本实用新型专利技术公开了一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置，包括清洗箱、晶圆本体和支撑组件，所述清洗箱底端四角处均固定安装有支腿，所述清洗箱内部设有清洗腔，所述清洗腔一侧下部安装有用于限定晶圆本体位置的支撑组件，所述清洗腔内设有清洗组件，所述清洗腔底端设有对清洗剂混合的搅拌件，所述搅拌件位于晶圆本体的下方；所述清洗箱远离支撑组件外侧上部固定装配有安装箱。电机通过转轴带动搅拌件进行转动，进而能够带动清洗液转动，转动的清洗液也能够提高晶圆本体的清洗效率，晶圆本体位于支撑组件和清洁棉层之间，当晶圆本体往上运动时，清洁棉层能够进一步的对晶圆本体清洁，将粘附在晶圆本体一侧的物质擦掉。将粘附在晶圆本体一侧的物质擦掉。将粘附在晶圆本体一侧的物质擦掉。
【技术实现步骤摘要】
一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置
[0001]本技术涉及晶圆
，特别涉及一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置。
技术介绍
[0002]晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆；在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆在碱腐蚀处理后，需要进行清洗，清洗以后需要干燥处理。
[0003]在申请号：CN202010207748.4中，公开了一种晶圆清洗干燥装置，利用表面张力梯度差，将附着在晶圆表面的水去除，相比于现有技术利用离心力甩干晶圆表面的清洗液，该晶圆清洗干燥装置可以有效地减少水渍残留，避免整片晶圆的颗粒物数量超标。但是上述设计还存在不足之处，箱体用于容纳清洗溶液，以对晶圆进行清洗，但箱体内的清洗溶液容易沉淀，导致晶圆无法彻底清洗，因而降低了晶圆的清洗效率。
[0004]为此，我们提出一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置。
技术实现思路
[0005]本技术的主要目的在于提供一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置，电机通过转轴带动搅拌件进行转动，进而能够带动清洗液转动，转动的清洗液也能够提高晶圆本体的清洗效率，晶圆本体位于支撑组件和清洁棉层之间，当晶圆本体往上运动时，清洁棉层能够进一步的对晶圆本体清洁，将粘附在晶圆本体一侧的物质擦掉，可以有效解决
技术介绍
中的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：
[0007]一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置，包括清洗箱、晶圆本体和支撑组件，所述清洗箱底端四角处均固定安装有支腿，所述清洗箱内部设有清洗腔，所述清洗腔一侧下部安装有用于限定晶圆本体位置的支撑组件，所述清洗腔内设有清洗组件，所述清洗腔底端设有对清洗剂混合的搅拌件，所述搅拌件位于晶圆本体的下方；
[0008]所述清洗箱远离支撑组件外侧上部固定装配有安装箱，所述安装箱内固定装配有电动气缸，所述清洗组件包括毛刷和活塞杆。
[0009]进一步地，所述清洗箱底端居中处固定安装有外壳，所述外壳底端内壁固定连接有电机。
[0010]进一步地，所述搅拌件为十字形结构，所述搅拌件底端居中处固定插接有转轴，转轴远离搅拌件一端穿过清洗箱底端内壁与电机顶端的输出轴连接。
[0011]进一步地，所述活塞杆一端与毛刷连接，所述活塞杆远离毛刷一端水平穿过清洗箱远离支撑组件一侧内壁与电动气缸一端连接。
[0012]进一步地，所述毛刷包括安装板、插座和清洁棉层。
[0013]进一步地，所述安装板为竖直设置的矩形板状结构，所述安装板靠近活塞杆一侧
居中处固定焊接有插座，所述安装板另一侧固定胶粘有清洁棉层。
[0014]与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：电机通过转轴带动搅拌件进行转动，进而能够带动清洗液转动，转动的清洗液也能够提高晶圆本体的清洗效率，晶圆本体位于支撑组件和清洁棉层之间，当清洗后的晶圆本体在清洗箱内往上运动的时候，电动气缸通过活塞杆将毛刷往晶圆本体的方向推动，直至使清洁棉层一侧能够与晶圆本体一侧接触，当晶圆本体往上运动时，清洁棉层能够进一步的对晶圆本体清洁，将粘附在晶圆本体一侧的物质擦掉，进而能够提高晶圆本体的清洁效率。
附图说明
[0015]图1为本技术一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置的结构示意图。
[0016]图2为本技术一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置的清洗箱内部结构示意图。
[0017]图3为本技术一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置的毛刷立体图。
[0018]图中：1、清洗箱；2、晶圆本体；3、支腿；4、搅拌件；5、外壳；6、电机；7、清洗腔；8、清洗组件；9、支撑组件；10、毛刷；11、活塞杆；12、电动气缸；13、安装箱；14、安装板；15、插座；16、清洁棉层。
具体实施方式
[0019]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。
[0020]如图1、图2、图3所示，一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置，包括清洗箱1、晶圆本体2和支撑组件9，所述清洗箱1底端四角处均固定安装有支腿3，所述清洗箱1内部设有清洗腔7，所述清洗腔7一侧下部安装有用于限定晶圆本体2位置的支撑组件9，所述清洗腔7内设有清洗组件8，所述清洗腔7底端设有对清洗剂混合的搅拌件4，所述搅拌件4位于晶圆本体2的下方；所述清洗箱1远离支撑组件9外侧上部固定装配有安装箱13，所述安装箱13内固定装配有电动气缸12，所述清洗组件8包括毛刷10和活塞杆11。
[0021]所述清洗箱1底端居中处固定安装有外壳5，所述外壳5底端内壁固定连接有电机6；所述搅拌件4为十字形结构，所述搅拌件4底端居中处固定插接有转轴，转轴远离搅拌件4一端穿过清洗箱1底端内壁与电机6顶端的输出轴连接；所述活塞杆11一端与毛刷10连接，所述活塞杆11远离毛刷10一端水平穿过清洗箱1远离支撑组件9一侧内壁与电动气缸12一端连接；所述毛刷10包括安装板14、插座15和清洁棉层16；所述安装板14为竖直设置的矩形板状结构，所述安装板14靠近活塞杆11一侧居中处固定焊接有插座15，所述安装板14另一侧固定胶粘有清洁棉层16，晶圆本体2位于支撑组件9和清洁棉层16之间。
[0022]需要说明的是，本技术为一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置，当清洗箱1内注入清洗液后，电机6通过转轴带动搅拌件4进行转动，进而能够带动清洗液转动，转动的清洗液也能够提高晶圆本体2的清洗效率，当清洗后的晶圆本体2在清洗箱1内往上运动的时候，电动气缸12通过活塞杆11将毛刷10往晶圆本体2的方向推动，直至使清洁棉层16一侧能够与晶圆本体2一侧接触，当晶圆本体2往上运动时，清洁棉层16能够进一步的对晶圆本体2清洁，将粘附在晶圆本体2一侧的物质擦去。
[0023]以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置，包括清洗箱(1)、晶圆本体(2)和支撑组件(9)，其特征在于，所述清洗箱(1)底端四角处均固定安装有支腿(3)，所述清洗箱(1)内部设有清洗腔(7)，所述清洗腔(7)一侧下部安装有用于限定晶圆本体(2)位置的支撑组件(9)，所述清洗腔(7)内设有清洗组件(8)，所述清洗腔(7)底端设有对清洗剂混合的搅拌件(4)，所述搅拌件(4)位于晶圆本体(2)的下方；所述清洗箱(1)远离支撑组件(9)外侧上部固定装配有安装箱(13)，所述安装箱(13)内固定装配有电动气缸(12)，所述清洗组件(8)包括毛刷(10)和活塞杆(11)。2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置，其特征在于：所述清洗箱(1)底端居中处固定安装有外壳(5)，所述外壳(5)底端内壁固定连接有电机(6)。3.根据权利要求1所述的一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装...
【专利技术属性】
技术研发人员：贾泓超，陈凯，全晓霞，
申请(专利权)人：浙江艾科半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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