一种用于瓷砖坯料的铺料装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于瓷砖坯料的铺料装置，其包括铺料斗、出料口、调节装置，铺料斗的底端设置有出料口，铺料斗内容置有原料，铺料斗的一侧连接有调节装置；其特征在于：调节装置包括转动臂、支架、第一转轴、L型支架、调节体，转动臂的第一端通过第一转轴与固定支架相连接，固定支架与铺料斗的外侧壁相连接，固定支架上安装有第一电机，第一电机与第一转轴相连接，转动臂的与第一端相对的第二端连接有L型支架，L型支架的另一端连接有调节体。本发明专利技术能够调节铺料的分布宽度及分布均匀性。能够调节铺料的分布宽度及分布均匀性。能够调节铺料的分布宽度及分布均匀性。

【技术实现步骤摘要】
一种用于瓷砖坯料的铺料装置


[0001]本专利技术涉及瓷砖生产制造设备及制造工艺
，具体涉及一种用于瓷砖坯料的铺料装置。

技术介绍

[0002]现有的用于瓷砖坯料的铺料装置，其包括铺料斗、出料口、调节机构，铺料斗的底端设置有出料口，铺料斗内容置有原料，铺料斗的一侧连接有调节机构，调节机构用于调节出料口的宽度或出料口的流量。但现有的铺料装置仍然存在铺料的分布宽度及分布均匀性调节机构复杂、调节效果较差、无法同时兼备调节调节体与出料口底端之间调节间隙和封堵出料口的问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种用于瓷砖坯料的铺料装置，其通过调节装置的设计，使其同时具备两种效果：(1)第一种状态：调节体封堵出料口，此时调节体起到闭合阀的作用；(2)第二种状态：调节体位于出料口下方的落料铅垂线上，调节体与出料口底端之间具有调节间隙，此时调节体对原料的铺料具有调节作用，能够调节/增加铺料的分布宽度及分布均匀性。
[0004]为了实现上述目的，本专利技术采用的技术方案为：
[0005]一种用于瓷砖坯料的铺料装置，其包括铺料斗(1)、出料口(2)、调节装置(3)，铺料斗的底端设置有出料口，铺料斗内容置有原料(P)，铺料斗的一侧连接有调节装置；其特征在于：调节装置(3)包括转动臂(4)、支架(5)、第一转轴(6)、L型支架(7)、调节体(8)，转动臂的第一端通过第一转轴与固定支架相连接，固定支架与铺料斗的外侧壁相连接，固定支架上安装有第一电机，第一电机与第一转轴相连接，转动臂的与第一端相对的第二端连接有L型支架，L型支架的另一端连接有调节体。
[0006]进一步地，在第一电机的驱动下，转动臂(4)可相对于铺料斗(1)的中轴线转动角度a，使得调节体(8)与出料口(2)之间具有三种状态；其中，第一种状态：调节体封堵出料口，此时调节体起到闭合阀的作用；第二种状态：调节体位于出料口下方的铺料铅垂线上，调节体与出料口底端之间具有调节间隙，该调节间隙由转动臂(4)的转动角度决定，此时调节体对原料的铺料具有调节作用；第三种状态：调节体不位于出料口下方的铺料铅垂线上，此时调节体对原料的铺料不具有调节作用。
[0007]进一步地，所述L型支架(7)上安装有第二电机(10)、第二转轴(11)，调节体(8)的两端分别设置有第二转轴，一个第二转轴与第二电机相连接。
[0008]进一步地，所述调节体(8)上开设有通孔(9)，在第二种状态时，通过第二电机(10)驱动调节体转动使得通孔的中轴线与出料口(2)的中轴线大体上平行，或者通过第二电机驱动调节体转动使得通孔的中轴线与出料口的中轴线之间具有一锐角夹角，原料(P)经过通孔后落下。
[0009]进一步地，在第一种状态时，通过第二电机(10)驱动调节体转动使得通孔(9)的中轴线与出料口(2)的中轴线大体上垂直，此时调节体封堵出料口。
[0010]进一步地，所述调节体(8)大体上呈圆柱体形结构，调节体的外周面上可设置有多个阵列式微凹槽
[0011]进一步地，所述通孔(9)为一个沿调节体(8)的轴向延伸设置的长通槽，或者通孔为多个沿调节体的轴向间隔设置的多个通槽的组合。
[0012]进一步地，该锐角夹角≤45
°
，或者该锐角夹角≤30
°
。
[0013]进一步地，还包括控制系统，控制系统基于铺料斗(1)的移动速度或铺料斗下方的铺料模具的移动速度控制第一电机、第二电机(10)的转动角度。
[0014]本专利技术的一种用于瓷砖坯料的铺料装置，其通过调节装置的设计，使其同时具备两种效果：(1)第一种状态：调节体封堵出料口，此时调节体起到闭合阀的作用；(2)第二种状态：调节体位于出料口下方的落料铅垂线上，调节体与出料口底端之间具有调节间隙，此时调节体对原料的铺料具有调节作用，能够调节/增加铺料的分布宽度及分布均匀性。
附图说明
[0015]图1为本专利技术用于瓷砖坯料的铺料装置结构示意图；
[0016]图2为本专利技术用于瓷砖坯料的铺料装置局部结构示意图；
[0017]图3为本专利技术用于瓷砖坯料的铺料装置局部结构示意图；
[0018]图4为本专利技术用于瓷砖坯料的铺料装置局部结构示意图。
[0019]图中：铺料斗1、出料口2、调节装置3、转动臂4、固定支架5、第一转轴6、L型支架7、调节体8、通孔/通槽9、第二电机10、第二转轴11、原料P。
具体实施方式
[0020]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0021]下面结合附图对本专利技术作进一步详细说明。
[0022]如图1
‑
4所示，一种用于瓷砖坯料的铺料装置，其包括铺料斗1、出料口2、调节装置3，铺料斗1的底端设置有出料口2，铺料斗1内容置有原料P，铺料斗1的一侧连接有调节装置3；其特征在于：调节装置3包括转动臂4、支架5、第一转轴6、L型支架7、调节体8，转动臂4的第一端通过第一转轴6与固定支架5相连接，固定支架5与铺料斗1的外侧壁相连接(固定连接)，固定支架5上安装有第一电机(未示出)，第一电机与第一转轴6相连接，转动臂4的与第一端相对的第二端连接有L型支架7，L型支架7的另一端连接有调节体8。
[0023]在第一电机的驱动下，转动臂4可相对于铺料斗1的中轴线(铅垂线)转动角度a(角度a可根据设计需要而定)，相应的，使得调节体8与出料口2之间具有三种状态。具体地，第一种状态：调节体8封堵出料口2，此时调节体8起到闭合阀的作用(如图3所示)；第二种状态：调节体8位于出料口2下方的落料/铺料铅垂线上，调节体8与出料口2底端之间具有调节间隙G(如图2所示)，该调节间隙G由转动臂4或调节体8的转动角度a决定，此时调节体8对原
料P的铺料具有调节作用，能够调节/增加铺料的分布宽度及分布均匀性；第三种状态：调节体8不位于出料口2下方的落料/铺料铅垂线上，此时调节体8对原料P的铺料不具有调节作用，此时与现有技术的铺料斗具有相同的铺料效果。
[0024]本专利技术的一种用于瓷砖坯料的铺料装置，其通过调节装置3的设计，使其同时具备两种效果：(1)第一种状态：调节体8封堵出料口2，此时调节体8起到闭合阀的作用(如图3所示)；(2)第二种状态：调节体8位于出料口2下方的落料铅垂线上，调节体8与出料口2底端之间具有调节间隙G(如图2所示)，此时调节体8对原料P的铺料具有调节作用，能够调节/增加铺料的分布宽度及分布均匀性。
[0025]进一步地，L型支架7上安装有第二电机10、第二转轴11，调节体8的两端分别设置有第二转轴11，一个第二转轴11与第二电机10相连接。在第二电机10的驱动下本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于瓷砖坯料的铺料装置，其包括铺料斗(1)、出料口(2)、调节装置(3)，铺料斗的底端设置有出料口，铺料斗内容置有原料(P)，铺料斗的一侧连接有调节装置；其特征在于：调节装置(3)包括转动臂(4)、支架(5)、第一转轴(6)、L型支架(7)、调节体(8)，转动臂的第一端通过第一转轴与固定支架相连接，固定支架与铺料斗的外侧壁相连接，固定支架上安装有第一电机，第一电机与第一转轴相连接，转动臂的与第一端相对的第二端连接有L型支架，L型支架的另一端连接有调节体。2.如权利要求1所述的一种用于瓷砖坯料的铺料装置，其特征在于，在第一电机的驱动下，转动臂(4)可相对于铺料斗(1)的中轴线转动角度a，使得调节体(8)与出料口(2)之间具有三种状态；其中，第一种状态：调节体封堵出料口，此时调节体起到闭合阀的作用；第二种状态：调节体位于出料口下方的铺料铅垂线上，调节体与出料口底端之间具有调节间隙，该调节间隙由转动臂(4)的转动角度决定，此时调节体对原料的铺料具有调节作用；第三种状态：调节体不位于出料口下方的铺料铅垂线上，此时调节体对原料的铺料不具有调节作用。3.如权利要求2所述的一种用于瓷砖坯料的铺料装置，其特征在于，所述L型支架(7)上安装有第二电机(10)、第二转轴(11)，调节体(8)的两端分别设置有第二转轴，一个第二转轴与第二电...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈前，沈海军，陈易，
申请(专利权)人：江西斯米克陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：