便于镭雕U盘侧面的镭雕设备制造技术

技术编号:39108429 阅读:10 留言:0更新日期:2023-10-17 10:56
本实用新型专利技术公开一种便于镭雕U盘侧面的镭雕设备,包括有机架、控制模块、输送机构以及镭雕机构;该机架具有镭雕空间;该控制模块设置在机架上;该输送机构设置在机架上并与控制模块连接,且该输送机构贯穿镭雕空间;该镭雕机构设置在机架上并与控制模块连接,该镭雕机构具有镭雕头,该镭雕头位于镭雕空间的上方;该输送机构的输入端设置有螺旋导轨。通过设置有螺旋导轨,该螺旋导轨具有输入口与输出口,该输入口与输出口均与U盘相适配,该输入口呈横向延伸的条状,该输出口呈纵向延伸的条状,输入口与组装设备的出料端连通,平放的U盘从输入口进入螺旋导轨,使得U盘从输出口送出时呈侧立状态,无需人工将U盘侧立,提高效率,降低人工成本。人工成本。人工成本。

【技术实现步骤摘要】
便于镭雕U盘侧面的镭雕设备


[0001]本技术涉及镭雕设备领域技术,尤其是指一种便于镭雕U盘侧面的镭雕设备。

技术介绍

[0002]U盘是USB盘的简称,据谐音也称“优盘”。U盘是闪存的一种,故有时也称作闪盘。U盘与硬盘的最大不同是,它不需物理驱动器,即插即用,且其存储容量远超过软盘,极便于携带。U盘集磁盘存储技术、闪存技术及通用串行总线技术于一体。USB的端口连接电脑,是数据输入/输出的通道;主控芯片使计算机将U盘识别为可移动磁盘,是U盘的“大脑”;U盘Flash(闪存)芯片保存数据,与计算机的内存不同,即使在断电后数据也不会丢失;PCB底板将各部件连接在一起,并提供数据处理的平台。
[0003]在现有的U盘生产中,大多厂家都会将U盘的一些信息或品牌的商标通过镭雕的方式镭雕在U盘上,一般都会在U盘的正面和U盘的其中一个侧面进行镭雕。而U盘通过自动化设备组装完成后,出料时U盘是平放的,需要人工将U盘侧立,使得镭雕机可以对U盘的侧面进行镭雕。但是,通过人工摆放U盘的方式效果慢,且人工成本高。因此,有必要提出一种新的方案对上述问题进行改进。

技术实现思路

[0004]有鉴于此,本技术针对现有技术存在之缺失,其主要目的是提供一种便于镭雕U盘侧面的镭雕设备,其能有效解决镭雕机对U盘侧面镭雕时需要人工将U盘侧立,导致效率慢、人工成本高的问题。
[0005]为实现上述目的,本技术采用如下之技术方案:
[0006]一种便于镭雕U盘侧面的镭雕设备,包括有机架、控制模块、输送机构以及镭雕机构;该机架具有一镭雕空间;该控制模块设置在机架上;该输送机构设置在机架上并与控制模块连接,且该输送机构贯穿镭雕空间;该镭雕机构设置在机架上并与控制模块连接,该镭雕机构具有镭雕头,该镭雕头位于镭雕空间的上方;该输送机构的输入端设置有螺旋导轨,该螺旋导轨具有输入口与输出口,该输入口与输出口均与U盘相适配,该输入口呈横向延伸的条状,该输出口呈纵向延伸的条状。
[0007]作为一种优选方案,所述螺旋轨道为两个,对应的,镭雕头亦为两个,使之可以同时对两个U盘进行镭雕。
[0008]作为一种优选方案,所述输送机构为传送带。
[0009]作为一种优选方案,所述输送机构上设置有调整杆,该调整杆靠近输送机构的输出端,该调整杆的主体位于输送机构的上方并与输送机构形成有通过空间,该通过空间的高度低于U盘的宽度且高于U盘的厚度,且该调整杆与输送机构的输送方向成有夹角,该夹角大于0
°
且小于90
°
;使得本设备出料时,U盘是平放的,输出机构的输出端可以直接与下一步对U盘进行正面镭雕的镭雕设备之输入端连通,无需人工对侧立的U盘平放。
[0010]作为一种优选方案,所述机架开设有通槽,该通槽连通镭雕空间,工作人员可以透
过通槽对镭雕空间的内部情况进行观察,可以看到镭雕是否到位。
[0011]作为一种优选方案,所述机架上设置有挡板,该挡板盖住镭雕空间的两侧,防止有风将侧立的U盘吹倒。
[0012]作为一种优选方案,所述挡板为可透光的材质,使得工作人员可以透过挡板对镭雕空间的内部情况进行观察,可以看到镭雕是否到位。
[0013]作为一种优选方案,所述输送机构上设置有支架组,该支架组包括有第一支架和第二支架,该第一支架靠近输送机构的输入端设置,该第二支架设置在第一支架和镭雕空间之间,该第一支架的高度高于第二支架的高度,该螺旋导轨设置在支架组上,该输入口靠近于第一支架,该输出口靠近于第二支架,利用重力,使得本设备进料的速度更加快。
[0014]本技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果,具体而言,由上述技术方案可知:
[0015]通过设置有螺旋导轨,该螺旋导轨具有输入口与输出口,该输入口与输出口均与U盘相适配,该输入口呈横向延伸的条状,该输出口呈纵向延伸的条状,输入口与组装设备的出料端连通,平放的U盘从输入口进入螺旋导轨,使得U盘从输出口送出时呈侧立状态,无需人工将U盘侧立,提高效率,降低人工成本。
[0016]为更清楚地阐述本技术的结构特征和功效,下面结合附图与具体实施例来对本技术进行详细说明:
附图说明
[0017]图1是本技术之较佳实施例的组装立体示意图。
[0018]附图标识说明:
[0019]10、机架
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101、镭雕空间
[0020]102、通槽
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11、挡板
[0021]20、输送机构
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30、镭雕机构
[0022]40、螺旋导轨
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41、输入口
[0023]42、输出口
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50、调整杆
[0024]501、通过空间
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51、主体
[0025]60、支架组
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61、第一支架
[0026]62、第二支架。
具体实施方式
[0027]请参照图1所示,其显示出了本技术之较佳实施例的具体结构,包括有机架10、控制模块(图中未示)、输送机构20以及镭雕机构30。
[0028]该机架10具有一镭雕空间101;在本实施例中,该机架10开设有通槽102,该通槽102连通镭雕空间101,工作人员可以透过通槽102对镭雕空间101的内部情况进行观察,可以看到镭雕是否到位;另外,该机架10上设置有挡板11,该挡板11盖住镭雕空间101的两侧,防止有风将侧立的U盘吹倒;并且,该挡板11为可透光的材质,使得工作人员可以透过挡板对镭雕空间101的内部情况进行观察,可以看到镭雕是否到位。
[0029]该控制模块设置在机架10上。
[0030]该输送机构20设置在机架10上并与控制模块连接,且该输送机构20贯穿镭雕空间101,该输送机构20的输入端设置有螺旋导轨40,该螺旋导轨40具有输入口41与输出口42,该输入口41与输出口42均与U盘相适配,该输入口41呈横向延伸的条状,该输出口42呈纵向延伸的条状;在本实施例中,该输送机构20上设置有调整杆50,该调整杆50靠近输送机构20的输出端,该调整杆50的主体51位于输送机构20的上方并与输送机构20形成有通过空间501,该通过空间501的高度低于U盘的宽度且高于U盘的厚度,且该调整杆50与输送机构20的输送方向成有夹角,该夹角大于0
°
且小于90
°
;使得本设备出料时,U盘是平放的,输出机构20的输出端可以直接与下一步对U盘进行正面镭雕的镭雕设备之输入端连通,无需人工对侧立的U盘平放;另外,该输送机构20为传送带,且该螺旋轨道40为两个;以及,该输送机构20上设置有支架组60,该支架组60包括有第一支架61和第二支架62,该第一支架61靠近输送机构20的输入端设置,该第二支架62设置在第本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种便于镭雕U盘侧面的镭雕设备,包括有机架、控制模块、输送机构以及镭雕机构;该机架具有一镭雕空间;该控制模块设置在机架上;该输送机构设置在机架上并与控制模块连接,且该输送机构贯穿镭雕空间;该镭雕机构设置在机架上并与控制模块连接,该镭雕机构具有镭雕头,该镭雕头位于镭雕空间的上方;其特征在于:该输送机构的输入端设置有螺旋导轨,该螺旋导轨具有输入口与输出口,该输入口与输出口均与U盘相适配,该输入口呈横向延伸的条状,该输出口呈纵向延伸的条状。2.根据权利要求1所述的便于镭雕U盘侧面的镭雕设备,其特征在于:所述螺旋轨道为两个,对应的,镭雕头亦为两个。3.根据权利要求1所述的便于镭雕U盘侧面的镭雕设备,其特征在于:所述输送机构为传送带。4.根据权利要求3所述的便于镭雕U盘侧面的镭雕设备,其特征在于:所述输送机构上设置有调整杆,该调整杆靠近输送机构的输出端,该调整杆的主体位于输送机构的上方并与输送机构形成有通...

【专利技术属性】
技术研发人员:赖木孝
申请(专利权)人:深圳市鹏士威科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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