一种曝光图案形成的方法技术

本发明专利技术揭示一种曝光图案形成的方法，其包含：提供一基板；形成一光阻层于所述基板上；将一具有图案的光罩置于光阻层的上方并对准一相对应位置以进行至少二次曝光，其中至少一次曝光是移动此具有图案的光罩对准另一相对应位置；提供至少一滤光片以进行至少一次曝光，所述滤光片是设置于所述具有图案的光罩上方或下方；以及进行显影以移除部分的光阻层以形成不同维度的图案结构于基板上。本发明专利技术可有效地缩减制程步骤以降低制程时间，更因为节省光罩成本之故，有效地降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种微影制程(Lithography Process)，特别是关于一种利用滤光 片进行至少一次曝光以形成不同维度或尺寸图案的微影制程。
技术介绍
微影制程对于多种电子组件的制作而言是为一重要的制程步骤，例如半导体组 件、液晶显示器等。微影制程一般是利用光线透过具有预先设计图案的光罩，照射至涂布光 阻层的基板上，使对应于光罩上图案的位置的光阻层被曝光，再将基板浸入显影液中，移除 未曝光的光阻层以形成与光罩上图案相对应的图案，或是移除被曝光的光阻层来形成，是 以所使用的光阻材质来决定。以上述的微影制程所制造的图案于基板上时，由于光阻层于曝光时的环境相同， 则在基板上所形成的图案亦具有相同的维度或尺寸。然，有些电子组件的结构被设计为需 要不同维度或尺寸的图案结构，因此，于此类电子组件的制程中，则需要依照不同维度的图 案进行多次微影制程步骤。举例而言，当电子组件具有两种不同维度的图案结构的时候， 则制程步骤就需进行两次微影制程步骤，是包含于一基板上先旋转涂布一厚度的光阻层， 接着，将具有图案的光罩对准放置于对应的光阻层的位置上方后进行曝光，其后，进行显影 (Development)及硬烤(Post-bake)步骤后在基板上会形成第一种维度的图案。完成了第 一种维度的图案的微影制程之后，才接着进行第二种维度的图案的微影制程，步骤是为于 具有第一种维度的图案的基板上旋转涂布另一厚度的光阻层，接着，再将光罩对准放置于 对应于此另一光阻层的位置上方后进行曝光，其后，在进行显影及硬烤步骤后，则此基板上 就会包含第一种维度的图案及第二种维度的图案的结构于其中。然而，由上述的制程中可轻易发现制作第一种维度及第二种维度的图案的微影制 程的步骤重复性相当地高，且由于进行了多次的微影制程步骤之故，不但需要很长的制作 时间，亦会导致具有此种结构的组件的生产成本相对高昂。因此，为了解决上述的问题，便发展出利用灰阶光罩(Multi Tone Mask)来减少微 影制程的步骤。灰阶光罩是为一种具有不同种穿透率的图案区域形成在同一光罩中。请 参阅图1，是显示使用一灰阶光罩进行一次微影制程的示意图，其中灰阶光罩100中具有第 一百分比透光率的图案区域101以及第二百分比透光率的图案区域103。例如，若第一百分 比透光率的透光率为100%，第二百分比透光率的透光率为x%时，于微影制程的过程中，藉 由此灰阶光罩100实行曝光的步骤时，则灰阶光罩100中具有100%透光率的图案区域101 的部分，光线会百分的百穿透过去，而具有x%透光率的图案区域103的部分，则仅X%的光 线穿透过去。由于所照射的光线强度不同的缘故，涂布于基板110上方的光阻层会因为光 反应的程度不同，而于显影步骤之后则会产生出不同尺寸的图案结构，如图中所示的大尺 寸图案111和小尺寸图案113。因此，当需要制造出多种不同尺寸的结构时，只需于灰阶光 罩中设计出相对应的不同透光率的图案区域，则可仅使用一次微影制程来制造出具有多种 不同尺寸的图案结构于基板上。3此外，可参阅台湾省专利公告案第1245160号，为应用灰阶技术制作导 光板模板的方法，其中揭露利用一灰阶光罩进行微影制程，于去除部分光阻层则可于导光 板表面上形成复数个高度不一的光阻图案，再进行热流(flow)制程使各光阻图案表面呈 现为平滑的球形镜面。亦可参阅台湾省专利公告案第1309089号，为主动组件数 组基板的制造方法，其中揭露利用多重穿透式光罩(灰阶光罩的一种)于薄膜晶体管数组 基板上制造闸极、信道层、源极、汲极、保护层以及画素电极等组件可有效地将原本需要五 次微影制程缩减至仅需三次微影制程即可完成来降低制程时间及制造成本。再者，亦可参 阅台湾省专利公开案第200907560号，为曝光制程、画素结构的制造方法及其使 用的半调式光罩，其中提及由于在大面积玻璃基板进行微影制程时，会因为曝光不均勻所 导致光阻图案尺寸不均勻的问题发生，因此，揭露利用半调式光罩(灰阶光罩的一种)进行 微影制程则无须修改制程条件即可制造出均勻尺寸的光阻图案。如上所述，可得知灰阶光 罩已渐渐广泛地被使用于微影制程中。然而，由于灰阶光罩需要在用以形成不同维度或尺寸的图案区域的部分制成具有 不同透光率，因此，灰阶光罩制造价格非常昂贵，通常比一般光罩高出2 3倍的价钱。也因 此，虽然使用灰阶光罩可以减少由于多次微影制程所导致的生产成本，但，因为灰阶光罩本 身的价格高昂之故，对于降低生产成本的效果仍然相当有限。因此，亟需一种可以有效缩短制造时间亦可有效的降低生产成本的微影制程应用 于基板上以形成具有不同维度图案的光阻结构。
技术实现思路
本专利技术的目的是为提供一种利用一般光罩即可制造不同维度或尺寸图案的微影 制程，并缩短制造时间及生产成本。本专利技术的另一目的是为提供一种无需使用灰阶光罩即可制造不同维度(或尺寸) 图案的微影制程，用以解决灰阶光罩价格昂贵所增加生产成本的问题。为达上述的目的，本专利技术是提供，其包含提供一基板； 形成一光阻层于基板上；将一具有图案的光罩置于光阻层的上方并对准一相对应位置以 进行至少二次曝光，其中至少一次曝光是移动此具有图案的光罩对准另一相对应位置；提 供至少一滤光片以进行至少一次曝光，其中此滤光片设置于所述具有图案的光罩上方或下 方；以及进行显影以移除部分的光阻以形成不同维度或尺寸的图案结构于基板上。本专利技术更提供一种彩色滤光片曝光的方法，是包含提供一彩色滤光片；形成一 光阻层于彩色滤光片上；将一具有图案的光罩至于光阻层上方并对准一相对应位置以进行 至少二次曝光，其中至少一次曝光是移动光罩对准另一相对应位置；至少一滤光片以进行 至少一次曝光，其中此滤光片设置一滤光片于所述具有图案的光罩上方或下方；以及进行 显影以移除部分的光阻层以形成不同维度或尺寸的复数个光阻间隙子结构及复数个多域 垂直配向结构于彩色滤光片上。于本专利技术的一些实施例中，此滤光片是具有一透光率，其是小于真空；且，此透光 率是依据不同维度或尺寸的图案结构来决定。于本专利技术的另一些实施例中，此滤光片是包 含为氧化镁基板或氧化铬基板。此外，于本专利技术的一些实施例中，光阻层的材质是可依据不 同需求使用负光阻材质或正光阻材质。因此，本专利技术的优点为利用本专利技术所揭露的利用滤光片进行曝光以形成不同维度 或尺寸图案的方法是可有效地缩减制程步骤以降低制程时间，更因为节省光罩成本之故， 有效地降低了生产成本。这些优点可从以下较佳实施例的叙述并伴随后附图式及申请专利范围将使读者 得以清楚了解本专利技术。附图说明图1是显示使用灰阶光罩进行微影制程的示意图。图2是显示本专利技术的曝光图案形成的方法流程图。图3Α )是显示本专利技术的曝光图案形成的方法示意图。图4是显示本专利技术的彩色滤光片曝光的方法流程图。图5A飞是显示本专利技术的彩色滤光片曝光的方法示意图。主要组件符号说明100灰阶光罩101具有100%透光率之的图案区域 103 具有X%透光率之的图案区域110基板111大尺寸图案 113 小尺寸图案 21 提供一基板23形成光阻层于基板上25 将具有图案之的光罩置于光阻层上方并对准一相对应位置以进行至少二次曝光， 其中至少一次曝光系是移动此具有图案之的光罩对准另一相对应位置27 至少一滤光片以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光图案形成的方法，其特征在于包含：提供一基板；形成一光阻层于该基板上；将一具有图案的光罩置于该光阻层的上方并对准一相对应位置以进行至少二次曝光，其中至少一次曝光是移动该具有图案的光罩对准另一相对应位置；提供至少一滤光片以进行至少一次曝光，其中该滤光片设置于该具有图案的光罩上方或下方；以及进行显影以移除部分的该光阻层以形成不同维度的图案结构于该基板上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：谢文仁，庄英鸿，汤逢锦，
申请(专利权)人：福州华映视讯有限公司，中华映管股份有限公司，
类型：发明
国别省市：35