一种抗弹陶瓷拼接单元及抗弹陶瓷板制造技术

本发明专利技术公开了一种抗弹陶瓷拼接单元，并公开了具有抗弹陶瓷拼接单元的抗弹陶瓷板，其中一种抗弹陶瓷拼接单元包括本体，其特征在于，本体包括第一拼接部，第一拼接部呈斜四棱柱形，第一拼接部具有相互平行的第一平面和第二平面、以及连接第一平面和第二平面的第一斜面，一个本体的第一斜面用于与另一个本体拼接，本发明专利技术的一种抗弹陶瓷拼接单元能够提高拼接缝部位的抗弹性能。接缝部位的抗弹性能。接缝部位的抗弹性能。

【技术实现步骤摘要】
一种抗弹陶瓷拼接单元及抗弹陶瓷板


[0001]本专利技术涉及防护装备的
，特别涉及一种抗弹陶瓷拼接单元及抗弹陶瓷板。

技术介绍

[0002]传统陶瓷复合装甲中起到主体抗弹作用的材料为各种厚度、各种材质的抗弹陶瓷，大量抗弹陶瓷拼接单元通过拼接的方式实现不同面积陶瓷复合装甲的制备。
[0003]然而，现有的抗弹陶瓷拼接单元拼接后的拼接缝部位的抗弹性能差。

技术实现思路

[0004]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种抗弹陶瓷拼接单元，能够提高拼接缝部位的抗弹性能。
[0005]本专利技术还提出一种具有上述抗弹陶瓷拼接单元的抗弹陶瓷板。
[0006]根据本专利技术的第一方面实施例的一种抗弹陶瓷拼接单元，包括本体，其特征在于，所述本体包括第一拼接部，所述第一拼接部呈斜四棱柱形，所述第一拼接部具有相互平行的第一平面和第二平面、以及连接所述第一平面和所述第二平面的第一斜面，一个所述本体的所述第一斜面用于与另一个所述本体拼接。
[0007]根据本专利技术实施例的一种抗弹陶瓷拼接单元，至少具有如下有益效果：
[0008]1.本专利技术通过在本体设置第一拼接部，第一拼接部呈斜四棱柱形，第一拼接部具有相互平行的第一平面和第二平面、以及连接第一平面和第二平面的第一斜面，一个本体的第一斜面用于与另一个本体拼接，使得抗弹陶瓷拼接单元拼接后的拼接缝与第一平面和第二平面相对倾斜，可以理解的是，当弹丸沿垂直第一平面的方向进入拼接缝时，弹丸的行进方向与第一斜面不平行，一方面，本体参与破碎的陶瓷多，破碎吸能效果更好，另一方面，弹丸接触第一斜面后，弹丸的行进会受到第一斜面的阻碍，使得弹丸的行进方向被第一斜面致偏，从而，第一斜面能够改变弹丸的行进轨迹，消耗弹丸的动能，进而，提高拼接缝部位的抗弹性能。
[0009]根据本专利技术的一些实施例，所述第一斜面与所述第一平面的夹角设置为45
°‑
75
°
。
[0010]有益的是：通过将第一斜面与第一平面的夹角设置为45
°‑
75
°
，从而，使得第一斜面对弹丸的致偏效果更好，进而，更好地消耗弹丸的动能，提高拼接缝部位的抗弹性能。
[0011]根据本专利技术的一些实施例，所述本体还包括第二拼接部，所述第二拼接部呈直四棱柱形，所述第二拼接部与所述第一平面接合。
[0012]有益的是：通过在本体设置第二拼接部，第二拼接部呈直四棱柱形，第二拼接部与第一平面接合，可以理解的是，一个本体的第二拼接部用于与另一个本体的第二拼接部拼接，从而，一方面，两个本体的第二拼接部能够相互限位，使得两个本体的拼接更紧密，另一方面，避免第一拼接部的尖角边缘形成本体的边缘，减小本体边缘因尖角结构单薄而破裂的风险。
[0013]根据本专利技术的一些实施例，所述第一拼接部的横截面和所述第二拼接部的横截面的形状和大小一致。
[0014]有益的是：通过使第一拼接部的横截面和第二拼接部的横截面的形状和大小一致，从而，使得多个本体能够更紧密地拼接。
[0015]根据本专利技术的一些实施例，所述第一平面与所述第二拼接部完全重合。
[0016]有益的是：通过使第一平面与第二拼接部完全重合，从而，使得第一拼接部和第二拼接部过渡平滑。
[0017]根据本专利技术的一些实施例，所述第二拼接部的高度设置为1
‑
3mm。
[0018]有益的是：通过将第二拼接部的高度设置为1
‑
3mm，从而，避免第一拼接部的尖角边缘形成本体的边缘，减小本体边缘因尖角结构单薄而破裂的风险。
[0019]根据本专利技术的一些实施例，所述本体还包括第三拼接部，所述第三拼接部呈直四棱柱形，所述第三拼接部与所述第二平面接合。
[0020]有益的是：通过在本体设置第三拼接部，第三拼接部呈直四棱柱形，第三拼接部与第二平面接合，从而，可以理解的是，一个本体的第三拼接部用于与另一个本体的第三拼接部拼合，从而，一方面，两个本体的第三拼接部相互限位，使得两个本体的拼接更加紧密，另一方面，避免第一拼接部的尖角边缘形成本体的边缘，减小本体边缘因尖角结构单薄而破裂的风险。
[0021]根据本专利技术的一些实施例，所述第一拼接部的横截面、所述第二拼接部的横截面和所述第三拼接部的横截面的形状和大小一致。
[0022]有益的是：通过使第一拼接部的横截面、第二拼接部的横截面和第三拼接部的横截面的形状和大小一致，从而，使得多个本体能够更紧密地拼接。
[0023]根据本专利技术的一些实施例，所述第一平面与所述第二拼接部完全重合，所述第二平面与所述第三拼接部完全重合。
[0024]有益的是：通过使第一平面与第二拼接部完全重合，第二平面与第三拼接部完全重合，从而，使得第一拼接部和第二拼接部过渡平滑，第一拼接部和第三拼接部过渡平滑。
[0025]根据本专利技术的一些实施例，所述本体的材料为氧化物陶瓷、碳化物陶瓷、氮化物陶瓷、硼化物陶瓷中的一种。
[0026]有益的是：通过将本体的材料设置为氧化物陶瓷、碳化物陶瓷、氮化物陶瓷、硼化物陶瓷中的一种，从而，方便本体采用整体烧结成型工艺，使得本体设计简单，易于加工制备。
[0027]根据本专利技术的第二方面实施例的一种抗弹陶瓷板，其包括如本专利技术第一方面所述的抗弹陶瓷拼接单元。
[0028]根据本专利技术实施例的一种抗弹陶瓷板，至少具有如下有益效果：
[0029]1.本专利技术通过在抗弹陶瓷拼接单元设置第一拼接部，第一拼接部呈斜四棱柱形，第一拼接部具有相互平行的第一平面和第二平面、以及连接第一平面和第二平面的第一斜面，一个本体的第一斜面用于与另一个本体拼接，使得抗弹陶瓷拼接单元拼接后的拼接缝与第一平面和第二平面相对倾斜，可以理解的是，当弹丸沿垂直第一平面的方向进入拼接缝时，弹丸的行进方向与第一斜面不平行，一方面，本体参与破碎的陶瓷多，破碎吸能效果更好，另一方面，弹丸接触第一斜面后，弹丸的行进会受到第一斜面的阻碍，使得弹丸的行
进方向被第一斜面致偏，从而，第一斜面能够改变弹丸的行进轨迹，消耗弹丸的动能，进而，提高拼接缝部位的抗弹性能。
[0030]本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。
附图说明
[0031]本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0032]图1为本专利技术实施例的一种抗弹陶瓷拼接单元的结构示意图；
[0033]图2为图1示出的两个抗弹陶瓷拼接单元拼接后的结构示意图；
[0034]图3为图1示出的四个抗弹陶瓷拼接单元拼接后的结构示意图。
[0035]附图标记：100
‑
第一拼接部、110
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第一平面、120
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第二平面、130
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第一斜面、140
‑
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抗弹陶瓷拼接单元，包括本体，其特征在于，所述本体包括第一拼接部(100)，所述第一拼接部(100)呈斜四棱柱形，所述第一拼接部(100)具有相互平行的第一平面(110)和第二平面(120)、以及连接所述第一平面(110)和所述第二平面(120)的第一斜面(130)，一个所述本体的所述第一斜面(130)用于与另一个所述本体拼接。2.根据权利要求1所述的一种抗弹陶瓷拼接单元，其特征在于，所述第一斜面(130)与所述第一平面(110)的夹角设置为45
°‑
75
°
。3.根据权利要求1所述的一种抗弹陶瓷拼接单元，其特征在于，所述本体还包括第二拼接部(140)，所述第二拼接部(140)呈直四棱柱形，所述第二拼接部(140)与所述第一平面(110)接合。4.根据权利要求3所述的一种抗弹陶瓷拼接单元，其特征在于，所述第一拼接部(100)的横截面和所述第二拼接部(140)的横截面的形状和大小...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱增余，
申请(专利权)人：广东亚新非金属材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：