一种涂玻璃后沉淀设备制造技术

本实用新型专利技术属于半导体器件加工辅助设备技术领域，尤其涉及一种涂玻璃后沉淀设备，包括便于玻璃浆后沉淀的沉淀设备本体，所述沉淀设备本体包括升降工作台，所述升降工作台上设置有震动区，所述震动区包括原料震动区和半成品震动区，所述原料震动区包括第一震动组件，所述第一震动组件的上端设置有原料载盘，所述半成品震动区包括安装板，所述安装板的下端设置有第二震动组件，与所述第二震动组件相对应的安装板的上端设置有半成品载盘，与所述安装板相接触的升降工作台内设置有橡胶垫圈，与所述定位杆相对应的安装板上设置有锁止机构。本实用新型专利技术有效改善涂玻璃浆后充分排除气泡所造成的玻璃边孔问题，使填充更为密实、饱满，满足使用需求。足使用需求。足使用需求。

【技术实现步骤摘要】
一种涂玻璃后沉淀设备


[0001]本技术属于半导体器件加工辅助设备
，尤其涉及一种涂玻璃后沉淀设备。

技术介绍

[0002]在半导体器件中，二极管是最简单也是最基础的器件，随着电子电路应用的多样化，器件的功能页需要随之多样化，比如许多高频电路要求开关速度快、功率大、漏电流小等优点，目前应用于此类电路的二极管主要是快恢复二极管，快恢复二极管具有反向恢复时间短、开关特性好、工作电流大、反向漏电小等特点，被广泛应用于脉宽调制器、交流电机变频调速器、开关电源、不间断电源等装置中，作高频、高压、大电流整流、续流及保护作用。
[0003]二极管芯片制造过程中有多重生产工艺，其中GPP玻璃钝化工艺是重要的一种芯片制造工艺，具有较高的可靠性和稳定性,被广泛应用在高反压大功率二极管的台面钝化,方法主要有刀刮法、光阻法和电泳法等，而玻璃作为半导体器件的钝化材料之一，具有制程简单、质量稳定的优势；目前，对于上述的制造工艺中的刀刮工艺而言来说，其中，一方面涂玻璃是作为GPP工艺重要的一环，其能确保芯片电性的良率，另一方面来说，对于待涂的玻璃浆的均匀性与稳定性也是至关重要的，也就是说，玻璃浆填充是否饱满、匀对芯片电性良率影响明显；现有技术中，玻璃浆在涂抹完成后，通常是将工件进行静止沉淀，由于缺少与之相适配的辅助沉淀设备，使得工件实际生产的玻璃浆在后沉淀过程中，会存有部分气泡无法排出的可能，填充不够密实、饱满，从而使玻璃填充缺陷而导致工件电性异常，影响工件成型品质，且工作进程缓慢，耗费时间成本，不能较好的满足生产使用需求。
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技术实现思路

[0004]本技术针对上述所存在的技术问题，提出一种设计合理、结构简单、加工方便且具有良好的使用功能性，有效改善涂玻璃浆后充分排除气泡所造成的玻璃边孔的问题，增加填充的密实性和饱满性，保障工件成型品质，提高工作进程，满足生产使用需求的一种涂玻璃后沉淀设备。
[0005]为了达到上述目的，本技术采用的技术方案为一种涂玻璃后沉淀设备，包括便于玻璃浆后沉淀的沉淀设备本体，所述沉淀设备本体包括升降工作台，所述升降工作台上设置有震动区，所述震动区包括原料震动区和半成品震动区，所述原料震动区包括第一震动组件，所述第一震动组件的上端设置有原料载盘，所述半成品震动区包括安装板，所述安装板的下端设置有第二震动组件，与所述第二震动组件相对应的安装板的上端设置有半成品载盘，与所述安装板相接触的升降工作台内设置有橡胶垫圈，所述橡胶垫圈上设置有定位杆，与所述定位杆相对应的安装板上设置有锁止机构，所述升降工作台上端的后方设置有控制箱。
[0006]作为优选，所述半成品载盘的内侧开设有呈阶梯状设计的环槽，所述半成品载盘的外周开设有豁口。
[0007]作为优选，所述升降工作台包括载板，所述载板后方的下端设置有升降杆，所述升降杆包括内外设计的定位管和与载板相连接的升降管，所述载板下端的前方设置有驱动机构。
[0008]作为优选，所述驱动机构包括横跨在载板下方设置的转轴，所述转轴的两端均设置有第一锥齿轮，所述定位管内设置有传动丝杆，所述传动丝杆的上端设置有第二锥齿轮，所述载板的下端设置有转杆，所述转杆的一侧设置有第三锥齿轮，且与第二锥齿轮相啮合，所述转杆的另一侧设置有转把。
[0009]作为优选，所述锁止机构包括安装在安装板内的套管，所述套管上端的内侧设置有螺旋齿，所述套管内设置有与螺旋齿相转动啮合的锁紧盘，位于所述锁紧盘下方的套管内设置有卡紧件。
[0010]与现有技术相比，本技术的优点和积极效果在于，
[0011]1、本技术提供的一种涂玻璃后沉淀设备，通过设置的震动区，利用原料震动区可对生产加工使用的玻璃浆物料进行常规震荡避免沉淀，确保玻璃浆原料的均匀性与一致性，利用半成品震动区以实现对涂玻璃浆后晶圆的便捷承载，并借助第二震动区实现对其的震荡，从而使得玻璃浆内微小气泡的去除确保填充更加密实、饱满，提升工件的成型品质；通过设置的升降工作台和驱动机构，实现对设备使用所处高度的自由调整，满足不同的使用需求；通过设置锁止机构，操作简单便利，为人们对设备组件的安装与检修拆卸提供了便利性，节约时间成本，提高工作进程；本装置设计合理、结构简单、加工方便且具有良好的使用功能性，有效改善涂玻璃浆后充分排除气泡所造成的玻璃边孔的问题，增加填充的密实性和饱满性，保障工件成型品质，提高工作进程，满足生产使用需求。
附图说明
[0012]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0013]图1为一种涂玻璃后沉淀设备的部分结构爆炸示意图；
[0014]图2为一种涂玻璃后沉淀设备的结构正视图；
[0015]图3为一种涂玻璃后沉淀设备的部分内部结构侧视图；
[0016]图4为半成品载盘的结构示意图；
[0017]图5为锁止机构的部分内部结构示意图；
[0018]以上各图中，1、升降工作台；11、载板；12、定位管；13、升降管；2、原料震动区；21、第一震动组件；22、原料载盘；3、半成品震动区；31、安装板；32、第二震动组件；33、半成品载盘；331、环槽；332、豁口；4、橡胶垫圈；41、定位杆；5、锁止机构；51、套管；511、螺旋齿；52、锁紧盘；53、卡紧件；6、驱动机构；61、转轴；62、第一锥齿轮；63、传动丝杆；64、第二锥齿轮；65、转杆；66、第三锥齿轮；67、转把；7、控制箱。
具体实施方式
[0019]为了能够更清楚地理解本技术的上述目的、特征和优点，下面结合附图和实
施例对本技术做进一步说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0020]在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术，但是，本技术还可以采用不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本技术并不限于下面公开说明书的具体实施例的限制。
[0021]实施例，如图1、图2、图3、图4、图5所示，一种涂玻璃后沉淀设备，包括便于玻璃浆后沉淀的沉淀设备本体，沉淀设备本体包括升降工作台1，其能够由人工进行自由控制升降，方便根据不同的使用需求进行自由调整，保证生产加工工作的有效进行；为了有效完成对玻璃浆的震荡动作，升降工作台1上设置有震动区，震动区包括原料震动区2和半成品震动区3，原料震动区2包括第一震动组件21，第一震动组件21的上端设置有原料载盘22，便于承载有玻璃浆的工件进行限位放置，半成品震动区3包括安装板31，安装板31的下端设置有第二震动组件32，与第二震动组件32相对应的安装板31的上端设置有半成品载盘33，便于涂完玻璃浆后晶圆的有效放置，具体描述为：其中，第一震动组件21和第二震动组件32均包括有承载箱体(图中未示出)，承载箱体内设置有超声本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂玻璃后沉淀设备，包括便于玻璃浆后沉淀的沉淀设备本体，其特征在于，所述沉淀设备本体包括升降工作台，所述升降工作台上设置有震动区，所述震动区包括原料震动区和半成品震动区，所述原料震动区包括第一震动组件，所述第一震动组件的上端设置有原料载盘，所述半成品震动区包括安装板，所述安装板的下端设置有第二震动组件，与所述第二震动组件相对应的安装板的上端设置有半成品载盘，与所述安装板相接触的升降工作台内设置有橡胶垫圈，所述橡胶垫圈上设置有定位杆，与所述定位杆相对应的安装板上设置有锁止机构，所述升降工作台上端的后方设置有控制箱。2.根据权利要求1所述的一种涂玻璃后沉淀设备，其特征在于，所述半成品载盘的内侧开设有呈阶梯状设计的环槽，所述半成品载盘的外周开设有豁口。3.根据权利要求2所述的一种涂玻璃后...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘川立，魏兴政，
申请(专利权)人：济南兰星电子有限公司，
类型：新型
国别省市：