光刻设备和运行光刻设备的方法技术

本发明专利技术公开了一种光刻设备和运行光刻设备的方法，还公开了一种光刻投影设备，其包括清洁站。本发明专利技术公开了几个清洁站的实施例。在实施例中，采取了措施避免清洁流体与投影系统的最终元件接触。在实施例中，采取了措施避免清洁流体的起泡。本发明专利技术还公开了热隔离岛的使用以及其最佳位置。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种浸没式光刻设备，包括：　入口，其构建成将清洁流体引入空间，将要被清洁的表面至少部分地限定所述空间；和　液体密封，其构建成围绕所述空间的至少一部分进行密封，以阻止包围所述空间的流体进入所述空间。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：RD沃森，YJLM凡达麦乐恩，JHW雅各布斯，H詹森，MHA里恩德尔斯，JJSM梅坦斯，PP斯汀贾尔特，AMCP德琼，JMW范德温克尔，JP达派兹赛纳，MMJ范德李，HMD范里尔，G塔纳撒，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]