一种用于TOPCON电池LPCVD双插工艺的碱抛添加剂及其加工设备制造技术

本发明专利技术公开了一种用于TOPCON电池LPCVD双插工艺的碱抛添加剂，其各组分的含量为：经过纳米均质机处理的0.01

【技术实现步骤摘要】
一种用于TOPCON电池LPCVD双插工艺的碱抛添加剂及其加工设备


[0001]本专利技术涉及硅片电池制备
，具体来说，涉及一种用于TOPCON电池LPCVD双插工艺的碱抛添加剂及其加工设备。

技术介绍

[0002]隧穿氧化层钝化接触太阳能电池即Topcon电池，主流生产技术路线分为PECVD和LPCVD；LPCVD路线有单插和双插工艺(在LPCVD工序段)，双插工艺产能翻倍设备成本和运营成本均可大幅降低，双插工艺如下问题存在：1、背面Poly磷扩散时，绕扩到正面的磷会使BSG变成BPSG；2、HF对BPSG的腐蚀速率很快，HF去除正面PSG时BPSG会被快速的腐蚀；3、碱抛去绕镀时，较薄的BPSG的区域无法阻挡碱腐蚀，导致绒面发白。LPCVD沉积膜不具备方向性，因电池片立于石英舟之上，氧化层及本征多晶硅层也同样会附着在电池片的侧面及正面，形成包裹，即“绕镀”现象。多余的隧穿层、掺杂多晶硅层必须被去除，因此后续需要引入“去绕镀”工艺，但LPCVD绕镀成为痛点的根本原因在于去绕镀较难控制，影响电池良率，清洗绕镀，可能导致去除不完全、或者掺杂多晶硅层遭刻蚀，影响电池效率。
[0003]针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种用于TOPCON电池LPCVD双插工艺的碱抛添加剂及其加工设备，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0006]一种用于TOPCON电池LPCVD双插工艺的碱抛添加剂，其各组分的含量为：经过纳米均质机处理的0.01
‑
0.1质量份的纳米材料催化剂、3
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8质量份的络合分散剂、1
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5质量份的无机盐、5
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8质量份的表面活性剂、78.9
‑
90.99质量份的去离子水。
[0007]进一步的，所述的纳米材料催化剂为纳米二氧化钛、纳米氧化锌、纳米硫化锌中的一种或两种以上组合。纳米材料催化剂能够起到光亮剂效果、分散均匀的目的，有助于后期清洗；所述的络合分散剂为苯甲酸钠、海藻酸钠、柠檬酸钠、乙二酸、酒石酸钠中的一种或两种以上组合。络合分散剂能够起到调节的作用；所述的无机盐为硫酸钠、硫酸钾、焦硫酸钠中的一种或两种以上组合；所述的表面活性剂为十二烷基二甲基甜菜碱、烷基萘磺酸钠盐、烷基糖苷十二烷基硫酸钠中的一种或两种以上组合。表面活性剂能够起到有效的保护效果。
[0008]采用上述添加剂抛光的TOPCON电池，清洗干净绕镀过来的polySi和少量BPSG，选择性保护了BSG，控制了碱腐蚀速率，均匀清洗腐蚀绕镀，没有色差外观不良等问题，实现了双插工艺与单插工艺电池效率持平，而产能翻倍，成本降低，本专利技术重点有选择性保护了BSG的效果，从而解决双插工艺和外观问题。
[0009]一种使用上述的碱抛添加剂的应用工艺，包括如下步骤：
[0010]a.将准备好的TOPCON电池硅片进行上料，对硅片外表面进行保护；
[0011]b.将完成步骤a的硅片放入碱性溶液进行预清洗，去除硅片表面酸残留物及其它溶于碱的杂质；
[0012]c.将完成步骤b的硅片放入去离子水中清洗；
[0013]d.将完成步骤c的硅片放入配置好的去绕镀槽液中进行抛光；
[0014]e.将完成步骤d的硅片放入去离子水中清洗；
[0015]f.将完成步骤e的硅片放入放入酸性溶液中进行清洗，去除硅片正面PSG和硅片表面碱残留；
[0016]g.将完成步骤f的硅片放入去离子水中清洗；
[0017]h.将完成步骤g的硅片进行烘干，然后下料。
[0018]一种用于生产上述碱抛添加剂的加工设备，包括底座板，所述底座板的顶部设有搅拌桶和立柱，所述立柱的顶端端部固定安装有横杆，所述横杆的端部设有动力机构，所述动力机构的输出端连接有传动机构，所述传动机构设于搅拌桶上方，所述传动机构的底端端部安装有旋转板，所述旋转板的底部安装有搅拌机构，所述搅拌机构设于搅拌桶内部，所述横杆的端部固定安装有竖板，所述竖板的顶端端部固定安装有横板，所述横板的底部设有加强筋，所述横板的顶部固定安装有加强杆，所述加强杆朝向动力机构的一端固定安装有机座，所述传动机构固定安装在竖板的侧壁上，所述动力机构包括固定安装在机座上的电机，所述电机的底部动力连接有减速器，所述减速器的输出轴与传动机构相连接，所述搅拌机构包括第一搅拌桨和第二搅拌桨，所述第一搅拌桨固定安装在旋转板的底端中心上，所述第二搅拌桨安装在旋转板的底部外侧，所述第二搅拌桨环绕第一搅拌桨设置，所述第二搅拌桨旋转安装在旋转板底部，所述旋转板的顶部还安装有用于对第二搅拌桨进行转动调节的调节机构。
[0019]进一步的，所述传动机构包括外壳，所述外壳的顶部固定安装有顶盖板，所述外壳的内部一侧设有第一转轴，所述第一转轴与减速器的输出轴动力连接，所述第一转轴外部固定安装有第一齿轮，所述外壳的内部远离第一转轴的一侧设有第二转轴，所述第二转轴的外部固定安装有第二齿轮，所述第二齿轮与第一齿轮相啮合，所述外壳的底部转动安装有旋转底壳，所述旋转底壳固定安装在第二转轴的底端端部，所述旋转底壳与第二转轴同轴心设置，所述旋转底壳的内部一侧转动安装有第三转轴，所述第三转轴的顶部固定安装有第三齿轮，所述外壳的底部还固定安装有内齿圈，所述内齿圈套设与第二转轴的外部，所述第三齿轮与内齿圈相啮合，所述旋转板固定安装在第三转轴的底端端部上。
[0020]进一步的，所述第一搅拌桨包括第一搅拌轴，所述第一搅拌轴固定安装在旋转板的底部中心上，所述第一搅拌轴的侧壁上固定安装有搅拌杆，所述第一搅拌轴的侧壁上螺旋设置有内桨叶，所述第一搅拌轴的外部环绕有螺旋设置的外桨叶，外桨叶与搅拌杆的端部固定连接，且搅拌轴的底端端部还设有底部桨叶，所述第二搅拌桨包括连接块，所述连接块安装在调节机构底部，所述连接块的底部固定安装有安装架，所述安装架的底部固定安装有桨叶板，所述桨叶板上开设有安装孔，所述安装孔内转动安装有辅助搅拌桨，相邻两个安装孔之间开设有长条孔，所述长条孔内安装有斜插板，所述桨叶板远离第一搅拌桨的一侧设有刮板，所述刮板通过连接柱固定安装在桨叶板外侧。
[0021]进一步的，所述旋转板的外侧绕着中心均匀开设有装配孔，所述调节机构包括转
动块，所述转动块贯穿装配孔设置，所述转动块转动安装在装配孔内，所述第二搅拌桨通过连接块固定安装在转动块底部，所述转动块的顶部固定安装有曲柄杆，所述曲柄杆远离转动块的一端端部铰接连接有连接杆，所述连接杆远离曲柄杆的一端铰接有连接臂，所述旋转板的顶部中心固定安装有固定环板，所述固定环板的顶部转动安装有旋转块，所述连接臂远离连接杆的一端端部固定安装在旋转块上，所述旋转块的侧壁上还固定安装有调节杆，所述调节杆远离旋转块的一端设有调节块，所述调节块上开设有通孔，所述调节杆贯穿通孔设置，所述调节机构还包括调节组件，所述调节块通过安装柱固定安装在调节组件上本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于TOPCON电池LPCVD双插工艺的碱抛添加剂，其特征在于，其各组分的含量为：经过纳米均质机处理的0.01
‑
0.1质量份的纳米材料催化剂、3
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8质量份的络合分散剂、1
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5质量份的无机盐、5
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8质量份的表面活性剂、78.9
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90.99质量份的去离子水。2.根据权利要求1所述的用于TOPCON电池LPCVD双插工艺的碱抛添加剂，其特征在于，所述纳米材料催化剂为纳米二氧化钛、纳米氧化锌、纳米硫化锌中的一种或两种以上组合，所述络合分散剂为苯甲酸钠、海藻酸钠、柠檬酸钠、乙二酸、酒石酸钠中的一种或两种以上组合。3.根据权利要求1所述的用于TOPCON电池LPCVD双插工艺的碱抛添加剂，其特征在于，所述无机盐为硫酸钠、硫酸钾、焦硫酸钠中的一种或两种以上组合，所述表面活性剂为十二烷基二甲基甜菜碱、烷基萘磺酸钠盐、烷基糖苷十二烷基硫酸钠中的一种或两种以上组合。4.一种使用权利要求1所述的碱抛添加剂的应用工艺，其特征在于，包括如下步骤：a.将准备好的TOPCON电池硅片进行上料，对硅片外表面进行保护；b.将完成步骤a的硅片放入碱性溶液进行预清洗，去除硅片表面酸残留物及其它溶于碱的杂质；c.将完成步骤b的硅片放入去离子水中清洗；d.将完成步骤c的硅片放入配置好的去绕镀槽液中进行抛光；e.将完成步骤d的硅片放入去离子水中清洗；f.将完成步骤e的硅片放入放入酸性溶液中进行清洗，去除硅片正面PSG和硅片表面碱残留；g.将完成步骤f的硅片放入去离子水中清洗；h.将完成步骤g的硅片进行烘干，然后下料。5.一种用于生产权利要求1或2所述碱抛添加剂的加工设备，其特征在于，包括底座板(1)，所述底座板(1)的顶部设有搅拌桶(9)和立柱(2)，所述立柱(2)的顶端端部固定安装有横杆(3)，所述横杆(3)的端部设有动力机构(4)，所述动力机构(4)的输出端连接有传动机构(5)，所述传动机构(5)设于搅拌桶(9)上方，所述传动机构(5)的底端端部安装有旋转板(6)，所述旋转板(6)的底部安装有搅拌机构(7)，所述搅拌机构(7)设于搅拌桶(9)内部，所述横杆(3)的端部固定安装有竖板(10)，所述竖板(10)的顶端端部固定安装有横板(11)，所述横板(11)的底部设有加强筋(12)，所述横板(11)的顶部固定安装有加强杆(13)，所述加强杆(13)朝向动力机构(4)的一端固定安装有机座(14)，所述传动机构(5)固定安装在竖板(10)的侧壁上，所述动力机构(4)包括固定安装在机座(14)上的电机(41)，所述电机(41)的底部动力连接有减速器(42)，所述减速器(42)的输出轴与传动机构(5)相连接。6.根据权利要求5所述的碱抛添加剂的加工设备，其特征在于，所述搅拌机构(7)包括第一搅拌桨(71)和第二搅拌桨(72)，所述第一搅拌桨(71)固定安装在旋转板(6)的底端中心上，所述第二搅拌桨(72)安装在旋转板(6)的底部外侧，所述第二搅拌桨(72)环绕第一搅拌桨(71)设置，所述第二搅拌桨(72)旋转安装在旋转板(6)底部，所述旋转板(6)的顶部还安装有用于对第二搅拌桨(72)进行转动调节的调节机构(8)。7.根据权利要求5或6所述的碱抛添加剂加工设备，其特征在于，所述传动机构(5)包括外...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁锋，张益荣，黄燕飞，金惠峰，邱云兵，刘元海，
申请(专利权)人：海宁森安新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：