本申请涉及一种晶圆片研磨抛光设备,属于晶圆片生产的技术领域,其包括底座,所述底座上设有抛光机构及夹持固定机构,所述夹持固定机构设置在所述抛光机构底部,所述底座内部设有抽真空泵,所述夹持固定机构包括支撑管,所述支撑管竖直固定在所述底座内,所述支撑管上连接有抽真空管,所述抽真空管与所述抽真空泵相连通,所述支撑管顶部连通有聚风罩。本申请采用新型的夹持固定机构,利用抽真空泵经支撑管将聚风罩内部抽成真空,从而可以经透气孔将晶圆片牢牢地吸附在摆放台上,吸附效果好,夹持过程简便,极大地提高了生产效率。极大地提高了生产效率。极大地提高了生产效率。
【技术实现步骤摘要】
晶圆片研磨抛光设备
[0001]本申请涉及晶圆片生产的
,尤其是涉及一种晶圆片研磨抛光设备。
技术介绍
[0002]晶圆片的由来,是先将二氧化矽经过纯化、溶解和蒸馏之后,制成矽晶棒,晶棒切片后形成晶圆片,然后对其进行研磨抛光。
[0003]目前,在晶圆片生产行业中,传统的晶圆片研磨设备,是使用石蜡将晶圆片粘贴在夹具上,然后在研磨设备下,对晶圆片进行打磨,在晶圆片打磨完毕后,需要人工手动将其取下,如此,增加人们的劳动强度,影响生产效率,无法满足现在市场的需求。
[0004]因此,亟需改良并设计一种具有快速夹紧功能的抛光设备。
技术实现思路
[0005]本申请的目的在于提供一种晶圆片研磨抛光设备,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的,本申请提供一种晶圆片研磨抛光设备采用如下的技术方案:
[0007]一种晶圆片研磨抛光设备,包括底座,所述底座上设有抛光机构及夹持固定机构,所述夹持固定机构设置在所述抛光机构底部,所述底座内部设有抽真空泵,所述夹持固定机构包括支撑管,所述支撑管竖直固定在所述底座内,所述支撑管上连接有抽真空管,所述抽真空管与所述抽真空泵相连通,所述支撑管顶部连通有聚风罩,所述聚风罩顶部设有摆放台,所述摆放台水平固定在所述聚风罩顶端,所述摆放台表面开设有若干透气孔,且所述摆放台的表面为光滑面。
[0008]所述抛光机构包括支架,所述支架固定在所述底座上,所述支架上竖直转动连接有丝杠,所述支架上安装有用于驱动所述丝杠转动的伺服电机,所述支架上滑移连接有升降块,所述升降块螺纹连接在所述丝杠上,所述升降块上竖直安装有驱动电机,所述驱动电机的输出轴上固定有安装块,所述安装块底端安装有打磨块。
[0009]优选的,所述驱动电机上安装有连接座,所述连接座底端四角固定有弹簧,所述弹簧底端固定在所述升降块上,所述弹簧内部设有伸缩套管。
[0010]通过采用上述技术方案,弹簧可以给抛光机构提供一定的缓冲能力,避免高速转动的打磨石在与晶圆片接触的瞬间,对其造成损伤。
[0011]优选的,所述夹持固定机构中还设有起料组件,所述起料组件包括气缸,所述气缸安装在所述支撑管内部,所述气缸的活塞杆顶部固定有顶块,所述顶块表面设有橡胶垫,所述摆放台对应所述顶块的位置开设有让位槽。
[0012]通过采用上述技术方案,气缸通过顶块将晶圆片顶起,可以方便于工作人员取出晶圆片,极大地提高了生产效率。
[0013]优选的,所述聚风罩侧壁设有进气管,所述进气管的进气口处安装有阀门。
[0014]通过采用上述技术方案,在起料组件工作时,阀门打开可以确保聚风罩内部气流
流通,方便于顶起晶圆片,避免聚风罩内部气压较低,顶坏晶圆片。
[0015]综上所述,本申请包括以下至少一种有益技术效果:该晶圆片研磨抛光设备采用新型的夹持固定机构,利用抽真空泵经支撑管将聚风罩内部抽成真空,从而可以经透气孔将晶圆片牢牢地吸附在摆放台上,吸附效果好,夹持过程简便,极大地提高了生产效率;
[0016]同时,夹持固定机构中还设有起料组件,在抛光结束后,抽真空泵停止工作,进气管中的阀门打开,气缸工作将顶块升起,顶块可以将晶圆片顶起,方便于工作人员取出晶圆片,在提高生产效率的基础上,还能减轻工作人员的劳动强度。
附图说明
[0017]图1是本申请实施例的整体结构示意图。
[0018]图2是本申请实施例中隐藏摆放台状态下的结构示意图。
[0019]图3是本申请实施例中用于体现摆放台的结构示意图。
[0020]附图标记说明:1、底座;2、抛光机构;21、支架;22、丝杠;23、伺服电机;24、升降块;25、驱动电机;26、打磨块;27、连接座;28、弹簧;3、夹持固定机构;31、支撑管;32、聚风罩;321、进气管;33、摆放台;331、透气孔;332、让位槽;34、气缸;35、顶块。
具体实施方式
[0021]以下结合附图1
‑
3对本申请作进一步详细说明。
[0022]本申请实施例公开一种晶圆片研磨抛光设备,参照图1
‑
3,包括底座1,底座1上设有抛光机构2及夹持固定机构3,夹持固定机构3设置在抛光机构2底部,抛光机构2包括支架21,支架21固定在底座1上,支架21上竖直转动连接有丝杠22,支架21上安装有用于驱动丝杠22转动的伺服电机23,支架21上滑移连接有升降块24,升降块24螺纹连接在丝杠22上,升降块24上竖直安装有驱动电机25,驱动电机25的输出轴上固定有安装块,安装块底端安装有打磨块26。
[0023]底座1内部设有抽真空泵,夹持固定机构3包括支撑管31,支撑管31竖直固定在底座1内,支撑管31上连接有抽真空管,抽真空管与抽真空泵相连通,支撑管31顶部连通有聚风罩32,聚风罩32顶部设有摆放台33,摆放台33水平固定在聚风罩32顶端,摆放台33表面开设有若干透气孔331,且摆放台33的表面为光滑面,为了提高安装效率,可以设置成打磨块26的正投影面积大于摆放台33的正投影面积;
[0024]夹持固定机构3中还设有起料组件,起料组件包括气缸34,气缸34安装在支撑管31内部,气缸34的活塞杆顶部固定有顶块35,顶块35表面设有橡胶垫,摆放台33对应顶块35的位置开设有让位槽332,聚风罩32侧壁设有进气管321,进气管321的进气口处安装有阀门。
[0025]参照图1,驱动电机25上安装有连接座27,连接座27底端四角固定有弹簧28,弹簧28底端固定在升降块24上,弹簧28内部设有伸缩套管,弹簧28可以给抛光机构2提供一定的缓冲能力,避免高速转动的打磨石在与晶圆片接触的瞬间,对其造成损伤。
[0026]本申请实施例一种晶圆片研磨抛光设备的实施原理为:
[0027]在使用时,工作人员只需将晶圆片放置在摆放台33表面即可(晶圆片略大于摆放台33,吸附效果最佳,且抛光过程中,不易对晶圆片边缘处造成压损),抽真空泵工作,经支撑管31将聚风罩32内部抽成真空,从而可以经透气孔331将晶圆片牢牢地吸附在摆放台33
上,此时抛光机构2中的伺服电机23工作驱动打磨块26下降,并对晶圆片进行抛光打磨;
[0028]抛光结束后,抽真空泵停止工作,进气管321中的阀门打开,气缸34工作将顶块35升起,顶块35可以将晶圆片顶起,方便于工作人员取出晶圆片。
[0029]以上均为本申请的较佳实施例,并非依此限制本申请的保护范围,故:凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本申请的保护范围之内。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种晶圆片研磨抛光设备,包括底座(1),所述底座(1)上设有抛光机构(2)及夹持固定机构(3),所述夹持固定机构(3)设置在所述抛光机构(2)底部,其特征在于:所述底座(1)内部设有抽真空泵,所述夹持固定机构(3)包括支撑管(31),所述支撑管(31)竖直固定在所述底座(1)内,所述支撑管(31)上连接有抽真空管,所述抽真空管与所述抽真空泵相连通,所述支撑管(31)顶部连通有聚风罩(32),所述聚风罩(32)顶部设有摆放台(33),所述摆放台(33)水平固定在所述聚风罩(32)顶端,所述摆放台(33)表面开设有若干透气孔(331),且所述摆放台(33)的表面为光滑面。2.根据权利要求1所述的晶圆片研磨抛光设备,其特征在于:所述抛光机构(2)包括支架(21),所述支架(21)固定在所述底座(1)上,所述支架(21)上竖直转动连接有丝杠(22),所述支架(21)上安装有用于驱动所述丝杠(22)转动的伺服电机(23),所述支架(21)上滑移连接有升降块(24),所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙效中,
申请(专利权)人:常州旺童半导体科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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