一种用于半自动研磨机循环水箱制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于半自动研磨机循环水箱，包括底板，所述底板的顶端安装有沉淀箱和冷却箱，所述沉淀箱的顶端与冷却箱之间通过溢流管连通，所述沉淀箱的内部设置有沉淀物收集盒，所述沉淀物收集盒的顶端设置有过滤网，所述沉淀箱的一侧安装有第一水泵。本实用新型专利技术通过沉淀箱和冷却箱来提高循环水箱的冷却效率的，使用时，高温并含有杂质的冷却水输送至沉淀箱中进行沉淀，使得杂质沉淀于沉淀箱的底部，过滤后的冷却水通过溢流管流动至冷却箱中进行冷却，本实用新型专利技术能够实现沉淀和冷却在不同的区域进行，从而避免杂质粘附在半导体制冷片表面，从而避免冷却效果下降，进而提高冷却效率。冷却效率。冷却效率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于半自动研磨机循环水箱


[0001]本技术涉及研磨机
，具体涉及一种用于半自动研磨机循环水箱。

技术介绍

[0002]研磨机是用涂上或嵌入磨料的研具对工件表面进行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、内外圆柱面、圆锥面、球面、螺纹面和其他型面。用于材料的单面研磨、抛光。在研磨机的使用过程中，冷却水箱是对研磨机起到散热的作用，是一个非常重要的组成部分。
[0003]然而，传统的研磨机的冷水水箱为单水箱，循环的冷却水中含有额度杂质会附着在冷却机构上，长久使用后会导致冷却机构表面粘附杂质，造成冷却效率下降，循环水的温度提高。
[0004]因此，如何提供一种用于半自动研磨机循环水箱，以解决现有技术所存在的问题，对其应用具有重要意义。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本申请的目的在于提供一种用于半自动研磨机循环水箱，以解决问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0007]一种用于半自动研磨机循环水箱，包括底板，所述底板的顶端安装有沉淀箱和冷却箱，所述沉淀箱的顶端与冷却箱之间通过溢流管连通，所述沉淀箱的内部设置有沉淀物收集盒，所述沉淀物收集盒的顶端设置有过滤网，所述沉淀箱的一侧安装有第一水泵，所述第一水泵的出水端与沉淀箱连接，所述沉淀物收集盒的一侧开设有进水口，所述第一水泵与进水口连接，所述冷却箱的内部安装有半导体制冷片，所述冷却箱的另一侧安装有第二水泵。
[0008]优选的，所述沉淀物收集盒的内部安装有多个挡板，所述挡板呈交错分布。
[0009]优选的，所述溢流管所处高度高于过滤网的高度，所述过滤网呈水平设置。
[0010]优选的，所述半导体制冷片包括制冷端和散热端，所述制冷端位于冷却箱的内部，所述散热端位于冷却箱的正面，所述散热端的外侧安装有散热风扇。
[0011]优选的，所述溢流管为透明材质，所述过滤网顶端的两侧设置有把手。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0013]本技术通过沉淀箱和冷却箱来提高循环水箱的冷却效率的，使用时，高温并含有杂质的冷却水输送至沉淀箱中进行沉淀，使得杂质沉淀于沉淀箱的底部，过滤后的冷却水通过溢流管流动至冷却箱中进行冷却，本技术能够实现沉淀和冷却在不同的区域进行，从而避免杂质粘附在半导体制冷片表面，从而避免冷却效果下降，进而提高冷却效率。
[0014]上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，从而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请的上述和其他目的、特征和优点能
够更明显易懂，以下以本申请的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
[0015]根据下文结合附图对本申请具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本申请的上述及其他目的、优点和特征。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
[0017]图1为本技术的结构示意图；
[0018]图2为本技术的剖视图。
[0019]图中：1、底板；2、第一水泵；3、沉淀箱；4、溢流管；5、冷却箱；6、半导体制冷片；7、第二水泵；8、散热风扇；9、进水口；10、沉淀物收集盒；11、挡板；12、过滤网。
具体实施方式
[0020]为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。在下面的描述中，提供诸如具体的配置和组件的特定细节仅仅是为了帮助全面理解本申请的实施例。因此，本领域技术人员应该清楚，可以对这里描述的实施例进行各种改变和修改而不脱离本申请的范围和精神。另外，为了清楚和简洁，实施例中省略了对已知功能和构造的描述。
[0021]此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身并不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。
[0022]本文中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，单独存在B，同时存在A和B三种情况，本文中术语“/和”是描述另一种关联对象关系，表示可以存在两种关系，例如，A/和B，可以表示：单独存在A，单独存在A和B两种情况，另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”关系。
[0023]还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含。
[0024]请参阅图1
‑
2，本专利技术提供了一种用于半自动研磨机循环水箱的技术方案；包括底板1，底板1的顶端安装有沉淀箱3和冷却箱5，沉淀箱3的顶端与冷却箱5之间通过溢流管4连通，沉淀箱3的内部设置有沉淀物收集盒10，沉淀物收集盒10的顶端设置有过滤网12，沉淀箱3的一侧安装有第一水泵2，第一水泵2的出水端与沉淀箱3连接，沉淀物收集盒10的一侧开设有进水口9，第一水泵2与进水口9连接，冷却箱5的内部安装有半导体制冷片6，冷却箱5的另一侧安装有第二水泵7。
[0025]在本实施方式中，高温并含有杂质的冷却水通过第一水泵2输送至沉淀箱3中进行沉淀，杂质沉淀于沉淀箱3的底部，过滤后的冷却水通过溢流管4流动至冷却箱5中，此时通过半导体制冷片6进行冷却，本技术能够实现沉淀和冷却在不同的区域进行，从而避免杂质粘附在半导体制冷片6表面，从而避免冷却效果下降，进而提高冷却效率。
[0026]沉淀物收集盒10的内部安装有多个挡板11，挡板11呈交错分布，通过设置交错设置的挡板来减缓冷却水的流速，同时避免第一水泵2进水的冲击力导致沉淀物与清液混合，从而提高沉淀效率。
[0027]溢流管4所处高度高于过滤网12的高度，过滤网12呈水平设置，沉淀后冷却水经过过滤网12的过滤后溢流至冷却箱5，并且过滤网12上置，避免过滤网12的堵塞。
[0028]半导体制冷片6包括制冷端和散热端，制冷端位于冷却箱5的内部，散热端位于冷却箱5的正面，散热端的外侧安装有散热风扇8，散热风扇8对散热端进行散热。
[0029]溢流管4为透明材质，方便观察冷却水的流动情况，过滤网12顶端的两侧设置有把手，方便将整个沉淀物收集盒10抽出，进行清洗。
[0030]具体使用时，高温并含有杂质的冷却水通过第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于半自动研磨机循环水箱，其特征在于：包括底板(1)，所述底板(1)的顶端安装有沉淀箱(3)和冷却箱(5)，所述沉淀箱(3)的顶端与冷却箱(5)之间通过溢流管(4)连通，所述沉淀箱(3)的内部设置有沉淀物收集盒(10)，所述沉淀物收集盒(10)的顶端设置有过滤网(12)，所述沉淀箱(3)的一侧安装有第一水泵(2)，所述第一水泵(2)的出水端与沉淀箱(3)连接，所述沉淀物收集盒(10)的一侧开设有进水口(9)，所述第一水泵(2)与进水口(9)连接，所述冷却箱(5)的内部安装有半导体制冷片(6)，所述冷却箱(5)的另一侧安装有第二水泵(7)。2.如权利要求1所述的一种用于半自动研磨机循环水...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨辰，陈燕芳，
申请(专利权)人：苏州杰乐辰电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：