水性精密抛光膜及其制备方法和用途技术

一种水性精密抛光膜，包括基材，其特征在于，所述基材表面具有由微米级磨料与水性胶粘剂和溶剂混合分散制成的浆料均匀涂布的涂层，所述涂层在研磨时能逐步单层脱落。本发明专利技术的抛光膜适用于ＭＴ连接器的研磨，特别是适用于光纤高于插针体的研磨，即光纤高度研磨，而且不必再使用其他的研磨液，研磨效率高，操作便捷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种水性精密抛光膜及其制备方法和用途，该抛光膜用于MT光纤连 接器的研磨抛光，具有选择性抛光性能，适用于MT连接器中光纤高于插针体的研磨抛光， 以满足光纤高度的要求。
技术介绍
光纤连接器是光纤通讯系统中应用最广泛的无源器件。用户通信网规模的扩大、 光通信的高速化以及多媒体大容量信息处理设备的发展均推动连接器的多芯化发展，多芯 光纤连接器连接，即MT光纤连接器。正是因此，应运而生的MT光纤连接器在市场上拥有不 断扩大的用户群，目前世界各大公司均在加速开发MT系列连接器并积极投入市场。例如， 日本藤仓公司采用了 mini-MT连接器套管，研制出体积更小又完全符合日本家电连接器 RJ-45标准要求的MT-RJ型二芯光纤连接器；美国US-Conec公司以MT元件为基础，研制了 可以连接4，8，10，12芯光纤的MTP/MPO型光纤连接器；美国Siecor公司的小型MT光纤连 接器，即小型MAC型连接器，它最多能用于4芯光纤；日本日新化成的4，8， 12芯光纤的MPO 型光纤连接器。预计若干年后，多芯光纤连接器将与目前大量使用的直径为2. 5mm插针的 连接器并驾齐驱。 MT光纤连接器的插芯均采用聚合物材料制成，如环氧树脂(ER)、聚苯硫醚(PPS)。 为使MT连接器有低的插入损耗和高的回波损耗从而保证通讯信号的传递质量，不仅光纤 连接器的端部要进行研磨抛光，以避免由于端部的凸凹不平而引起光信号的过多反射和散 射，而且其纤芯的端面也应研磨抛光高出插针体，即光纤要凸起。 一般MT连接器要求纤芯 的端面高于插针体1000-3000nm，即光纤高度为1000-3000nm，因此MT连接器的研磨抛光难 度要高于普通连接器。为达到光纤高度的要求， 一般研磨方法为研磨垫配合研磨液，或采用 涂附有磨料的绒毛布，如日本MIPOX阻尼布和碳化硅、氧化铝研磨液，美国3M公司的498X、 298X等产品。US 2006/0072879A1介绍了使用研磨液和绒毛布研磨抛光MT光纤连接器的 方法，该方法抛光MT光纤连接器后，平均光纤高度在lOOOnm左右，光纤高度差小于250nm。 综合来看，研磨垫配合研磨液研磨效率高，但研磨液研磨后，MT连接器要清洗，增加了操作 工序，带来不便；而涂附有磨料的绒毛布研磨虽操作简捷，无需清洗，但研磨效率较低。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服已有技术的缺点，提出一种能满足MT光纤连接器的光纤高 度要求，且研磨效率高、操作简捷的水性精密抛光膜。本专利技术还提供该抛光膜的制备方法和 用途。 本专利技术的技术构思为通过胶粘剂的结构匹配和磨料的选择，将特定磨料与水性 胶粘剂和溶剂充分混合，分散均匀，然后将其涂布于基材表面，经干燥固化后形成抛光膜， 在研磨MT连接器时，加少量水，研磨过程中涂层逐步单层脱落，具有选择性抛光性能，从而 达到光纤凸起的要求。 本专利技术的技术方案是 —种水性精密抛光膜，包括基材，其特征在于，所述基材表面具有由微米级磨料与水 性胶粘剂和溶剂混合分散制成的浆料均匀涂布的涂层，所述涂层在研磨时能逐步单层脱落。 所述水性胶粘剂为粉状、粒状或块状的树脂溶于水，固含量为10-90%的胶粘剂；所述树脂包括聚乙烯醇、羧甲基纤维素、改性淀粉、聚丙烯酰胺、聚酯、聚氨酯、聚丙烯酸类、 聚乙二醇中的一种或几种混合物。 所述微米级磨料主要为碳化硅、氧化铝和/或氧化铈，粒径为0. 1 5微米。 所述基材从以下物质中选择各种塑料薄膜，或者布或者纸；所述塑料薄膜为聚 酯薄膜、聚氨酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚酰胺薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或聚氯乙烯薄 膜；基材厚度为25 200微米。 所述基材优选为双向拉伸聚酯薄膜或聚酰胺薄膜。 所述涂层厚度为1 30微米。 水性精密抛光膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤 (1)将粉状、粒状或块状的树脂溶于水中，制成固含量为10_90%的水性胶粘剂； (2)将磨料与步骤(1)得到的水性胶粘剂以一定比例混合，并添加溶剂，使用球磨机、砂磨机或超声波分散机充分分散均匀，然后再加入固化剂，制得浆料。(3)将步骤(2)制得的桨料用辊式涂布机或喷涂机均匀地涂布于基材表面，经干燥固化后制得水性精密抛光膜。 所述步骤(2)中，磨料与水性胶粘剂的混合比例为1 : 9 9 : l;添加的溶剂为 水、乙醇、异丙醇、丙二醇醚类的一种或几种混合物；加入的固化剂为氨基类或异氰酸酯类 固化剂；所述浆料中还加入以下一种或几种添加剂偶联齐U、抗静电齐U、润湿齐U、分散剂、消泡剂。 所述步骤(3)中，涂布时通过控制辊速、线速、辊间隙等条件，控制涂层厚度；所述 的干燥固化指产品经涂布机的干燥道干燥后，在40 15(TC下放置5 60小时；调节合 适的温度和时间，使固化反应进行完全。 水性精密抛光膜的用途，其特征在于，该抛光膜用于MT连接器研磨，研磨时加水， 涂层逐步单层脱落，对研磨面进行选择性抛光，适用对MT连接器中光纤高于插针体的研磨 抛光，即光纤高度研磨。 本专利技术的技术效果 本专利技术采用水性胶粘剂与特定的磨料按一定比例混合，并添加溶剂，制成浆料涂 布于基材表面形成涂层，再经干燥和固化后处理制得水性精密抛光膜。该抛光膜由于水性 胶粘剂的作用，研磨时加少量水，在研磨过程中涂层能逐步单层脱落，对研磨面进行的是滚 动研磨，具有选择性抛光性能，从而适用对MT连接器中光纤高于插针体的研磨，满足光纤 高度的要求；而传统的抛光膜研磨时，涂层不脱落，不具有选择性抛光性能，需要配合使用 研磨液。因此，本专利技术的抛光膜适用于MT连接器的研磨，特别是适用于光纤高于插针体的 研磨，即光纤高度研磨，而且不必再使用其他的研磨液，研磨效率高，操作便捷。具体实施例方式—种水性精密抛光膜，包括基材，基材表面具有由微米级磨料与水性胶粘剂和溶剂混合分散制成的浆料均匀涂布的涂层，所述涂层在研磨时能逐步单层脱落。该抛光膜由下述方法制备将微米级磨料与水性胶粘剂、溶剂充分混合，分散均匀，然后将其均匀地涂布于基材上形成涂层，经干燥和固化后处理制得。水性精密抛光膜的制备方法包括以下步骤 (1)将粉状、粒状或块状的树脂溶于水中，制成固含量为10_90%的水性胶粘剂； (2)将磨料与步骤(1)得到的水性胶粘剂以一定比例混合，并添加溶剂，使用球磨机、砂磨机或超声波分散机充分分散均匀，然后再加入固化剂，制得浆料。(3)将步骤(2)制得的浆料用辊式涂布机或喷涂机均匀地涂布于基材表面，经干燥固化后得到水性精密抛光膜。 其中，水性胶粘剂为粉状、粒状或块状的树脂溶于水，固含量为10_90%的水性胶 粘剂；所述的树脂包括聚乙烯醇、羧甲基纤维素、改性淀粉、聚丙烯酰胺、聚酯、聚氨酯、聚丙 烯酸类、聚乙二醇中的一种或几种混合物； 磨料主要为碳化硅、氧化铝、氧化铈，粒径为0. 1 5微米； 磨料与水性胶粘剂的混合比例为1 : 9 9 : 1; 溶剂为水、乙醇、异丙醇、丙二醇醚类的一种或几种混合物。 所述基材具有较高的拉伸强度和耐溶剂性、耐热性，包括各种塑料薄膜，如聚酯、 聚氨酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚丙烯、聚乙烯、聚氯乙烯，以及布、纸，厚度在25-200微米；从 机械强度和涂布均匀性来看，双向拉伸聚酯薄膜或聚酰胺薄膜最为合适。另外，根据需要， 对薄膜进行表面处理，包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水性精密抛光膜，包括基材，其特征在于，所述基材表面具有由微米级磨料与水性胶粘剂和溶剂混合分散制成的浆料均匀涂布的涂层，所述涂层在研磨时能逐步单层脱落。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄锐，石倩倩，
申请(专利权)人：北京国瑞升科技有限公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]