一种坐标检测装置包括：电阻膜，形成在基片上；和共用电极，形成在电阻膜上，用来将电压施加到电阻膜上。坐标检测装置通过将电压从共用电极施加到电阻膜上而在电阻膜中产生电位分布，并且通过检测电阻膜接触位置的电位而检测电阻膜接触位置的坐标。基片由正方形形状的绝缘体形成。共用电极沿基片的边缘部分形成。在共用电极下方的电阻膜具有其中电阻膜不存在的一个或多个区域。其中电阻膜不存在的Ｌ形电阻膜缺少区域提供在基片的一个或多个角部中，并且在共用电极的与其中基片中心位于的侧相同的侧上。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种坐标检测装置。
技术介绍
触摸面板例如已经用作用于计算机系统的输入装置。安装在显示 器上的触摸面板可检测显示器上的坐标位置，并且得到与坐标位置相 对应的检测信号。触摸面板允许数据的直接、容易、及直观输入。已经提出有各种类型的触摸面板，如电阻型、光学型、及电容耦 合型触摸面板。主要使用具有简单结构和控制系统的电阻触摸面板。 作为电阻触摸面板，依据在电阻膜上电极的排列，有四-导线型、五-导线型、八-导线型触摸面板等。在这些中，在五-导线型触摸面板中，在操作表面侧上提供的顶 部基片的导电膜被简单地只用于读出电位，这与四-导线型和八-导线 型电阻触摸面板不同。因而，五-导线型触摸面板不具有边缘滑动的问 题，边缘滑动是四-导线型和八-导线型触摸面板的缺陷。因此，五-导 线型触摸面板已经用于在严酷使用环境中或长时间上要求耐久性的 市场中。图12是五-导线型电阻触摸面板的构造图。五-导线型电阻触摸 面板1由顶部基片11和底部基片12形成。作为底部基片12，透明电 阻膜22形成在玻璃基片21的整个表面上。在透明电阻膜22上，形 成X-轴坐标检测电极23和24、和Y-轴坐标检测电极25和26。作为 顶部基片11，透明电阻膜32形成在膜基片31上。坐标检测电极33 形成在透明电阻膜32上。首先，通过将电压施加到X-轴坐标检测电极23和24上，在底 部基片12的透明电阻膜22的X-轴方向上产生电位分布。在这时，通过检测底部基片12的透明电阻膜22的电位，可检测底部基片12与 顶部基片11的接触位置的X-坐标。其次，通过将电压施加到Y-轴坐 标检测电极25和26上，在底部基片12的透明电阻膜22中Y-轴方向 上产生电位分布。在这时，通过检测底部基片12的透明电阻膜22的 电位，可检测底部基片12与顶部基片11的接触位置的Y-坐标。在这种情况下，在这样一种类型的触摸面板中，有在底部基片 12的透明电阻膜22中如何产生均匀电位分布的问题。为了在底部基 片12的透明电阻膜22中产生均匀电位分布， 一种在周缘中提供多级 电位分布校正图案的方法公开在专利文件1中。另外，专利文件2公开了一种将共用电极提供成围绕输入表面的 周缘的方法。专利文件3公开了 一种在透明电阻膜上提供的绝缘膜中 形成开口和通过开口施加电位的方法。专利文件1:日本专利申请公报No. 10-83251 专利文件2:日本专利申请公报No. 2001-125724 专利文件3:日本专利申请公报No. 2007-25904 响应坐标输入装置安装到其上的装置的尺寸减小等，要求坐标输 入装置在框架尺寸方面较窄。然而， 一直难以用较窄框架形成专利文 件l中公开的坐标输入装置，因为在周缘中必须提供多级电位分布图 案。况且，通过如专利文件2中公开的那样提供围绕输入表面周缘的 共用电极的方法，已经有如下问题透明电阻膜的电位分布成为不均 匀的，除非增大在透明电阻膜与图案电阻之间的电阻比值。此外，尽管上述两个问题可通过如专利文件3中公开的那样在形 成的绝缘膜中提供开口的方法而解决，但制造过程在这种情况下变得 复杂。具体地说，已经有如下一些情形在制造过程中引起的材料和 电阻值的变化，成为降低希望产品性能的生产率的因素。
技术实现思路
鉴于以上情况已经形成本专利技术，并且本专利技术可以提供一种坐标检测装置，该坐标检测装置能够形成有较窄框架，并且改进坐标位置的 检测精度。根据本专利技术的一个方面，坐标检测装置包括电阻膜，形成在基 片上；和共用电极，形成在电阻膜上，用来将电压施加到电阻膜上。 坐标检测装置构造成通过将电压从共用电极施加到电阻膜上而在电 阻膜中产生电位分布，并且构造成通过检测电阻膜接触位置的电位而 检测电阻膜接触位置的坐标。基片由正方形形状的绝缘体形成。共用 电极沿基片的边缘部分形成。在共用电极下方的电阻膜具有其中电阻 膜不存在的一个或多个电阻膜缺少区域(更好的是，将这些叫做"无 电阻膜区域")。其中电阻膜不存在的L形电阻膜缺少区域提供在基 片的正方形形状的一个或多个角部中，并且在共用电极的与其中基片 中心位于的侧相同的侧上。根据本专利技术的另一个方面，坐标检测装置包括电阻膜，形成在 基片上；和共用电极，形成在电阻膜上，用来将电压施加到电阻膜上。 坐标检测装置构造成通过将电压从共用电极施加到电阻膜上而在电 阻膜中产生电位分布，并且构造成通过检测电阻膜接触位置的电位而 检测电阻膜接触位置的坐标。基片由正方形形状的绝缘体形成。共用 电极沿基片的边缘部分形成。其中电阻膜不存在的第一电阻膜缺少区 域提供成与共用电极相邻，并且在共用电极的与其中基片中心位于的 侧相同的侧上。在共用电极和第一电阻膜缺少区域的相邻侧之间的空 隙是0 mm至5 mm。 L形第二电阻膜缺少区域提供在基片的正方形 形状的一个或多个角部中，并且在共用电极的与其中基片中心位于的 侧相同的侧上。附图说明图l是坐标检测装置的系统构造图； 图2A至2E是面板单元111的构造图3A和3B是平面图，每个表示第一电阻膜缺少区域133的实 质部分；6图4A至4C是每个表示L形电阻膜缺少区域(第二电阻膜缺少 区域)233的图5A和5B是顶部基片122的构造图； 图6是接口板112的处理流程图7A和7B是每个表示底部基片121的电位分布的状态的图； 图8A至8F是表示底部基片121的制造步骤的图； 图9A至9E是第二实施例的面板单元的构造图； 图10是平面图，表示第二电阻膜缺少区域233的实质部分； 图IIA至IIC是表示第二实施例的L形电阻膜缺少区域(第二 电阻膜缺少区域)233的图；及图12是五-线型电阻触摸面板的构造图。具体实施例方式其次，下面描述本专利技术的优选实施例。 描述本专利技术的第 一 实施例。这个实施例涉及坐标检测装置。 (系统构造)图1表示这个实施例的坐标检测装置的系统构造。在这个实施例 中，所谓的五-导线型模拟电阻触摸面板被描述为坐标输入系统100。 这个实施例的坐标输入系统100由面板单元111和接口板112形成。面板单元111包括底部基片121、顶部基片122、垫片123、及 FPC电缆124。底部基片121和顶部基片122被粘合在一起，使垫片 123插入在它们之间。由绝缘双面带等形成的垫片123粘合底部基片 121和顶部基片122，同时在底部基片121与顶部基片122之间提供 预定空隙。而且，FPC电缆124由在柔性印刷基片上形成的第一至第 五导线形成。FPC电缆124例如通过由热压而接合各向异性导电膜等 被连接到底部基片121上。 (底部基片121)其次，参照图2A至2E描述底部基片121的构造。图2A是底部基片121的平面图，图2B是沿在图2A中的线A-A得到的横截面图， 图2C是沿在图2A中的线B-B得到的横截面图，图2D是沿在图2A 中的线C-C得到的横截面图，及图2E是沿在图2A中的线D-D得到 的横截面图。底部基片121由玻璃基片131、透明电阻膜132、电阻膜缺少区 域133、共用电极134、第一绝缘膜135、导线136、及第二绝缘膜137 形成。透明电阻膜132形成在玻璃基片131的几乎整个表面上。透明 电阻膜132通过诸如真空镀积之类的方法由例如ITO (铟锡氧化物) 形成。透明电阻膜132透本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种坐标检测装置，包括： 电阻膜，形成在基片上；和 共用电极，形成在电阻膜上，用来将电压施加到电阻膜上， 所述坐标检测装置构造成通过将电压从共用电极施加到电阻膜上而在电阻膜中产生电位分布，并且构造成通过检测电阻膜接触位置的 电位而检测电阻膜接触位置的坐标， 其中，基片由正方形形状的绝缘体形成； 共用电极沿基片的边缘部分形成； 在共用电极下方的电阻膜具有其中电阻膜不存在的一个或多个电阻膜缺少区域；及 其中电阻膜不存在的Ｌ形电阻膜缺少区域提 供在基片的正方形形状的一个或多个角部中，并且在共用电极的与其中基片中心位于的侧相同的侧上。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：近藤幸一，
申请(专利权)人：富士通电子零件有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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