一种金属表面等离子处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种金属表面等离子处理装置，包括罩箱、承料机构、提料组件和等离子发生器，罩箱具有一处理腔，承料机构包括环带和衬板，环带通过支撑辊组配置在处理腔内，支撑辊组连接有驱动组件，使环带承载金属件在处理腔内移动，移动的金属件在环带末端下落，并沿衬板滑动至环带首端下方，提料组件用于将金属件从环带首端下方提升至环带上，并使金属件每次以不同的状态位于环带上，等离子发生器安装在处理腔内，等离子发生器用于连续生成等离子体并向下弥漫与环带上的金属件接触；本发明专利技术实现可对较小的金属件进行大批量表面等离子体处理，来改变较小金属件的表面性能。来改变较小金属件的表面性能。来改变较小金属件的表面性能。

【技术实现步骤摘要】
一种金属表面等离子处理装置


[0001]本专利技术涉及金属表面处理
，具体为一种金属表面等离子处理装置。

技术介绍

[0002]随着工业技术的发展，产品制造所需的材料品种种类越来越多，对各项性能方面的要求也是日趋提升，金属材料便是其中之一，金属材料在日常生活、机械制造、航天航海、交通能源、石油化工以及生物医学等众多行业和领域内的应用比重都很大，在应用至不同领域时对金属表所具有的性能有不同的要求。
[0003]金属材料的表面处理方法有机械加工处理、化学处理以及等离子体处理，等离子体对金属材料表面改性处理是通过对金属材料表面进行加工，能过清洁金属表面的污染物，并形成涂覆层和扩散层，来改变金属材料的表面性能。
[0004]目前通过等离子处理的金属物件如片材、管状或者条状的材料，可见，被处理金属件均具有表面较大的特点，以使，能够充分接触到等离子体，而面对一些不规则较小的金属件，单个处理成本过大，显然不能广泛应用，而在大量处理时，面临着这些金属件不规则面较多，且易相互堆叠造成遮蔽的问题，从而导致难以适用，针对上述问题，本专利技术提出能够解决上述问题的一种金属表面等离子处理装置。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种金属表面等离子处理装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种金属表面等离子处理装置，包括：
[0007]罩箱，具有一处理腔；
[0008]承料机构，包括环带和衬板，所述环带通过支撑辊组配置在处理腔内，所述支撑辊组连接有驱动组件，使环带承载金属件在处理腔内移动，移动的金属件在环带末端下落，并沿衬板滑动至环带首端下方；
[0009]提料组件，用于将金属件从环带首端下方提升至环带上，并使金属件每次以不同的状态位于环带上；
[0010]等离子发生器，安装在处理腔内，所述等离子发生器用于连续生成等离子体并向下弥漫与环带上的金属件接触。
[0011]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述环带两侧分别设置有竖向延伸的边沿。
[0012]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述环带表面设置多个凸棱，所述环带承载金属件时通过凸棱局部接触件，使接触件与环带形成间隙。
[0013]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述环带在每相邻的两个凸棱之间均开设有多个通孔，所述环带中心处设置挡板，挡板上设置有两个凹陷的弧部，两个弧部相近的一端设置有宽度逐渐缩减的垄起部，所述垄起部与等离子发生器的等离子体射口竖直对应，使部
分等离子体穿过通孔后从垄起部两侧分别沿弧部回流，回流的等离子体再次穿过通孔从间隙处接触金属件。
[0014]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述驱动组件包括第一转动源，所述第一转动源与支撑辊组传动连接。
[0015]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述衬板上开设有排杂有多个排杂孔，且所述衬板上分布若干刷条，所述刷条为柔性材质制成，所述刷条可接触金属件，将污染物受等离子体分解形成的形成杂质刷下并通过排杂孔排出。
[0016]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述提料组件包括位于衬板较低一端的托板，所述托板一端设置有轴柱，所述轴柱上缠绕有托带，所述托带与衬板连接，且所述轴柱上设置有扭簧，所述托板一侧转动设置有活动杆，所述活动杆倾斜向上延伸固接有套体，所述套体连接第二转动源，所述第二转动源驱动套体正向、反向转动，托板向下运动收卷托带与衬板形成可通过金属件的过渡段，托板向上运动抽拉托带形成可阻挡金属件的连接段。
[0017]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述套体连接有臂杆，所述臂杆上设置有推条，所述套体带动臂杆往复枢转，使推条将堆叠在一起的金属件在环带上推开。
[0018]作为本专利技术一种优选的技术方案，所述衬板与罩箱内壁相铰接，且所述衬板上活动设置有伸缩杆，所述伸缩杆与罩箱内壁铰接，所述伸缩杆上缠绕有弹簧，所述托板向上运动抽拉托带至最长时可带动衬板向上转动，所述托板向下运动时可带动衬板向下转动复位。
[0019]本专利技术还提供一种金属表面等离子处理方法，具体包括以下步骤：
[0020]S1、将若干金属件平铺放置在环带上；
[0021]S2、驱动组件通过支撑辊组使环带承载金属件在处理腔内移动，等离子发生器连续生成等离子体并向下弥漫与环带上的金属件接触进行表面处理；
[0022]S3、移动的金属件在环带末端下落，沿衬板滑动至环带首端下方，通过提料组件金属件从环带首端下方提升至环带上，使金属件以不同的状态位于环带，在处理腔内循环运动接触等离子体。
[0023]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术一种金属表面等离子处理装置，通过设置的罩箱、承料机构、提料组件和等离子发生器，环带承载金属件在处理腔内移动，移动的金属件在环带末端下落，并沿衬板滑动至环带首端下方，提料组件将金属件从环带首端下方提升至环带上，并使金属件每次以不同的状态位于环带上，金属件往复以不同的放置状态在环带上放置接触等离子体，实现可对较小的金属件进行大批量表面等离子体处理，来改变较小金属件的表面性能；
[0024]通过设置在环带表面设置的多个凸棱可使金属件与环带形成间隙，等离子发生器产生的等离子体在向下弥漫时，部分未与金属件接触的等离子体可通过环带上开设的通孔进入环带的中间的位置，并沿垄起部两侧通过弧部回流再次通过通孔进入间隙内达到接触金属件的效果，等离子体可接触到金属件底部的不规则面进行表面处理；
[0025]套体带动臂杆往复枢转，使推条将堆叠在一起的金属件在环带上推开，来避免金属件在环带上堆叠，有效增大金属件可与等离子体的接触的表面；
[0026]提料过程中，使处在衬板上的金属件可在衬板的上下运动过程中沿衬板多次移动，一是使金属件在衬板的运动后改变其本身状态，以此，来实现经过提料的金属件可以各
种不同状态下落在环带上，二是使金属件在运动过程中可与刷条往复接触，提高刷条对金属件残留上杂质刷除效果，使金属件在后续进行表面处理时得到较佳的表面性能。
附图说明
[0027]图1为本专利技术整体结构示意图；
[0028]图2为本专利技术罩箱内部结构示意图；
[0029]图3为本专利技术环带位于处理腔内示意图；
[0030]图4为本专利技术凸棱与通孔在环带上分布示意图；
[0031]图5为本专利技术挡板结构示意图；
[0032]图6为本专利技术提料组件结构示意图；
[0033]图7为本专利技术托板与衬板连接关系示意图；
[0034]图8为本专利技术衬板与环带位置关系示意图；
[0035]图中：100、罩箱；110、进料口；200、环带；201、凸棱；202、通孔；210、支撑辊组；220、第一转动源；230、边沿；240、挡板；241、弧部；242、垄起部；300、衬板；301、排杂孔；302、刷条；310、伸缩杆；311、弹簧；400、提料组件；410、托板；420、轴柱；421、托带；430、活动杆；440、套体；本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种金属表面等离子处理装置，其特征在于，包括：罩箱，具有一处理腔；承料机构，包括环带和衬板，所述环带通过支撑辊组配置在处理腔内，所述支撑辊组连接有驱动组件，使环带承载金属件在处理腔内移动，移动的金属件在环带末端下落，并沿衬板滑动至环带首端下方；提料组件，用于将金属件从环带首端下方提升至环带上，并使金属件每次以不同的状态位于环带上；等离子发生器，安装在处理腔内，所述等离子发生器用于连续生成等离子体并向下弥漫与环带上的金属件接触。2.根据权利要求1所述的一种金属表面等离子处理装置，其特征在于，所述环带两侧分别设置有竖向延伸的边沿。3.根据权利要求1所述的一种金属表面等离子处理装置，其特征在于，所述环带表面设置多个凸棱，所述环带承载金属件时通过凸棱局部接触件，使接触件与环带形成间隙。4.根据权利要求3所述的一种金属表面等离子处理装置，其特征在于，所述环带在每相邻的两个凸棱之间均开设有多个通孔，所述环带中心处设置挡板，挡板上设置有两个凹陷的弧部，两个弧部相近的一端设置有宽度逐渐缩减的垄起部，所述垄起部与等离子发生器的等离子体射口竖直对应，使部分等离子体穿过通孔后从垄起部两侧分别沿弧部回流，回流的等离子体再次穿过通孔从间隙处接触金属件。5.根据权利要求1所述的一种金属表面等离子处理装置，其特征在于，所述驱动组件包括第一转动源，所述第一转动源与支撑辊组传动连接。6.根据权利要求1所述的一种金属表面等离子处理装置，其特征在于，所述衬板上开设有排杂有多个排杂孔，且所述衬板上分布若干刷条，所述刷条为柔性材质制成，所述刷条可接触金属件，将污染物受等离子体分解形成的形成杂质刷下...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴征威，刘权，
申请(专利权)人：中国科学技术大学，
类型：发明
国别省市：