本实用新型专利技术公开了一种抗静电面料印染废水的沉淀处理池，包括主机体，主机体内部的中心位置处设有过滤室，过滤室一侧的主机体内部设有第二沉淀室，第二沉淀室一侧的主机体内部设有第一沉淀室，过滤室远离第二沉淀室一侧的主机体内部设有第三沉淀室，过滤室内部的一端设有分隔架，分隔架下方的过滤室内部设有滤芯组件，过滤室一侧的内壁上设有矩形挡板，主机体底部的中心位置处设有锥形机体。本实用新型专利技术不仅达到了对印染废水进行多重沉淀的目的，以提升沉淀处理池使用时对印染废水的沉淀效果，还能够对水源进行过滤处理，以进一步提升了印染废水的处理效果，而且方便连接外部供出液管道，进而提高了沉淀处理池使用时的便捷性。进而提高了沉淀处理池使用时的便捷性。进而提高了沉淀处理池使用时的便捷性。
【技术实现步骤摘要】
一种抗静电面料印染废水的沉淀处理池
[0001]本技术涉及废水处理
，具体为一种抗静电面料印染废水的沉淀处理池。
技术介绍
[0002]废水处理就是利用物理、化学和生物的方法对废水进行处理，使废水净化，减少污染，以至达到废水回收、复用，充分利用水资源，而在对抗静电面料进行印染时，则会产生大量的印染废水，为了对该类废水进行相关处理，因而需使用到相应的沉淀处理池。
[0003]参考公开号为CN209092780U的抗静电面料印染废水的沉淀处理池，其包括呈圆筒状的本体一和本体二，上述本体一和本体二上端均开口，所述本体一呈圆锥台状，所述本体二呈直筒状，所述本体二的内径大于本体一外径，上述本体一小端口处连接在本体二内的底部处，所述本体一上端伸出本体二且在本体二端口与本体一侧部之间具有能将两者定位的定位结构，该抗静电面料印染废水的沉淀处理池稳定性高，根据上述可知，该沉淀处理池虽能够对印染废水进行沉淀处理，但通常不便于对印染废水进行多重沉淀，且不便于对沉淀后的水源进行过滤处理，使得废水的处理效果难以达到既定预期，时常困扰着人们。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种抗静电面料印染废水的沉淀处理池，以解决上述
技术介绍
中提出沉淀处理池虽能够对印染废水进行沉淀处理，但通常不便于对印染废水进行多重沉淀，且不便于对沉淀后的水源进行过滤处理，使得废水的处理效果难以达到既定预期的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种抗静电面料印染废水的沉淀处理池，包括主机体，所述主机体内部的中心位置处设有过滤室，所述过滤室一侧的主机体内部设有第二沉淀室，所述第二沉淀室一侧的主机体内部设有第一沉淀室，所述过滤室远离第二沉淀室一侧的主机体内部设有第三沉淀室，所述过滤室内部的一端设有分隔架，所述分隔架下方的过滤室内部设有滤芯组件，所述过滤室一侧的内壁上设有矩形挡板，所述主机体底部的中心位置处设有锥形机体，所述锥形机体的顶端与主机体的底部相连通，所述第二沉淀室一侧的外壁上设有第一流通管，所述第一流通管的一端贯穿滤芯组件并延伸至锥形机体的内部。
[0006]优选的，所述主机体表面的一侧设有注液口，所述注液口的一端延伸至第一沉淀室的内部，所述注液口远离主机体的一端设有第二法兰盘，以便将印染废水注入至第一沉淀室的内部。
[0007]优选的，所述主机体一侧的外壁上设有排液口，所述排液口的一端延伸至第三沉淀室的内部，所述排液口远离主机体的一端设有第一法兰盘，以便第三沉淀室内部的水源由排液口排出。
[0008]优选的，所述矩形挡板上方的过滤室内壁上设有第二流通管，所述第二流通管的
一端延伸至第三沉淀室的内部，以便过滤室内部的水源经第二流通管流入至第三沉淀室的内部。
[0009]优选的，所述第三沉淀室一端的内壁上设有第二排污口，所述第二排污口的一端延伸至主机体的外部并设有第四法兰盘，以便第三沉淀室底部的杂物经第二排污口排出。
[0010]优选的，所述锥形机体表面的一端设有第一排污口，所述第一排污口的一端延伸至锥形机体的内部，所述第一排污口远离锥形机体的一端设有第三法兰盘，以便锥形机体内部的污渍经第一排污口排出。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：该抗静电面料印染废水的沉淀处理池不仅达到了对印染废水进行多重沉淀的目的，以提升沉淀处理池使用时对印染废水的沉淀效果，还能够对水源进行过滤处理，以进一步提升了印染废水的处理效果，而且方便连接外部供出液管道，进而提高了沉淀处理池使用时的便捷性；
[0012](1)通过注液口将印染废水注入至第一沉淀室的内部，使得废水位于第一沉淀室的内部进行沉淀并逐渐上升，随着水位的上升，第一沉淀室内部废水流入至第二沉淀室中并进行二次沉淀，而随着水位上升，第二沉淀室内部废水经第一流通管流入至过滤室中，并达到指定高度时经第二流通管流入至第三沉淀室的内部进行三次沉淀，第三沉淀室内部沉淀完毕的水源经排液口排出，而杂质可经第二排污口排出，从而达到了对印染废水进行多重沉淀的目的，以提升沉淀处理池使用时对印染废水的沉淀效果；
[0013](2)通过将滤芯组件设置于过滤室的内部，当第二沉淀室内部的水源经第一流通管流入至锥形机体中时，随着水位的上升，滤芯组件则会对水源进行过滤处理，以使得过滤后的水源经第二流通管流入至第三沉淀室中，从而进一步提升了印染废水的处理效果；
[0014](3)通过位于注液口、第一排污口、第二排污口以及排液口的一端分别设置有第二法兰盘、第三法兰盘、第四法兰盘以及第一法兰盘，即可方便的连接外部供出液管道，从而提高了沉淀处理池使用时的便捷性。
附图说明
[0015]图1为本技术的俯视三维结构示意图；
[0016]图2为本技术的正视外观结构示意图；
[0017]图3为本技术的俯视结构示意图；
[0018]图4为本技术的侧视外观结构示意图。
[0019]图中：1、主机体；2、第一沉淀室；3、第二沉淀室；4、分隔架；5、滤芯组件；6、矩形挡板；7、第一流通管；8、过滤室；9、第三沉淀室；10、第二流通管；11、排液口；12、注液口；13、第一排污口；14、第二排污口；15、锥形机体；16、第一法兰盘；17、第二法兰盘；18、第三法兰盘；19、第四法兰盘。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]请参阅图1
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4，本技术提供的一种实施例：一种抗静电面料印染废水的沉淀处
理池，包括主机体1，主机体1表面的一侧设有注液口12，注液口12的一端延伸至第一沉淀室2的内部，注液口12远离主机体1的一端设有第二法兰盘17；
[0022]使用时，通过注液口12的设置，以便将印染废水注入至第一沉淀室2的内部；
[0023]主机体1一侧的外壁上设有排液口11，排液口11的一端延伸至第三沉淀室9的内部，排液口11远离主机体1的一端设有第一法兰盘16；
[0024]使用时，通过排液口11的设置，以便第三沉淀室9内部的水源由排液口11排出；
[0025]主机体1内部的中心位置处设有过滤室8，过滤室8一侧的主机体1内部设有第二沉淀室3，第二沉淀室3一侧的主机体1内部设有第一沉淀室2，过滤室8远离第二沉淀室3一侧的主机体1内部设有第三沉淀室9，第三沉淀室9一端的内壁上设有第二排污口14，第二排污口14的一端延伸至主机体1的外部并设有第四法兰盘19；
[0026]使用时，通过第二排污口14的设置，以便第三沉淀室9底部的杂物经第二排污口14排出；
[0027]过滤室8内部的一端设有分隔架4，分隔架4下方的过滤室8内部设有滤芯组件5，过滤室8一侧的内壁上设有矩形挡板6，矩形挡本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种抗静电面料印染废水的沉淀处理池，其特征在于，包括主机体(1)，所述主机体(1)内部的中心位置处设有过滤室(8)，所述过滤室(8)一侧的主机体(1)内部设有第二沉淀室(3)，所述第二沉淀室(3)一侧的主机体(1)内部设有第一沉淀室(2)，所述过滤室(8)远离第二沉淀室(3)一侧的主机体(1)内部设有第三沉淀室(9)，所述过滤室(8)内部的一端设有分隔架(4)，所述分隔架(4)下方的过滤室(8)内部设有滤芯组件(5)，所述过滤室(8)一侧的内壁上设有矩形挡板(6)，所述主机体(1)底部的中心位置处设有锥形机体(15)，所述锥形机体(15)的顶端与主机体(1)的底部相连通，所述第二沉淀室(3)一侧的外壁上设有第一流通管(7)，所述第一流通管(7)的一端贯穿滤芯组件(5)并延伸至锥形机体(15)的内部。2.根据权利要求1所述的一种抗静电面料印染废水的沉淀处理池，其特征在于：所述主机体(1)表面的一侧设有注液口(12)，所述注液口(12)的一端延伸至第一沉淀室(2)的内部，所述注液口(12)远离主机体(1)的一端设有...
【专利技术属性】
技术研发人员：宋华德，徐利军，宋华伟，宋华利，
申请(专利权)人：浙江华德利纺织印染有限公司，
类型：新型
国别省市：
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