碱性蚀刻直接电解氨气回用设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种碱性蚀刻直接电解氨气回用设备，包括氨气吸收模块和二级射流模块，所述氨气吸收模块的内侧设有扰流板与喷洒管架，所述氨气吸收模块的侧边设有氨气传送管，所述二级射流模块的顶端设有密封顶盖，所述密封顶盖的顶端设有射流支架，所述射流支架的上方设有射流泵，所述射流支架的内侧设有三向射流连接管，所述二级射流模块的侧边设有低铜蚀刻子液回抽管，本实用新型专利技术中，氨气吸收模块对直接电解处理的碱性蚀刻液电离处的氨进行吸收，经过二级射流模块，氨气被二次吸收，实现再生回用低铜蚀刻子液的液氨补充量明显下降，且可以降低废气塔的氨氮废水排放总量，减少了综合处理成本。少了综合处理成本。少了综合处理成本。

【技术实现步骤摘要】
碱性蚀刻直接电解氨气回用设备


[0001]本技术涉及印刷电路板制造蚀刻
，特别涉及一种碱性蚀刻直接电解氨气回用设备。

技术介绍

[0002]在PCB的制造蚀刻制程，主要的碱性蚀刻制程，在以氯化铵为主体的蚀刻盐体系药水，其药水的再生回用设计传统的以萃取为主，但是其在萃取剂的水洗过程中造成大量的氨氮废水，对制造工厂的废水处理能力有一定的要求，目前规避此问题点的再生为碱性蚀刻液的直接电解制程，其不需要萃取系统，而直接将蚀刻液进行电解，其优点为无氨氮废水的产生，但是电解蚀刻液过程中，碱性蚀刻液在电解出铜的过程中，也电离了氨，相比萃取系统其氨气损失要增加30
‑
50％，对废气的处理造成了压力，也废气塔的水洗水需要单独在排给废水厂处理，增加了整体的处理成本，因此，针对上述问题提出一种碱性蚀刻直接电解氨气回用设备。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题克服现有的缺陷，可以有效解决
技术介绍
中的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：
[0005]碱性蚀刻直接电解氨气回用设备，包括氨气吸收模块和二级射流模块，所述氨气吸收模块的内侧设有扰流板与喷洒管架，所述喷洒管架上设有雾化螺旋喷嘴，所述氨气吸收模块的侧边设有氨气传送管，所述氨气吸收模块与二级射流模块之间设有相互连通的低铜蚀刻子液传输管，所述二级射流模块的顶端设有密封顶盖，所述密封顶盖的顶端设有射流支架，所述射流支架的上方设有射流泵，所述射流支架的内侧设有三向射流连接管，所述密封顶盖的顶端穿设有尾气处理管，所述二级射流模块的侧边设有低铜蚀刻子液回抽管。
[0006]通过采用上述方案，氨气吸收模块对直接电解处理的碱性蚀刻液电离处的氨进行吸收，循环喷洒低铜子液，氨气流经喷洒的蚀刻子液水帘，对氨气进行吸收，被吸收后氨气经过二级射流模块10，与蚀刻子液混合进行液位下混合喷洒，氨气被药水二次吸收，最终剩余的尾气被低流速抽风到废气塔进行处理。
[0007]作为本技术的进一步改进，所述氨气吸收模块的顶端设有防溅顶盖，所述防溅顶盖与氨气吸收模块的接触位置以及密封顶盖与二级射流模块的接触位置均设有密封条。
[0008]通过采用上述方案，保证氨气吸收模块与二级射流模块自身的密封性，避免对氨气吸收过程中的泄漏。
[0009]作为本技术的进一步改进，所述喷洒管架与扰流板分别位于氨气吸收模块内部的上下两侧，且所述喷洒管架与扰流板均相互交错且等距设置。
[0010]通过采用上述方案，扰流板的交错设置，增加氨气在吸收过程中的流动范围，对氨
气流经喷洒的蚀刻子液水帘的施加延长，增加氨气吸收效果，
[0011]作为本技术的进一步改进，所述氨气吸收模块的侧边开设有氨气出槽以及低铜蚀刻子液出槽，所述氨气传送管经由氨气出槽与氨气吸收模块内部连通，所述低铜蚀刻子液传输管经由低铜蚀刻子液出槽与氨气吸收模块内部连通，所述氨气出槽的水平高度位于低铜蚀刻子液出槽上方。
[0012]通过采用上述方案，低铜蚀刻子液出槽对氨气吸收模块内积攒的低铜蚀刻子液排出，避免积攒的低铜蚀刻子液液面升高对氨气出槽遮挡。
[0013]作为本技术的进一步改进，所述三向射流连接管的出口端贯穿密封顶盖并与二级射流模块连通，所述三向射流连接管的第一入口与氨气传送管连通，所述三向射流连接管的第二入口与射流泵的输出端连通，所述三向射流连接管的第三入口与低铜蚀刻子液回抽管连通。
[0014]通过采用上述方案，在三向射流连接管14对被吸收后氨气与蚀刻子液汇总混合，射流泵提供动力使被吸收后氨气与蚀刻子液进行液位下混合喷洒，氨气被药水二次吸收。
[0015]作为本技术的进一步改进，所述喷洒管架上单排设置的雾化螺旋喷嘴的数量为6个，所述扰流板呈垂直设置，所述雾化螺旋喷嘴与扰流板处于同一垂直面上。
[0016]通过采用上述方案，增加蚀刻子液水帘的密度，保证氨气流过蚀刻子液水帘时与蚀刻子液的充分接触。
[0017]作为本技术的进一步改进，所述喷洒管架上的雾化螺旋喷嘴与用于提供方喷洒动力的高压泵连接。
[0018]与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：氨气吸收模块对直接电解处理的碱性蚀刻液电离处的氨进行吸收，循环喷洒低铜子液，氨气流经喷洒的蚀刻子液水帘，对氨气进行吸收，而后被吸收后氨气经过二级射流模块，与蚀刻子液混合进行液位下混合喷洒，氨气被药水二次吸收，最终剩余的尾气被低流速抽风到废气塔进行处理，再生回用低铜蚀刻子液的液氨补充量明显下降，且可以降低废气塔的氨氮废水排放总量，减少了综合处理成本。
附图说明
[0019]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。
[0020]图1为本技术碱性蚀刻直接电解氨气回用设备的整体结构示意图。
[0021]图2为本技术碱性蚀刻直接电解氨气回用设备的氨气吸收模块的内部结构示意图。
[0022]图3为本技术碱性蚀刻直接电解氨气回用设备的使用流程结构示意图。
[0023]图中：1、氨气吸收模块；2、防溅顶盖；3、氨气传送管；4、低铜蚀刻子液传输管；5、氨气出槽；6、低铜蚀刻子液出槽；7、喷洒管架；8、雾化螺旋喷嘴；9、扰流板；10、二级射流模块；11、尾气处理管；12、射流支架；13、射流泵；14、三向射流连接管；15、低铜蚀刻子液回抽管；16、密封顶盖。
具体实施方式
[0024]下面结合具体实施方式对本技术作进一步的说明，其中，附图仅用于示例性说明，表示的仅是示意图，而非实物图，不能理解为对本专利的限制，为了更好地说明本技术的具体实施方式，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸，对本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的，基于本技术中的具体实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他具体实施方式，都属于本技术保护的范围。
[0025]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制，此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。
[0026]如图1
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3所示，碱性蚀刻直接电解氨气回用设备，包括氨气吸收模块1和二级射流模块10，所述氨气吸收模块1的内侧设有扰流板9与喷洒管架7，所述喷洒管架7上设有雾化螺旋喷嘴8，所述氨气吸收模块1的侧边设有氨气本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.碱性蚀刻直接电解氨气回用设备，包括氨气吸收模块(1)和二级射流模块(10)，其特征在于：所述氨气吸收模块(1)的内侧设有扰流板(9)与喷洒管架(7)，所述喷洒管架(7)上设有雾化螺旋喷嘴(8)，所述氨气吸收模块(1)的侧边设有氨气传送管(3)，所述氨气吸收模块(1)与二级射流模块(10)之间设有相互连通的低铜蚀刻子液传输管(4)，所述二级射流模块(10)的顶端设有密封顶盖(16)，所述密封顶盖(16)的顶端设有射流支架(12)，所述射流支架(12)的上方设有射流泵(13)，所述射流支架(12)的内侧设有三向射流连接管(14)，所述密封顶盖(16)的顶端穿设有尾气处理管(11)，所述二级射流模块(10)的侧边设有低铜蚀刻子液回抽管(15)。2.根据权利要求1所述的碱性蚀刻直接电解氨气回用设备，其特征在于：所述氨气吸收模块(1)的顶端设有防溅顶盖(2)，所述防溅顶盖(2)与氨气吸收模块(1)的接触位置以及密封顶盖(16)与二级射流模块(10)的接触位置均设有密封条。3.根据权利要求1所述的碱性蚀刻直接电解氨气回用设备，其特征在于：所述喷洒管架(7)与扰流板(9)分别位于氨气吸收模块(1)内部的上下两侧，且所述喷洒管架(7)与扰流板(9)均相互交错且等距...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐敏敏，周伟方，郝冬冬，
申请(专利权)人：苏州鑫属源环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：