本实用新型专利技术公开了一种蚀刻液防沉淀搅拌设备,包括支撑腿、配液箱、搅拌组件和循环过滤箱,所述配液箱设于支撑腿上,所述搅拌组件设于配液箱上端,所述搅拌组件下端延伸至配液箱内,所述循环过滤箱设于配液箱一侧,所述循环过滤箱上下两端分别与配液箱连通,所述搅拌组件包括驱动腔、旋转电机、主搅拌轴、副搅拌轴、搅拌桨和搅拌棒。本实用新型专利技术涉及蚀刻液加工技术领域,具体为一种搅拌均匀的蚀刻液防沉淀搅拌设备。拌设备。拌设备。
【技术实现步骤摘要】
一种蚀刻液防沉淀搅拌设备
[0001]本技术涉及蚀刻液加工
,具体为一种蚀刻液防沉淀搅拌设备。
技术介绍
[0002]蚀刻液是一种铜版画雕刻用原料,通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体,从理论上讲,凡能氧化铜而生成可溶性铜盐的试剂,都可以用来蚀刻敷铜箔板,但权衡对抗蚀层的破坏情况、蚀刻速度,蚀刻系数、溶铜容量、溶液再生及铜的回收、环境保护及经济效果等方面。蚀刻液由多种成分的溶液混合而成,在使用前需要提前搅拌混合配置,现有的蚀刻液配液装置在进行配液时,由于液体密度不一,密度较大的液体在搅拌过程中会出现下沉,传统的蚀刻液搅拌装置搅拌方式单一,其对蚀刻液的程度不够彻底,因此容易造成配液时不能使液体充分融合,容易形成沉淀,因此针对现有问题需要进行改进。
技术实现思路
[0003]针对上述情况,为克服当前的技术缺陷,本技术提供了一种搅拌均匀的蚀刻液防沉淀搅拌设备。
[0004]本技术采取的技术方案如下:本方案提供的蚀刻液防沉淀搅拌设备,包括支撑腿、配液箱、搅拌组件和循环过滤箱,所述配液箱设于支撑腿上,所述搅拌组件设于配液箱上端,所述搅拌组件下端延伸至配液箱内,所述循环过滤箱设于配液箱一侧,所述循环过滤箱上下两端分别与配液箱连通,所述搅拌组件包括驱动腔、旋转电机、主搅拌轴、副搅拌轴、搅拌桨和搅拌棒,所述配液箱上顶部对称设有伸缩杆,所述驱动腔设于伸缩杆上,所述旋转电机设于驱动腔上中部,所述搅拌轴转动设于驱动腔内中部,所述副搅拌轴对称转动设于驱动腔内且位于主搅拌轴左右两侧,所述配液箱内顶部设有导向滑套,所述主搅拌轴和副搅拌轴下端贯穿导向滑套延伸至配液箱内,所述旋转电机的输出轴与主搅拌轴上端连接,所述主搅拌轴和副搅拌轴杆上均设有链轮,所述链轮通过链条啮合,所述搅拌桨间隔设于主搅拌轴上,所述搅拌棒间隔设于副搅拌轴上,所述搅拌桨与搅拌棒交错设置。
[0005]为了进一步提高搅拌组件的搅拌效率,所述配液箱上顶壁两端对称设有驱动电机,所述驱动电机的输出轴上设有椭圆凸轮,所述驱动腔两侧对称设有支撑块,所述椭圆凸轮与支撑块下底部相接触。
[0006]为了进一步防止蚀刻液沉淀及对蚀刻液中的杂质进行循环过滤,所述循环过滤箱上下两端分别设有出水管和进水管,所述进水管和出水管分别延伸至配液箱内,所述进水管上设有抽液泵,所述循环过滤箱内部设有过滤网。
[0007]为了便于对蚀刻液进行加热提高溶液混合效率,所述配液箱内设有加热器。
[0008]为了便于添加蚀刻液溶液,所述配液箱一侧上端设有原料添加筒。
[0009]进一步地,所述配液箱下端设有出料阀。
[0010]采用上述结构本技术取得的有益效果如下:本技术一种蚀刻液防沉淀搅拌设备,其优点在于:通过设置的搅拌组件可以充分对蚀刻液溶液进行搅拌混合,通过设置
的驱动电机和椭圆凸轮配合下可以对搅拌组件进行上下往复运动,以便于使搅拌棒和伸缩杆能够对蚀刻液溶液进行均匀搅拌混合,防止溶液沉淀,通过设置的循环过滤箱可以对底部的蚀刻液溶液进行循环过滤进一步提高搅拌混合的效果。
附图说明
[0011]附图用来提供对本技术的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本技术的实施例一起用于解释本技术,并不构成对本技术的限制。在附图中:
[0012]图1为本技术提供的一种蚀刻液防沉淀搅拌设备的整体结构示意图;
[0013]图2为图1的A部分的局部放大图。
[0014]其中,1、配液箱,2、搅拌组件,3、循环过滤箱,4、驱动腔,5、旋转电机,6、主搅拌轴,7、副搅拌轴,8、搅拌桨,9、搅拌棒,10、伸缩杆,11、导向滑套,12、链轮,13、链条,14、驱动电机,15、椭圆凸轮,16、支撑块,17、出水管,18、进水管,19、抽液泵,20、过滤网,21、原料添加筒,22、出料阀,23、加热器。
具体实施方式
[0015]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例;基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0016]需要说明的是,下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向,词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
[0017]如图1和图2所示,本技术采取的技术方案如下:本方案提供的蚀刻液防沉淀搅拌设备,包括支撑腿、配液箱1、搅拌组件2和循环过滤箱3,配液箱1设于支撑腿上,搅拌组件2设于配液箱1上端,搅拌组件2下端延伸至配液箱1内,循环过滤箱3设于配液箱1一侧,循环过滤箱3上下两端分别与配液箱1连通,搅拌组件2包括驱动腔4、旋转电机5、主搅拌轴6、副搅拌轴7、搅拌桨8和搅拌棒9,配液箱1上顶部对称设有伸缩杆10,驱动腔4设于伸缩杆10上,旋转电机5设于驱动腔4上中部,搅拌轴转动设于驱动腔4内中部,副搅拌轴7对称转动设于驱动腔4内且位于主搅拌轴6左右两侧,配液箱1内顶部设有导向滑套11,主搅拌轴6和副搅拌轴7下端贯穿导向滑套11延伸至配液箱1内,旋转电机5的输出轴与主搅拌轴6上端连接,主搅拌轴6和副搅拌轴7杆上均设有链轮12,链轮12通过链条13啮合,搅拌桨8间隔设于主搅拌轴6上,搅拌棒9间隔设于副搅拌轴7上,搅拌桨8与搅拌棒9交错设置。
[0018]如图2所示,配液箱1上顶壁两端对称设有驱动电机14,驱动电机14的输出轴上设有椭圆凸轮15,驱动腔4两侧对称设有支撑块16,椭圆凸轮15与支撑块16下底部相接触。
[0019]如图2所示,循环过滤箱3上下两端分别设有出水管17和进水管18,进水管18和出水管17分别延伸至配液箱1内,进水管18上设有抽液泵19,循环过滤箱3内部设有过滤网20。
[0020]如图1所示,配液箱1一侧上端设有原料添加筒21。
[0021]如图1所示,配液箱1下端设有出料阀22。
[0022]如图2所示,配液箱1内设有加热器23。
[0023]具体使用时,将蚀刻液溶液通过原料添加筒21导入配液箱1内,启动旋转电机5,旋
转电机5带动主搅拌轴6转动,主搅拌轴6通过链轮12和链条13的啮合下带动副搅拌轴7转动,进而使搅拌桨8和搅拌棒9转动对蚀刻液溶液进行均匀的搅拌混合,在搅拌时,启动驱动电机14,驱动电机14带动椭圆凸轮15转动,进而使椭圆凸轮15推动支撑块16进行循环往复升降,进而带动搅拌桨8和搅拌棒9上下往复运动进行搅拌,防止蚀刻液沉淀或搅拌不均匀,在对蚀刻液进行搅拌时,开启抽液泵19将配液箱1底部的溶液抽入循环过滤箱3内经过过滤网20的过滤下从出水管17排出以便于提高蚀刻液的混合效果,通过开启设置的加热器23,可以对蚀刻液溶液进行加热提高配置效率。
[0024]要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种蚀刻液防沉淀搅拌设备,其特征在于:包括支撑腿、配液箱、搅拌组件和循环过滤箱,所述配液箱设于支撑腿上,所述搅拌组件设于配液箱上端,所述搅拌组件下端延伸至配液箱内,所述循环过滤箱设于配液箱一侧,所述循环过滤箱上下两端分别与配液箱连通,所述搅拌组件包括驱动腔、旋转电机、主搅拌轴、副搅拌轴、搅拌桨和搅拌棒,所述配液箱上顶部对称设有伸缩杆,所述驱动腔设于伸缩杆上,所述旋转电机设于驱动腔上中部,所述搅拌轴转动设于驱动腔内中部,所述副搅拌轴对称转动设于驱动腔内且位于主搅拌轴左右两侧,所述配液箱内顶部设有导向滑套,所述主搅拌轴和副搅拌轴下端贯穿导向滑套延伸至配液箱内,所述旋转电机的输出轴与主搅拌轴上端连接,所述主搅拌轴和副搅拌轴杆上均设有链轮,所述链轮通过链条啮合,所述搅拌桨间隔设于主搅拌轴上,所述搅拌棒间隔设于副搅...
【专利技术属性】
技术研发人员:王超,何家明,
申请(专利权)人:湖北伊思特电子化学有限公司,
类型:新型
国别省市:
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