曝光机台制造技术

一种曝光机台，用于对沿一方向行进的一基板进行曝光。该曝光机台包括：输送装置，沿该方向输送该基板，灯管组，具有多个灯管，该灯管组设置于该输送装置之上，用以曝光该基板，其中该多个灯管设置于多个交错点，该复数交错点由至少一横宽线与至少二纵长线所相交，该至少一横宽线垂直于该方向及该至少二纵长线平行于该方向，所述多个灯管分布范围涵盖该基板。

【技术实现步骤摘要】
曝光机台
本专利技术是有关于一种曝光机台，其曝光分布范围涵盖基板的曝光范围， 以使基板能够均匀曝光。
技术介绍
一般而言，液晶显示器的制程(Liquid-Crystal Display, LCD)通常需经 过多次的微影(Photo Lithography)、曝光(Exposing)以及蚀刻(Etching) 等制程，液晶显示器的制程是先在液晶面板的表面上涂布光阻 (Photoresist),然后再通过曝光制程以光源照射，使掩模的图案转移至涂 布光阻的液晶面板上，以使光阻的化学性质因光源的照射而产生变化。再经 由显影(Development)的步骤以去光阻剂将曝光过的光阻从液晶面板上移 除，以形成对应于掩模的线路布局，进而完成图案转移，以便进行后续的蚀 刻等制程。以目前的曝光制程技术而言，半成品的液晶面板通常会经由曝光机台以 进行曝光动作，而曝光机台上的输送机会运送半成品的液晶面板以朝向灯管 的方向前进。为了使灯管所发出的光源能均匀地散布于半成品的液晶面板 上，所以灯管的长度必须能涵盖整个半成品的液晶面板的宽度(是垂直于面 板运送方向)。当半成品的液晶面板被输送至灯管下时，藉此均匀的光源使 半成品的液晶面板能顺利地进行曝光。近年来随着液晶显示技术发展的进步，液晶面板也朝向制作大尺寸的趋 势前进。如此一来，在进行曝光制程时，势必灯管也需增长。然而，较长的 灯管在制作上的困难度较高，且制造成本也相对的增加。此外，由于灯管所4发出的光源是通过灯管内的气体结合后所释放出的紫外线光照射涂布在灯 管内壁的荧光粉，以激发出可见光。所以若当灯管变长时，涂布在灯管内的 荧光粉均匀性会不易控制，使灯管的发光均匀性不佳，进而导致灯管所散发 出光的范围无法涵盖液晶面板的曝光范围而造成曝光不均的问题。
技术实现思路
鉴于以上的问题，本专利技术提供一种灯管组，藉以解决先前技术中液晶面 板的尺寸增加时而灯管的长度也需增长，不仅增加制造的成本并且使灯管的 发光均匀度降低，进而导致灯管的照射范围无法涵盖整个液晶面板而造成液 晶面板的曝光不均。本专利技术揭露一种灯管组，装设于一曝光机台上。曝光机台具有一输送装 置，用以运送一基板沿着一方向至灯管组的位置进行一曝光制程。基板具有 平行于方向的一纵长边界及垂直于方向的一横宽边界，并由横宽边界定义出 --横宽线及由纵长边界定义出一纵长线。灯管组包括有沿着横宽线并列的多 个灯管，且位于横宽线上的这些灯管所构成的光分布范围涵盖基板的横宽边 界的曝光范围。本专利技术的灯管组利用沿着横宽线并列的多个灯管所构成的光分布范围 来涵盖基板的横宽边界的曝光范围，取代了现有中用于曝光的单一灯管，因 此本案相较于现有技术而言，本专利技术的灯管组具有较佳的曝光均匀性。以上的关于本
技术实现思路
的说明及以下的实施方式的说明用以示范与解 释本专利技术的精神与原理，并且提供本专利技术的专利申请范围更进一步的解释。附图说明图1为根据本专利技术一实施例的灯管组对基板进行曝光的立体示意图； 图2为根据本专利技术一实施例的灯管组对基板进行曝光的平面示意图；以及图3至图7为图1的灯管组采用不同排列方式的结构示意图。主要组件符号说明10 ..............曝光机台20 ..............基板22 .............. 纵长边界24 .............. 横宽边界100 .............. 灯管组110 .............. 输送装置120 .............. 灯管Dl .............. 方向Wl、 W2、 W3…Wn..... 横宽线Ll、 L2、 L3…Lm..... 纵长线e .............. 夹角具体实施方式图l及图2为根据本专利技术一实施例的灯管组对基板进行曝光的示意图。 请参阅图1及图2，本实施例的曝光机台10具有一输送装置110，此输送装 置110用以运送一基板20。灯管组IOO装设于曝光机台IO上，且该灯管组 IOO设置于该输送装置IIO之上，用以对基板20进行曝光。基板20为沿着 一方向D1输送至灯管组100的下进行曝光。其中，本专利技术所揭露的基板20 可为玻璃基板、电路板、晶圆等需要进行曝光显影制程的电子半成品，但并 不以此为限。于以下本专利技术的详细说明中，将以薄膜晶体管数组基板(Thin Film Transistor array, TFT array)做为本专利技术的较佳实施例，然而所附 图式仅提供参考与说明用，并非用以限制本专利技术的保护范畴。上述的曝光制程为在基板20的表面均匀涂布光阻(未绘示)，将基板20 透过输送装置110运送至灯管组100的位置，以灯管组100的光源照射基板 20，使掩模(未绘示)的图案转移至涂布光阻的基板20上，的后再进行后续的蚀刻等制程。此外，由于光阻是光敏感性的化学物质，当光阻接触特定波 长的光时会发生化学变化，而使得光阻受光照射处会分解成可以被显影剂洗 掉的状态。基板20具有一纵长边界22以及一横宽边界24。纵长边界22例如为基 板20的长度，横宽边界24例如为基板20的宽度，其中纵长边界22为平行 于方向D1，而纵长边界22为垂直于方向Dl。定义垂直于方向Dl的多条等 长且相互平行的横宽线Wl、 W2…Wn，和定义平行于方向Dl的多条等长且相 互平行的纵长线Ll、 L2、 L3…Lm，其中横宽线W1、 W2…Wn和纵长线Ll、 L2、 L3…Lm相交于多个交错点，且该复数交错点由至少一横宽线与至少二纵长线 所相交，至少一横宽线垂直于方向D1及至少二纵长线平行于方向D1。所述 纵长线Ll、L2、L3…Lm沿平行于该方向Dl等分该曝光区，该横宽线W1、W2… Wn沿垂直于该方向Dl等分该曝光区基板。灯管组100包括多个灯管120， 这些灯管120的中心设置于横宽线Wl、 W2…Wn和纵长线Ll、 L2、 L3…Lm的 交错点，且多个交错点上的灯管120范围涵盖基板20的范围。进一步地说， 由于基板20在进行曝光制程时，基板20需要经过灯管组100的照射以进行 曝光，若灯管组100的照射范围不足则可能造成基板20的曝光不均。因此， 由多个灯管120所构成的光分布范围需涵盖整个基板20的曝光范围，因此 每一横宽线Wl、 W2…Wn的长度以大于或等于基板20的横宽边界24为佳。 其中该曝光区域面积等于大于该基板面积。在本实施例中，灯管120是以紫 外光或黄光来进行照射。需注意的是，本专利技术所提的灯管组ioo是应用于基 板20的曝光制程，但并不以此为限定。换言之，灯管组100亦可使用在其它如半导体制程的曝光。如图2与图3所示，多个灯管120为沿着每一横宽线W1、 W2…Wn排列，其中每一多个灯管120与方向Dl夹角为0度。于另一实施例中，如图4所示，多个灯管120为排列于横宽线W1、 W2、 W3、 W4…Wn和纵长线Ll、 L2、 L3…Lm的交错点上，但邻近于每一具有灯管 120的交错点不具有灯管120，因此多个灯管120为彼此间隔排列，每一多个灯管120为垂直于方向Dl。于再一实施例中，如图5所绘示，多个灯管120为排列于横宽线W1、W2、 W3…Wn和纵长线Ll、 L2、 L3…Lm的交错点上，其中每一灯管120与方向Dl 夹角为90度，且灯管本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机台，是用于对沿一方向行进的一基板进行曝光，包括：　一输送装置，沿该方向输送该基板；以及　一灯管组，设置于该输送装置的一曝光区上，用以曝光该基板，其中该灯管组具有多个灯管，每一所述灯管具有一中心点，其中所述灯管的每一该中 心点对应于每一所述交错点所设置，其中该复数交错点由至少一横宽线与至少二纵长线所相交，该至少一横宽线垂直于该方向及该至少二纵长线平行于该方向，所述多个灯管分布范围涵盖该曝光区。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：温孟川，郑德胜，赵志鸿，王仁智，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]