一种无掩膜曝光方法及曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种无掩膜曝光方法及曝光装置，属于曝光技术领域。该方法通过识别曝光图档中的数据，当曝光图形存在很多纵向空白时，直接跳过这些空白，只进行有效图形的扫描曝光，从而有效节省扫描行程，提升产能，根据待曝光图形的复杂程度，能够提升产能10％～50％。50％。50％。

【技术实现步骤摘要】
一种无掩膜曝光方法及曝光装置


[0001]本专利技术涉及一种无掩膜曝光方法及曝光装置，属于曝光


技术介绍

[0002]众所周知，芯片制造就是按照芯片布图，在硅晶圆上逐层制作材料介质层的过程。材料介质层在硅晶圆上叠加在一起，就形成了整个芯片上，乃至整个硅晶圆上所有的电路元器件。
[0003]由此可知，芯片为多层图形叠加而成，制备过程中，需要对每层图形进行依次曝光，最终制备完成整个芯片；而针对每层图形的曝光过程，目前采用无掩模激光直写式光刻机完成，无掩模激光直写式光刻机的曝光方式为扫描式曝光，即预先将图形切割成多个横向排布的等高条带，再由光路从左向右依次曝光各个条带，从而实现全图曝光。
[0004]上述扫描式曝光过程，对于构成芯片的多层图形的曝光存在着效率低下的问题，主要是因为构成芯片的多层图形中每一层的有效图形面积并不相同，所谓有效图形指需要曝光的各个图形，例如MEMS(Micro
‑
electro mechanical Systems)产品，其结构层有效面积约为30％，布线层有效面积约为70％。这就导致图形切割后存在中空条带，也即不包含图形的条带，但扫描式曝光方式依然会跑满行程，浪费时间，导致产能低下。

技术实现思路

[0005]为了解决目前芯片制备过程中曝光产能低下的问题，本专利技术提供了一种无掩膜曝光方法及曝光装置，通过提供一种计算方法，有效识别中待曝光图形中的空条带，从而在扫描过程中直接跳过空条带，只对有效图形进行扫描曝光。
[0006]一种无掩膜曝光方法，所述方法包括：
[0007]获取待曝光图形进行条带划分后的结果，所述条带指光路沿Y方向曝光一个行程对应的范围；所述待曝光图形中包括有效图形和无效图形，其中有效图形包括一个及以上的实际要曝光图形；
[0008]判断各条带和待曝光图形是否存在交集；
[0009]对于与待曝光图形不存在交集的条带，曝光过程中直接跳过该条带。
[0010]可选的，所述判断各条带和待曝光图形是否存在交集，包括：
[0011]假设待曝光图形中有效图形包含m个实际要曝光图形，待曝光图形被划分为n个条带；
[0012]获取所述待曝光图形对应到X方向的区间范围，记为区间A；
[0013]获取m个实际要曝光图形对应到X方向的区间范围，记为区间B；
[0014]从区间A中去除所述区间B，得到空条带区间C；
[0015]获取各条带对应到X方向的区间范围；
[0016]判断各条带对应到X方向的区间范围与所述空条带区间C是否有交集；
[0017]若某条带对应到X方向的区间范围与所述空条带区间C有交集，则判定该条带和待
曝光图形存在交集；若某条带对应到X方向的区间范围与所述空条带区间C没有交集，则判定该条带和待曝光图形不存在交集。
[0018]可选的，所述方法还包括，所述区间B为各实际要曝光图形对应的区间范围的并集。
[0019]可选的，所述实际要曝光图形包括多边形、圆形、扇形、椭圆形以及其组合图形。
[0020]本申请还提供一种无掩膜曝光装置，所述装置为采用上述曝光方法的装置。
[0021]可选的，所述装置包括计算模块和曝光模块，所述计算模块用于计算得到曝光过程中需跳过条带的结果，以便所述曝光模块在进行曝光时跳过对应的条带。
[0022]本专利技术有益效果是：
[0023]本申请通过识别曝光图档中的数据，当曝光图形存在很多纵向空白时，直接跳过这些空白，只进行有效图形的扫描曝光，从而有效节省扫描行程，提升产能，根据待曝光图形的复杂程度，能够提升产能10％～50％。
附图说明
[0024]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0025]图1是本专利技术提供的无掩膜曝光方法流程图。
[0026]图2是本专利技术一个实施例中提供的待曝光的示例图。
[0027]图3是经过条带分割的待曝光示例图。
[0028]图4是标识出可跳过条带的待曝光示例图。
[0029]图5是标识出实际要曝光图形在一维方向上的范围后的待曝光示例图。
[0030]图6是标识出实际要曝光图形在一维方向上的范围和条带划分结果的待曝光示例图。
[0031]图7是标识出实际要曝光图形在一维方向上的范围和可跳过条带的待曝光示例图。
具体实施方式
[0032]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术实施方式作进一步地详细描述。
[0033]技术名词解释：
[0034]条带：光路纵向曝光一个行程，称为条带。横向排布多个条带的图形共同构成了完整图形。
[0035]实施例一：
[0036]本实施例提供一种无掩膜曝光方法，参见图1，所述方法包括：
[0037]步骤1，获取待曝光图形进行条带划分后的结果，所述条带指光路沿Y方向曝光一个行程对应的范围；所述待曝光图形中包括有效图形和无效图形，其中有效图形包含若干实际要曝光图形；
[0038]步骤2，判断各条带和待曝光图形是否存在交集；
[0039]假设待曝光图形中包含m个实际要曝光图形，m个实际要曝光图形即为有效图形，待曝光图形被划分为n个条带；实际要曝光图形包括多边形、圆形、扇形、椭圆形以及其组合图形。
[0040]假设待曝光图形中有效图形包含m个实际要曝光图形，待曝光图形被划分为n个条带；
[0041]获取所述待曝光图形对应到X方向的区间范围，记为区间A；
[0042]获取m个实际要曝光图形对应到X方向的区间范围，记为区间B；所述区间B为各图形对应的区间范围的并集；
[0043]从区间A中去除所述区间B，得到空条带区间C；
[0044]获取各条带对应到X方向的区间范围；
[0045]判断各条带对应到X方向的区间范围与所述空条带区间C是否有交集；
[0046]若某条带对应到X方向的区间范围与所述空条带区间C有交集，则判定该条带和待曝光图形存在交集；若某条带对应到X方向的区间范围与所述空条带区间C没有交集，则判定该条带和待曝光图形不存在交集。
[0047]步骤3，对于与待曝光图形和不存在交集的条带，曝光过程中直接跳过该条带。
[0048]实施例二：
[0049]本实施例提供一种无掩膜曝光方法，以图2所示的待曝光图形为例对该方法进行说明，所述方法包括：
[0050]步骤1，获取待曝光图形进行条带划分后的结果，所述条带指光路沿Y方向曝光一个行程对应的范围；所述待曝光图形中包括有效图形和无效图形，其中有效图形包括一个及以上的实际要曝光图形；
[0051]如图2所示，该待曝光图形中包含若干个待曝光的图案，称为有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种无掩膜曝光方法，其特征在于，所述方法包括：获取待曝光图形进行条带划分后的结果，所述条带指光路沿Y方向曝光一个行程对应的范围；所述待曝光图形中包括有效图形和无效图形，其中有效图形包括一个及以上的实际要曝光图形；判断各条带和待曝光图形是否存在交集；对于与待曝光图形不存在交集的条带，曝光过程中直接跳过该条带。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述判断各条带和待曝光图形是否存在交集，包括：假设待曝光图形中有效图形包含m个实际要曝光图形，待曝光图形被划分为n个条带；获取所述待曝光图形对应到X方向的区间范围，记为区间A；获取m个实际要曝光图形对应到X方向的区间范围，记为区间B；从区间A中去除所述区间B，得到空条带区间C；获取各条带对应到X方向的区间范围；判断各条带对应到X方向的区间范围与所述空条带区间C...

【专利技术属性】
技术研发人员：李显杰，钱文欢，袁征，钱聪，
申请(专利权)人：江苏影速集成电路装备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：