作过程中，在有机胶边界处会形成坡度角，坡度角会直接影响后续有机胶表面所覆盖膜层的成膜质量，更直接影响坡度角处后续膜层的应力情况。
[0003]现有技术中，通过采用调试工艺设备参数的方式来管控有机胶的坡度角大小，但是采用该方式减小有机胶的坡度角的效果不够好，从而影响产品的质量。

技术实现思路

[0004]为了克服上述技术背景中所提及的技术问题，本申请实施例提供了一种掩膜版，所述掩膜版包括遮挡部，沿所述遮挡部的周向，所述遮挡部的边缘设置有多个凸起，所述凸起沿第一方向延伸，所述第一方向为从所述遮挡部到远离所述遮挡部的方向。
[0005]在一种可能的实现方式中，所述凸起为条状结构；
[0006]优选地，所述凸起在待涂胶基层上的正投影形状呈长方形。
[0007]在一种可能的实现方式中，所述凸起在所述待涂胶基层上的正投影的宽度为0.5μm
‑
5μm，和/或，所述凸起在所述待涂胶基层上的正投影的长度为5μm
‑
15μm，和/或，相邻两个所述凸起在所述待涂胶基层上的正投影间的间距为0.5μm
‑
5μm。
[0008]在一种可能的实现方式中，多个所述凸起均匀设置在所述遮挡部的边缘上。
[0009]在一种可能的实现方式中，所述凸起靠近所述遮挡部的一端在待涂胶基层上的正投影的宽度小于所述凸起远离所述遮挡部的一端在所述待涂胶基层上的正投影的宽度；
[0010]优选地，所述凸起靠近所述遮挡部的一端到所述凸起远离所述遮挡部的一端在所述待涂胶基层上的正投影的宽度逐渐递增。
[0011]在一种可能的实现方式中，所述凸起上具有至少一个缓平梁，所述缓平梁沿第二方向延伸，所述第二方向与所述第一方向间具有夹角；
[0012]优选地，所述夹角为直角。
[0013]在一种可能的实现方式中，所述缓平梁在待涂胶基层上的正投影呈长方形；
[0014]优选地，沿从靠近所述遮挡部到远离所述遮挡部的方向，所述缓平梁在所述第二方向的延伸长度逐渐递增；
[0015]优选地，沿从靠近所述遮挡部到远离所述遮挡部的方向，相邻两个所述缓平梁在所述第一方向的间距逐渐递减。
[0016]在一种可能的实现方式中，所述缓平梁靠近所述遮挡部的一端在待涂胶基层上的正投影的宽度小于所述缓平梁远离所述遮挡部的一端在所述待涂胶基层上的正投影的宽度；
[0017]优选地，所述缓平梁靠近所述遮挡部的一端到所述缓平梁远离所述遮挡部的一端在所述待涂胶基层上的正投影的宽度逐渐递增。
[0018]在一种可能的实现方式中，本申请还提供了一种涂胶方法，所述方法包括：
[0019]提供一待涂胶基层；
[0020]在所述待涂胶基层的涂胶面上涂一层有机胶；
[0021]基于本申请中所述的掩膜版，采用曝光、显影工艺在所述待涂胶基层上形成光刻图案；
[0022]清除所述待涂胶基层上未形成光刻图案的有机胶；
[0023]将清除未形成光刻图案的有机胶后的所述待涂胶基层烘干，以完成在所述待涂胶基层上的涂胶工艺。
[0024]在一种可能的实现方式中，本申请还提供了一种显示面板，通过本申请中所述的掩膜版制备。
[0025]相对于现有技术而言，本申请具有以下有益效果：
[0026]本申请提供的一种掩膜版、涂胶方法及显示面板，通过在掩膜版的边缘设置多个凸起，可以在待涂胶基层上的有机胶图案边缘形成有机胶凸条，利用有机胶凸条自身的流平性，使得有机胶凸条间的无胶区域被周边的有机胶填充，从而可以减少最终形成的有机胶的边界与有机胶的中部的厚度差，进而可以有效地降低有机胶边界的坡度角。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0028]图1为本实施例提供的现有技术中掩膜版的俯视示意图；
[0029]图2为本实施例提供的通过现有技术中的掩膜版形成的有机胶的剖视示意图；
[0030]图3为本实施例提供的第一种掩膜版的俯视示意图；
[0031]图4为本实施例提供的通过第一种掩膜版形成的流平之前的光刻图案的示意图；
[0032]图5为本实施例提供的第二种掩膜版的俯视示意图；
[0033]图6为本实施例提供的第三种掩膜版的俯视示意图；
[0034]图7为本实施例提供的通过第三种掩膜版形成的流平之前的光刻图案的示意图；
[0035]图8为本实施例提供的第四种掩膜版的俯视示意图；
[0036]图9为本实施例提供的一种涂胶方法的流程示意图。
[0037]附图标记：1、掩膜版；11、遮挡部；12、凸起；13、缓平梁；2、坡度角；3、待涂胶基层；31、有机胶凸条；32、有机胶图案；33、无胶区域；34、缓平凸条。
具体实施方式
[0038]为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0039]因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护
的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0040]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0041]在本申请的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0042]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例中的不同特征之间可以相互结合。
[0043]请参见图1，目前在待涂胶基层上涂胶使用的掩膜版1包括遮挡部11，在所述待涂胶基层(如玻璃基板)上涂上一层有机胶层后，通过该掩膜版1在所述有机胶层上形成有机胶图案，并将除有机胶图案之外的有机胶清除，即可完成在所述待涂胶基层上涂胶。请参见图2，由于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括遮挡部，沿所述遮挡部的周向，在所述遮挡部的边缘设置有多个凸起，所述凸起沿第一方向延伸，所述第一方向为从所述遮挡部到远离所述遮挡部的方向。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述凸起为条状结构；优选地，所述凸起在待涂胶基层上的正投影形状呈长方形。3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述凸起在所述待涂胶基层上的正投影的宽度为0.5μm
‑
5μm，和/或，所述凸起在所述待涂胶基层上的正投影的长度为5μm
‑
15μm，和/或，相邻两个所述凸起在所述待涂胶基层上的正投影间的间距为0.5μm
‑
5μm。4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，多个所述凸起均匀设置在所述遮挡部的边缘上。5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述凸起靠近所述遮挡部的一端在待涂胶基层上的正投影的宽度小于所述凸起远离所述遮挡部的一端在所述待涂胶基层上的正投影的宽度；优选地，所述凸起靠近所述遮挡部的一端到所述凸起远离所述遮挡部的一端在所述待涂胶基层上的正投影的宽度逐渐递增。6.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述凸起上具有至少一个缓平梁，所述缓平梁沿第二方向延伸，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕兰芬，张金方，张露，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：