蒸镀设备制造技术

本申请涉及一种蒸镀设备，包括壳体、坩埚以及坩埚旋转机构，壳体具有真空腔室，坩埚设于真空腔室内，壳体的一侧设有用于观察坩埚的开口的可视窗，坩埚旋转机构与坩埚连接，以驱动坩埚绕与坩埚的轴向平行的第一轴线相对壳体转动。上述蒸镀设备，通过设置可视窗，以观察坩埚内靶料的熔融情况，设置坩埚旋转机构，以旋转坩埚，改变坩埚绕第一轴线相对可视窗的位置，从而便于通过可视窗观察到坩埚内不同位置的靶料的熔融情况，进而能够在确定坩埚内的靶料熔融完全后再进行蒸镀。因此，有利于在靶料完全熔融后再对靶料进行蒸镀，从而避免了因蒸镀时颗粒状的靶料间有间隙而导致镀率波动。镀时颗粒状的靶料间有间隙而导致镀率波动。镀时颗粒状的靶料间有间隙而导致镀率波动。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀设备


[0001]本申请涉及显示器制造设备领域，尤其涉及一种蒸镀设备。

技术介绍

[0002]真空蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发靶料并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。对于金属颗粒状靶料，蒸镀工艺在对靶料进行蒸镀前会进行熔融处理。为此，相关技术中提供了一种蒸镀设备，该蒸镀设备通过电子枪将电子束聚焦于靶料表面，以对靶料分别进行熔融和蒸镀处理。然而，相关技术中的蒸镀设备，在对靶料进行蒸镀时容易出现镀率波动。
[0003]因此，如何降低对靶料进行蒸镀时的镀率波动是亟需解决的问题。

技术实现思路

[0004]鉴于上述现有技术的不足，本申请的目的在于提供一种蒸镀设备，旨在解决如何降低对靶料进行蒸镀时的镀率波动的问题。
[0005]一种蒸镀设备，包括：
[0006]壳体，具有真空腔室；
[0007]坩埚，设于所述真空腔室内，所述壳体的一侧设有用于观察所述坩埚的开口的可视窗；以及
[0008]坩埚旋转机构，与所述坩埚连接，以驱动所述坩埚绕与所述坩埚的轴向平行的第一轴线相对所述壳体转动。
[0009]上述蒸镀设备，通过设置可视窗，以观察坩埚内靶料的熔融情况，设置坩埚旋转机构，以旋转坩埚，改变坩埚绕第一轴线相对可视窗的位置，从而便于通过可视窗观察到坩埚内不同位置的靶料的熔融情况，进而能够在确定坩埚内的靶料熔融完全后再进行蒸镀。因此，有利于在靶料完全熔融后再对靶料进行蒸镀，从而避免了因蒸镀时颗粒状的靶料间有间隙而导致镀率波动。/>[0010]可选地，沿所述坩埚的轴向，所述可视窗与所述坩埚的所述开口之间具有预设间隔，以进一步便于从可视窗观察坩埚内靶料的熔融情况。
[0011]可选地，所述坩埚的轴向与所述可视窗远离所述真空腔室的一侧的表面平行，以在坩埚旋转机构驱动坩埚绕第一轴线转动至不同位置时，均能通过可视窗方便地观察到坩埚的内部。
[0012]可选地，所述蒸镀设备还包括设于所述真空腔室内的载台，所述载台用于容置所述坩埚；
[0013]所述坩埚旋转机构的输出端能够穿入所述载台内，并与所述坩埚连接，以使坩埚在真空腔室内放置得更稳。
[0014]可选地，所述坩埚旋转机构的输出端能够沿所述坩埚的轴向相对所述载台移动，以驱动所述坩埚沿其轴向相对所述载台移动，从而使至少部分所述坩埚沿其轴向凸伸出于
所述载台或将所述坩埚放置于所述载台内，以方便对坩埚的取放，并避免了取放坩埚时由于难以将坩埚与载台分离而造成坩埚或载台损伤，从而避免了靶料形成膜层堆积在坩埚的表面损伤处导致难以清理。
[0015]可选地，所述坩埚背离所述开口的一端的外壁沿所述坩埚的轴向向所述坩埚内凹陷形成凹陷部，所述坩埚旋转机构的输出端用于与所述凹陷部连接。
[0016]可选地，所述坩埚设有所述开口的一端的外周壁上沿所述坩埚的轴向凸设有凸出部，所述凸出部围绕所述坩埚的所述开口设置，以进一步提高取放坩埚的稳定性，使当用工具夹持坩埚时能够与凸出部抵靠，从而提高了用工具取放或转移坩埚时的稳定性，避免坩埚倾斜导致靶料从坩埚中洒出污染真空腔室。
[0017]可选地，所述载台上设有用于容置所述坩埚的容置腔，所述坩埚旋转机构的输出端能够穿入所述载台并伸入所述容置腔，所述容置腔远离所述坩埚旋转机构的输出端的一端的腔壁沿所述坩埚的径向朝靠近所述载台的一侧凹陷，以形成与所述容置腔连通的凹槽，所述凹槽被构造为与所述凸出部适配，以通过凹槽与凸出部的配合，使坩埚相对载台定位，并且在将坩埚放置于载台内时，能够通过检查坩埚的凸出部是否与凹槽配合，而确认坩埚是否在载台内放置到位，以避免因为容置腔内存在异物导致坩埚相对载台倾斜。
[0018]可选地，所述坩埚旋转机构被配置为能够沿所述坩埚的轴向相对所述载台移动，以使所述坩埚旋转机构支撑所述坩埚或使所述坩埚旋转机构的输出端与所述坩埚分离。
[0019]可选地，所述载台的轴线与所述第一轴线彼此平行且间隔设置；
[0020]所述坩埚的数量为多个，多个所述坩埚沿所述载台的周向彼此间隔设置；
[0021]其中，所述载台被配置为能够绕其轴线相对所述壳体转动，以改变放置于载台内的坩埚相对壳体的位置，使其中任意一个坩埚能够绕载台的轴线转动至预设位置，以对位于预设位置处的坩埚内的靶料进行熔融和蒸镀。
[0022]可选地，所述载台用于容置所述坩埚的一侧还设有至少一个置料腔，全部所述置料腔和全部所述坩埚沿所述载台的周向彼此交错布设，以盛放无需采用坩埚的靶料，从而进一步提高了蒸镀设备对于多种金属靶料工艺的适用性。
[0023]可选地，所述蒸镀设备还包括设于所述真空腔室内的电子枪；
[0024]所述电子枪位于所述载台的外侧，且所述电子枪沿与所述坩埚的轴向垂直的方向与所述坩埚旋转机构的输出端间隔设置，以利用电子枪发射的电子束轰击坩埚内的靶料，进行蒸镀工艺，通过将电子枪设于载台的外侧，以避免载台对电子束造成阻挡，并且由于所述电子枪沿与所述坩埚的轴向垂直的方向与所述坩埚旋转机构的输出端间隔设置，以便于使电子束聚焦于处于预设位置的靶料。
[0025]可选地，所述蒸镀设备还包括设于所述真空腔室内的第一遮挡件；
[0026]所述第一遮挡件盖设于所述载台用于容置所述坩埚的一侧，所述第一遮挡件上设有用于与所述坩埚的所述开口连通的第一通孔，以及沿所述坩埚的轴向与所述电子枪相对设置的第二通孔，以当坩埚包括多个，且每次对单个坩埚内的靶料进行熔融和蒸镀时，能够利用遮挡件遮挡其他坩埚的开口，以避免对其他坩埚内的靶料造成污染，并且由于遮挡件上分别设有第一通孔和第二通孔，使得对单个坩埚内的靶料进行熔融和蒸镀时，电子枪的电子束通过第二通孔和第一通孔后聚焦于坩埚内的靶料，以对单个坩埚内的靶料进行熔融或蒸镀。
附图说明
[0027]图1为本申请一实施例中蒸镀设备的结构示意图；
[0028]图2为图1所示实施例中蒸镀设备的局部示意图；
[0029]图3为图1所示实施例中从可视窗观察到的坩埚在初始位置的内部示意图；
[0030]图4为图1所示实施例中从可视窗观察到的坩埚在第一位置的内部示意图；
[0031]图5为图1所示实施例中载台和坩埚旋转机构的结构示意图；
[0032]图6为图1所示实施例中载台和坩埚旋转机构在中间位置下的局部示意图；
[0033]图7为图1所示实施例中载台和坩埚旋转机构在顶出位置下的局部示意图；
[0034]图8为本申请一实施例中坩埚的结构示意图；
[0035]图9为图1所示实施例中载台和坩埚旋转机构的局部示意图；
[0036]图10为图1所示实施例中载台和坩埚旋转机构在下降位置下的局部示意图；
[0037]图11为本申请一实施例中载台的俯视图；
[0038]图12为图11所示实施例中第一遮挡件、载台和电子枪的俯视图。
[0039]附图标记说明：
[0040]100
‑...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：壳体，具有真空腔室；坩埚，设于所述真空腔室内，所述壳体的一侧设有用于观察所述坩埚的开口的可视窗；以及坩埚旋转机构，与所述坩埚连接，以驱动所述坩埚绕与所述坩埚的轴向平行的第一轴线相对所述壳体转动。2.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述坩埚的轴向与所述可视窗远离所述真空腔室的一侧的表面平行。3.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括设于所述真空腔室内的载台，所述载台用于容置所述坩埚；所述坩埚旋转机构的输出端能够穿入所述载台内，并与所述坩埚连接。4.如权利要求3所述的蒸镀设备，其特征在于，所述坩埚旋转机构的输出端能够沿所述坩埚的轴向相对所述载台移动，以驱动所述坩埚沿其轴向相对所述载台移动，从而使至少部分所述坩埚沿其轴向凸伸出于所述载台或将所述坩埚放置于所述载台内。5.如权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，所述坩埚背离所述开口的一端的外壁沿所述坩埚的轴向向所述坩埚内凹陷形成凹陷部，所述坩埚旋转机构的输出端用于与所述凹陷部连接。6.如权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，所述坩埚设有所述开口的一端的外周壁上沿所述坩埚的轴向凸设有凸出部，所述凸出部围绕所述坩埚的...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴先浩，岳晓，
申请(专利权)人：重庆康佳光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：