一种涂层面密度的检测方法、涂布装置及涂布生产线制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种涂层面密度的检测方法、涂布装置及涂布生产线，所述检测方法包括如下步骤：S1，获得浆料的体积流量Q和浆料的密度ρ；S2，获得涂布时的涂布速度V和涂层宽度L；S3，根据所述浆料的体积流量Q、浆料的密度ρ、涂布速度V和涂层宽度L计算平均湿膜涂层面密度M

【技术实现步骤摘要】
一种涂层面密度的检测方法、涂布装置及涂布生产线


[0001]本申请属于极片涂布
，尤其涉及一种涂层面密度的检测方法、计算机可读存储介质、涂布装置及涂布生产线。

技术介绍

[0002]在锂电池制造过程中，在涂布工序中需要监控涂层的面密度。现有技术的面密度测量装置通常设置在涂布工序的尾部，即涂层烤干以后再测量涂层的面密度。但是锂电池的正极和负极烤干后会出现涂层干燥开裂的问题，而在充放电循环中，涂层干燥裂痕会增加锂离子迁移路径导致析锂，进而导致短路失效。
[0003]现有技术中，通常烘烤后的涂层保留部分溶剂，以解决涂层干裂的问题。但是在测量涂层面密度时，测量系统会把这部分未挥发出去的溶剂误判为涂层面密度，最终导致涂层面密度测量值相比真实值(即干涂层重量)偏大。由于无法确定有多少溶剂没有蒸发出去，因此现有技术中面密度测量装置无法准确测量涂层的真实面密度。
[0004]所以有必要对涂层面密度的检测方法进行改进。

技术实现思路

[0005]本申请实施例的目的是提供一种涂层面密度的检测方法、计算机可读存储介质、涂布装置及涂布生产线。
[0006]根据本申请实施例的第一个方面，提供了一种涂层面密度的检测方法，所述检测方法包括如下步骤：
[0007]S1，获得浆料的体积流量Q和浆料的密度ρ；
[0008]S2，获得涂布时的涂布速度V和涂层宽度L；
[0009]S3，根据所述浆料的体积流量Q、浆料的密度ρ、涂布速度V和涂层宽度L计算平均湿膜涂层面密度M
ave
；
[0010]S4，获取浆料固含量α；
[0011]S5，根据所述平均湿膜涂层面密度M
ave
和浆料固含量α计算平均干膜涂层面密度m
ave
。
[0012]可选地，在所述S3中，通过如下公式计算平均湿膜涂层面密度M
ave
：
[0013][0014]可选地，在所述S5中，通过如下公式计算平均干膜涂层面密度m
ave
：
[0015]m
ave
＝M
ave
·
α。
[0016]可选地，所述检测方法还包括如下步骤：
[0017]S6，获取涂层厚度百分比t，通过如下公式计算干膜涂层面密度m：
[0018]m＝t*m
ave
。
[0019]可选地，在所述S6中，设定一个测量周期，获取每一个所述测量周期在涂层宽度方
向的涂层厚度分布T
i
＝f
i
(x)，，根据一个测量周期内的不同位置的涂层厚度分布计算涂层的平均厚度
[0020]其中，T
i
为第i次所述测量周期的涂层厚度，f
i
为第i次所述测量周期内的涂层厚度分布，x为涂层宽度方向的位置；
[0021]通过如下公式计算涂层宽度方向不同位置的涂层厚度百分比t：
[0022][0023]其中，为一个测量周期内的不同位置的涂层的平均厚度。
[0024]根据本申请实施例的第二个方面，提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序在被处理器执行时实现上述的检测方法。
[0025]根据本申请实施例的第三个方面，提供了一种涂布装置，用以实现上述的涂层面密度的检测方法，所述涂布装置包括：
[0026]第一涂布机构，设置在所述第一涂布机构上游的密度检测机构和体积流量检测机构，设置在所述第一涂布机构下游的测速机构和第一测宽机构；
[0027]所述密度检测机构用于检测浆料的密度，所述体积流量检测机构用于检测浆料的体积流量，所述浆料固含量检测机构用于检测浆料固含量，所述测速机构用于检测涂布速度，所述第一测宽机构用于检测涂层宽度；
[0028]计算模块，所述计算模块分别与所述密度检测机构、所述体积流量检测机构、所述测速机构和所述第一测宽机构通讯连接；
[0029]所述计算模块用于接收浆料的密度、浆料的体积流量、浆料固含量、涂布速度和涂层宽度，并根据浆料的密度、浆料的体积流量、浆料固含量、涂布速度和涂层宽度计算涂层面密度。
[0030]可选地，所述涂布装置还包括供料机构，所述供料机构设置在所述第一涂布机构的上游，所述密度检测机构、所述体积流量检测机构和所述浆料固含量检测机构设置在所述供料机构和所述第一涂布机构之间。
[0031]可选地，所述涂布装置还包括第一厚度测量机构，所述第一厚度测量机构设置所述第一测宽机构下游，所述第一厚度测量机构用于检测涂布的厚度，所述第一厚度测量机构与所述计算模块通讯连接。
[0032]可选地，所述涂布装置还包括第二涂布机构、第二测宽机构和第二厚度测量机构，所述第二涂布机构设置在所述第一厚度测量机构的下游，所述第二厚度测量机构设置在所述第二涂布机构的下游，所述测宽机构设置在所述第二涂布机构和所述第二厚度测量机构之间，所述第二测宽机构和所述第二厚度测量机构分别与所述计算模块通讯连接。
[0033]可选地，所述涂布装置还包括烘箱，所述烘箱设置在所述第二厚度测量装置或者所述第一厚度测量装置的下游。
[0034]根据本申请实施例的第四个方面，提供了一种涂布生产线，所述涂布生产线安装有上述的涂布装置。
[0035]本申请实施例的一个技术效果在于，通过获得浆料的相关参数以及涂布的相关参数，计算干膜涂层的面密度，以实现烘烤之后的涂层即使含有溶剂，也能够得到真实的涂层
面密度，以实现对涂层面密度的监控要求。
[0036]通过以下参照附图对本申请的示例性实施例的详细描述，本申请的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
[0037]被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本申请的实施例，并且连同其说明一起用于解释本申请的原理。
[0038]图1为本申请的一个实施例的涂布装置的结构式示意图；
[0039]图2为本申请的实施例的第一厚度测量机构的结构式示意图；
[0040]图3为本申请的另一个实施例的涂布装置的结构式示意图。
[0041]附图标记说明：涂布装置100；供料机构1；密度检测机构2；浆料固含量检测机构3；体积流量检测机构4；第一涂布机构5；测速机构6；第一测宽机构7；第一厚度测量机构8；第一传感器81；第二传感器82；质量流量检测机构9，烘箱10。
具体实施方式
[0042]现在将参照附图来详细描述本申请的各种示例性实施例。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本申请的范围。
[0043]以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本申请及其应用或使用的任何限制。
[0044]对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂层面密度的检测方法，其特征在于，所述检测方法包括如下步骤：S1，获得浆料的体积流量Q和浆料的密度ρ；S2，获得涂布时的涂布速度V和涂层宽度L；S3，根据所述浆料的体积流量Q、浆料的密度ρ、涂布速度V和涂层宽度L计算平均湿膜涂层面密度M
ave
；S4，获取浆料固含量α；S5，根据所述平均湿膜涂层面密度M
ave
和浆料固含量α计算平均干膜涂层面密度m
ave
。2.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，在所述S3中，通过如下公式计算平均湿膜涂层面密度M
ave
：3.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，在所述S5中，通过如下公式计算平均干膜涂层面密度m
ave
：m
ave
＝M
ave
·
α。4.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述检测方法还包括如下步骤：S6，获取涂层厚度百分比t，通过如下公式计算干膜涂层面密度m：m＝t*m
ave
。5.根据权利要求4所述的检测方法，其特征在于，在所述S6中，设定一个测量周期，获取每一个所述测量周期在涂层宽度方向的涂层厚度分布T
i
＝f
i
(x)，根据一个测量周期内的不同位置的涂层厚度分布计算涂层的平均厚度其中，T
i
为第i次所述测量周期的涂层厚度，f
i
为第i次所述测量周期内的涂层厚度分布，x为涂层宽度方向的位置；通过如下公式计算涂层宽度方向不同位置的涂层厚度百分比t：其中，为一个测量周期内的不同位置的涂层的平均厚度。6.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序在被处理器执行时实现如权利要求1至5中任一项所述的检测方法。7.一种涂布装置，其特征在于，所述涂布装...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：上海先导慧能技术有限公司，
类型：发明
国别省市：