化合物、化合物的制造方法及表面处理剂的制造方法技术

提供新型化合物及其制造方法、以及以该新型化合物为原料的表面处理剂的制造方法。为下述式(A1)或式(A2)所示的化合物。G1‑

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化合物、化合物的制造方法及表面处理剂的制造方法


[0001]本专利技术涉及化合物、化合物的制造方法及表面处理剂的制造方法。

技术介绍

[0002]含氟化合物在农药、医药、功能性材料等各种领域中使用。要求通过更简易的方法来合成各种各样的结构。例如，为了对具有氟烷基、(聚)氧氟亚烷基链的化合物赋予各种功能，正在研究用于导入各种取代基的合成方法。
[0003]关于具有在氟烷基上键合有烷基的结构的化合物的合成方法，进行了各种研究。
[0004]例如，专利文献1中公开了一种通过自由基反应对烯烃化合物加成全氟烷基溴化物的含氟化合物的制造方法。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2018
‑
43940号公报

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的问题
[0009]对于上述专利文献1的方法，烯烃进行反应，因此不适于具有碳
‑
碳双键的化合物的合成，另外，亲电子试剂的种类受到限定。另外，产物可进一步进行自由基反应而会发生调聚反应，因此存在生成多种副产物的课题。
[0010]本专利技术的目的在于，提供新型化合物及其制造方法、以及以该新型化合物为原料的其他化合物的制造方法及表面处理剂的制造方法。
[0011]用于解决问题的方案
[0012]本专利技术提供具有下述[1]～[7]的构成的化合物及其制造方法、以及表面处理剂的制造方法。
[0013][1]一种化合物，其由下述式(A1)或式(A2)表示。
[0014]G1‑
(CH2)
m1
‑
CHX1‑
(CH2)
n1
‑
M
ꢀꢀ
式(A1)
[0015]M
‑
(CH2)
n2
‑
CHX1‑
(CH2)
m2
‑
G2‑
(CH2)
m3
‑
CHX1‑
(CH2)
n3
‑
M
ꢀꢀ
式(A2)
[0016]其中，式中，
[0017]G1为氟烷基或具有(聚)氧氟亚烷基链的1价基团，
[0018]G2为氟亚烷基或具有(聚)氧氟亚烷基链的2价基团，
[0019]X1为卤素原子，存在多个X1时，该X1任选相同或不同，
[0020]M为BR1R2，R1及R2各自独立地为
‑
OH、
‑
R
11
、
‑
OR
11
、
‑
O
‑
C(O)
‑
R
11
、或
‑
NR
11
R
12
所示的基团，R
11
为任选具有取代基且在碳链中任选具有杂原子的烃基，2个R
11
任选连接而形成环结构，R
12
为氢原子或碳数1～6的烷基，存在多个M时，该M任选相同或不同，
[0021]n1、n2及n3各自独立地为0～20的整数，
[0022]m1、m2及m3各自独立地为1或2。
[0023][2]下述式(B1)或式(B2)所示的化合物的制造方法，其中，将[1]的化合物的M转化为氢或烃基。
[0024]G1‑
(CH2)
m1
‑
CHX1‑
(CH2)
n1
‑
R3式(B1)
[0025]R3‑
(CH2)
n2
‑
CHX1‑
(CH2)
m2
‑
G2‑
(CH2)
m3
‑
CHX1‑
(CH2)
n3
‑
R3式(B2)
[0026]其中，式中，
[0027]G1为氟烷基或具有(聚)氧氟亚烷基链的1价基团，
[0028]G2为氟亚烷基或具有(聚)氧氟亚烷基链的2价基团，
[0029]X1为卤素原子，存在多个X1时，该X1任选相同或不同，
[0030]R3为氢原子、或任选具有取代基且任选具有杂原子的烃基，存在多个R3时，该R3任选相同或不同，n1、n2及n3各自独立地为0～20的整数，
[0031]m1、m2及m3各自独立地为1或2。
[0032][3]前述式(B1)或式(B2)所示的化合物的制造方法，其为[2]的制造方法，
[0033]所述制造方法包括：使[1]所述的化合物与下述式(C1)所示的化合物进行反应。
[0034]R3‑
X2式(C1)
[0035]其中，式中
[0036]R3为任选具有取代基且任选具有杂原子的烃基，X2为卤素原子。
[0037][4]下述式(B3)或式(B4)所示的化合物的制造方法，其中，将[1]所述的化合物的X1转化为氢或烃基。
[0038]G1‑
(CH2)
m1
‑
CHR3‑
(CH2)
n1
‑
M式(B3)
[0039]M
‑
(CH2)
n2
‑
CHR3‑
(CH2)
m2
‑
G2‑
(CH2)
m3
‑
CHR3‑
(CH2)
n3
‑
M式(B4)
[0040]其中，式中，
[0041]G1为氟烷基或具有(聚)氧氟亚烷基链的1价基团，
[0042]G2为氟亚烷基或具有(聚)氧氟亚烷基链的2价基团，
[0043]M为BR1R2，R1及R2各自独立地为
‑
OH、
‑
R
11
、
‑
OR
11
、
‑
O
‑
C(O)
‑
R
11
、或
‑
NR
11
R
12
所示的基团，R
11
为任选具有取代基且在碳链中任选具有杂原子的烃基，2个R
11
任选连接而形成环结构，R
12
为氢原子或碳数1～6的烷基，存在多个M时，该M任选相同或不同，
[0044]R3为氢原子、或任选具有取代基且任选具有杂原子的烃基，存在多个R3时，该R3任选相同或不同，n1、n2及n3各自独立地为0～20的整数，
[0045]m1、m2及m3各自独立地为1或2。
[0046][5]前述式(B3)或式(B4)所示的化合物的制造方法，其为[4]的制造方法，
[0047]所述制造方法包括本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种化合物，其由下述式(A1)或式(A2)表示，G1‑
(CH2)
m1
‑
CHX1‑
(CH2)
n1
‑
M式(A1)M
‑
(CH2)
n2
‑
CHX1‑
(CH2)
m2
‑
G2‑
(CH2)
m3
‑
CHX1‑
(CH2)
n3
‑
M式(A2)其中，式中，G1为氟烷基或具有(聚)氧氟亚烷基链的1价基团，G2为氟亚烷基或具有(聚)氧氟亚烷基链的2价基团，X1为卤素原子，存在多个X1时，该X1任选相同或不同，M为BR1R2，R1及R2各自独立地为
‑
OH、
‑
R
11
、
‑
OR
11
、
‑
O
‑
C(O)
‑
R
11
、或
‑
NR
11
R
12
所示的基团，R
11
为任选具有取代基且在碳链中任选具有杂原子的烃基，2个R
11
任选连接而形成环结构，R
12
为氢原子或碳数1～6的烷基，存在多个M时，该M任选相同或不同，n1、n2及n3各自独立地为0～20的整数，m1、m2及m3各自独立地为1或2。2.下述式(B1)或式(B2)所示的化合物的制造方法，其中，将权利要求1所述的化合物的M转化为氢或烃基，G1‑
(CH2)
m1
‑
CHX1‑
(CH2)
n1
‑
R3式(B1)R3‑
(CH2)
n2
‑
CHX1‑
(CH2)
m2
‑
G2‑
(CH2)
m3
‑
CHX1‑
(CH2)
n3
‑
R3式(B2)其中，式中，G1为氟烷基或具有(聚)氧氟亚烷基链的1价基团，G2为氟亚烷基或具有(聚)氧氟亚烷基链的2价基团，X1为卤素原子，存在多个X1时，该X1任选相同或不同，R3为氢原子、或任选具有取代基且任选具有杂原子的烃基，存在多个R3时，该R3任选相同或不同，n1、n2及n3各自独立地为0～20的整数，m1、m2及m3各自独立地为1或2。3.所述式(B1)或式(B2)所示的化合物的制造方法，其为权利要求2所述的制造方法，所述制造方法包括：使权利要求1所述的化合物与下述式(C1)所示的化合物进行反应，R3‑
X2式(C1)其中，式中，R3为任选具有取代基且任选具有杂原子的烃基，X2为卤素原子。4.下述式(B3)或式(B4)所示的化合物的制造方法，其中，将权利要求1所述的化合物的X1转化为氢或烃基，G1‑
(CH2)
m1
‑
CHR3‑
(CH2)
n1
‑
M式(B3)M
‑
(CH2)
n2
‑
CHR3‑
(CH2)...

【专利技术属性】
技术研发人员：宇野诚人，安乐英一郎，川上贵史，松浦启吾，
申请(专利权)人：AGC株式会社，
类型：发明
国别省市：