微纳光学元件光学参数测量装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种微纳光学元件光学参数测量装置，主要包括测量光源，将光源发出的单色光予以调制的偏振片，安放待测光学元件的安放器和比较探测器，安放器设置在使待测光学元件位于偏振片与比较探测器光路之间，所述比较探测器主要由光敏探测接收器、Ｉ／Ｄ转换器和计算机组成，Ｉ／Ｄ转换器将光敏探测接收器探测接收到的经由光学元件反射和透射的光信息转化为数字信息，输入计算机进行数字信息优化计算，得出待测光学元件优化光学参数。本实用新型专利技术能够克服微纳光学元件本身制造误差对测量精度的影响，可实现对微纳光学元件光学参数高精度测量。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及微纳光学元件测量
，更为具体地来说，是涉及一种用于 测量微纳光学元件光学参数的装置。二
技术介绍
微纳光学元件是指体积尺寸以纳米与微米计量的光学元件。随着现代制作技术和 现代生物的快速发展，几乎在所有的工程应用领域中，无论是现代国防科学
，还是 普通的工业领域，例如光纤通信、信息处理、航空航天、生物医学、激光_机械加工和光计算 技术，微纳光学元件都显示出越来越重要的应用价值和广阔的应用前景，并且是制造小型 光电子系统的关键元件，它具有体积小、质量轻、造价低等优点，能够实现普通光学元件难 以实现的微小、阵列、集成、成像和波面转换等新功能。微纳光学元件的功能实现取决于其 光学参数的精度。微纳光学元件的光学参数，包括几何结构的面型参数(如光栅的周期，占 空比等)、制作微纳光学元件材料的折射率、吸收参数等，因此如何高精度地测量微纳光学 元光学参数，对微纳光学元件的应用具有十分重要的现实意义。现常用的测量方法可分为 两大类一类是直接测量，另一类为间接测量。直接测量法是利用 有关的仪器，如分光计、原 子力显微镜(AFM)、衍射光栅和CXD等来测量微纳光学元件参数，但有些仪器因其制作工艺 复杂，操作技术要求高，测量需要的时间太长，导致元件光学参数测量的成本增大而得不到 普遍推广；有的存在对待测样品的破坏性。间接测量法是借助优化算法，利用微纳光学元 件的透射或反射的物理量来反向测量出微纳光学元件的有关光学参数，它具有无损伤、无 扰动、成本低等优点。随着优化算法的日益完善，光学参数的间接测量方法已引起人们的重 视，现已开发出的间接测量方法有椭偏法、透射光谱法等，但是这些方法都是利用微纳光学 元件反射或透射光单一物理量进行光学参数测量，不能够克服微纳光学元件本身制造误差 (如光学元件表面粗糙、对位等误差)对测量结果的影响，不能准确地测量出光学元件的光 学参数，测量精度低，甚至有的测量结果是错误的，就是现在最先进的SEM方法，用其测量 得出的结果也仅停留在微米量级，相对于入射波长来说其精度相对较低，不能满足实践需 要。三、
技术实现思路
针对现有微纳光学元件光学参数测量技术存在的不足，本技术的目的旨在提 供一种能够克服微纳光学元件本身制造误差对测量结果的影响，可实现对微纳光学元件光 学参数进行高精度测量的装置。本技术公开的可以实现上述目的的微纳光学元件光学参数测量装置，主要包 括测量光源，将光源发出的单色光予以调制的偏振片，安放待测光学元件的安放器和比较 探测器，安放器设置在使待测光学元件位于偏振片与比较探测器光路之间，所述比较探测 器主要由光敏探测接收器、I/D转换器和计算机组成，I/D转换器将光敏探测接收器探测接 收到的经由光学元件反射和透射的光信息转化为数字信息，输入计算机进行数字信息优化计算，得出待测光学元件优化光学参数，构成比较探测器的光敏探测接受器至少为两个，设 置在能同时探测接收经由光学元件反射和透射光信息的位置在上述微纳光学元件光学参数测量装置中，为了使测量单色光以3° ^20°的入 射角入射到待测微纳光学元件上，可将安放待测光学元件的安放器、偏振片和光源三者中 至少其一设计成是可转动的，即可将安放器、偏振片和光源三者之一设计成可转动的，也可 将安放器、偏振片和光源三者中的二者设计成是可转动，还可以将安放器、偏振片和光源三 者设计成都是可转动的。最好是将安放器设计为可转动的，而将偏振片和光源设计成都是 不可转动的，这样的结构设计，既能实现测量单色光以3° -20°的入射角入射到待测微纳 光学元件上，又能使测量装置的结构简单。在上述技术方案中，能发出单色光的光源都可作为本专利技术测量微纳光学元件光学 参数的光源，为了取得更好的测量效果，应优先选择能发出连续光谱的激光光源作为本发 明的测量光源。测量光源进一步优先选择能发出400nm-700nm波长单色光的可调连续光谱 激光光源。在上述微纳光学元件光学参数测量装置中，所述的计算机，可以是PC机，也可以 是通常使用的台式计算机，或手提式计算机。计算机进行数字信息优化计算的程序，可自行 编制，也可推托他人编制。本技术提出的微纳光学元件光学参数的测量装置，是基于微纳光学元件的对 称物理量之间的相似性能克服微纳光学元件表面诸如表面粗糙、对位等制造误差对测量结 果影响。对称物理量，在微纳光学元件光学参数的测量中，是指测量单色光经由待测微纳光 学元件反射或透射的光场能量，所述对称，对于二元光学元件衍射光栅而言是指对称衍射 级次，而对于其他微纳光学元件而言，是指反射和透射 场中关于同一法线具有相同角度的 出射光线。对称物理量的特点，当光束垂直入射时，微纳光学元件正面无反射光场；测量单 色光入射角度偏离垂直入射时，微纳光学元件的正面和背面会出现反射和透射，微纳光学 元件本身存在的制造误差，如对位误差、粗糙误差等对于对称物理量的影响是相似的，因此 可用对称物理量之比消除微纳光学元件本身制造误差带来的影响。本技术所提出的微纳光学元件光学参数测量装置，是基于专利技术人对微纳光学 元件的对称物理量的深刻理解与认识而完成的，能有效克服微纳光学元件本身所存在的制 造误差对测量结果的影响，弥补了传统测量装置存在的不足。测量装置的可调光源能较为 方便地对各种材料的微纳光学元件的光学参数实现多波长测量，待测样件安放器能实现对 微纳光学元件的光学参数实现多角度的验证。本技术公开的微纳光学元件光学参数的 测量装置，由于其需测量的物理量均为光场的能量值，因此其测量简单、数据稳定，整个装 置的制造成本低，机械系统结构简单、紧凑。本技术公开的微纳光学元件光学参数测量装置，由于通过测量经由微纳光学 元件反射光和透射光测量微纳光学元件光学参数，有效克服了微纳光学元件本身所带误差 对光学参数测量精度影响，因此能够实现对微纳光学元件的几何结构的面型参数(如光栅 的周期，占空比等)、制作微纳光学元件材料的折射率、吸收参数等光学参数高精度测量，测 量精度可达纳米量级，较之现有技术最先进的SEM方法微米量级的测量精度大大提高，为 微纳光学元件光学参数的测量提供了一种更容易为人们接受推广的测量手段。本技术公开的微纳光学元件光学参数测量装置，具有结构简单、紧凑，制造加工性能好，操作简单、测量方便、成本低、易集成的特点。四附图说明附图1是本技术揭示的测量装置总体结构示意图。附图2为附图1中的比较探测器的构成结构示意图。上述各附图中的图标号标识对象为1测量光源；2偏振片；3安放器；4比较探测 器；5光敏探测接收器；6I/D转换器；7计算机。五具体实施方式以下结合附图图面说明给出本技术的实施例，并通过实施例对本技术的 结构和工作原理作进一步的说明。有必要在这里特别说明的是，本技术的具体实施方 式不限于实施例中的形式，根据本技术公开的内容，所属
的技术人员还可以 采取其他的具体方式进行实施，因此，实施例不能理解为是本技术仅可以实施的具体 实施方式。装置实施例1本实施例的微纳光学元件光学参数测量装置的结构如图1和附图2所示。由一个 可发出连续光谱单色光可调激光光源1，一个将光源发出的单色光予以调制的偏振片2、一 个安放待测微纳光学元件的安放器3和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微纳光学元件光学参数测量装置，其特征在于主要包括测量光源，将光源发出的单色光予以调制的偏振片，安放待测光学元件的安放器和比较探测器，安放器设置在使待测光学元件位于偏振片与比较探测器光路之间，所述比较探测器主要由光敏探测接收器、Ｉ／Ｄ转换器和计算机组成，Ｉ／Ｄ转换器将光敏探测接收器探测接收到的经由光学元件反射和透射的光信息转化为数字信息，输入计算机进行数字信息优化计算，得出待测光学元件优化光学参数，构成比较探测器的光敏探测接受器至少为两个，设置在能同时探测接收经由光学元件反射和透射光信息的位置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李建龙，董春美，
申请(专利权)人：四川大学，
类型：实用新型
国别省市：90[中国|成都]