隔离膜及其制备方法、电化学装置、电化学设备和用电装置制造方法及图纸

本申请提供一种隔离膜及其制备方法、电化学装置、电化学设备和用电装置。隔离膜包括基膜，所述基膜在MD方向和TD方向的单位厚度拉伸能量均≥1.8J/10μm，且所述基膜在MD方向和TD方向的延伸率均≥150％；所述基膜的厚度为2μm～40μm。m～40μm。m～40μm。m～40μm。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨建瑞，赵丰刚，王连广，杨天乐，
申请(专利权)人：中材锂膜常德有限公司，
类型：发明
国别省市：