本发明专利技术公开了一种低电阻温度系数的氮化铝加热器及其制备方法,该氮化铝加热器包括第一氮化铝基板、加热电路、第二氮化铝基板和导线,所述导线与加热电路电性连接;加热电路设于第一氮化铝基板和第二氮化铝基板之间,其中,所述加热电路由金属浆料印刷而成,所述金属浆料中所含金属包括W、Mo、AlN和WC/WC
【技术实现步骤摘要】
一种低电阻温度系数的氮化铝加热器及其制备方法
[0001]本专利技术涉及加热器
,尤其涉及一种低电阻温度系数的氮化铝加热器制备方法。
技术介绍
[0002]半导体芯片封测中需要快速升温及精确控温,氮化铝陶瓷材料因具备高热导及良好的机械强度,适合于芯片封测的应用场景。目前,根据现有技术生产出的氮化铝加热器是由一定比例的氮化铝粉体和氧化钇粉体流延而成的加热基体,用于承载加热线路、连接导线,通过氮化铝陶瓷作为绝缘和导热的基体材料,基体内部通过印刷金属钨钼浆料达到加热目的。
[0003]由于氮化铝基板本身具有优异的导热性能,热膨胀系数小,适用于大功率密度的应用。
[0004]申请人在2022年提出的专利申请CN114710847A(半导体芯片封测用电子陶瓷加热器及其制备方法),对氮化铝加热器的结构及基本工艺过程进行了描述,其侧重的是氮化铝及氧化钇掺杂的比例情况,以保证氮化铝加热器产品良好的热导率。本专利技术在上述专利的基础上,对加热线路浆料进行优化设计,降低加热线路浆料的电阻温度系数,进而在相同加热电压下降低产品热应力,也可获得更高的功率密度,提高能量利用率。
[0005]目前的浆料一般采用钨钼或钨或钼,并掺杂氮化铝粉体,其电阻温度系数与纯金属(钨或钼)相比,下降有限,一般在3000~4000ppm/℃左右。本专利技术中对加热线路浆料进行优化设计,降低加热线路浆料的电阻温度系数到2000ppm/℃左右,进而在相同加热电压下降低产品热应力,也可获得更高的功率密度,提高能量利用率。
专利技术内容
[0006]为克服现有技术的不足,本专利技术公开了一种低电阻温度系数的氮化铝加热器及其制备方法。
[0007]为实现上述目的,本专利技术通过以下技术方案实现:
[0008]本专利技术公开了一种低电阻温度系数的氮化铝加热器,包括第一氮化铝基板、加热电路、第二氮化铝基板和导线,所述导线与加热电路电性连接;加热电路设于第一氮化铝基板和第二氮化铝基板之间,其中,所述加热电路由金属浆料印刷而成,所述金属浆料中所含金属包括W、Mo、AlN和WC/WC
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TiC。
[0009]优选的,所述金属浆料所含金属重量比为W:Mo:AlN:WC=50~70:10~20:20~30:m,其中,m的范围是:0<m≤5。
[0010]进一步优选的,各金属粉体粒度为:W/Mo粉体为1~2μm,AlN粉体为0.3~0.5μm,WC粉体为0.2~0.3μm。
[0011]优选的,所述金属浆料所含金属重量比为:W:Mo:AlN:WC
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TiC=50~70:10~20:20~30:m,其中,m的范围是:0<m≤5;WC
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TiC中,WC与TiC按照任意比例混合。
[0012]进一步优选的,各金属粉体粒度为:W/Mo粉体为1~2μm,AlN粉体为0.3~0.5μm,WC
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TiC粉体为0.2~0.3μm。
[0013]本专利技术公开了一种低电阻温度系数的氮化铝加热器制备方法,包括以下步骤:
[0014]S1:球磨,在氮化铝粉体与氧化钇粉体混合的粉料中加入溶剂进行球磨,得到混合均匀的氮化铝浆料;
[0015]S2:流延,将氮化铝浆料进行负压脱泡后进行流延,按照产品要求设置流延厚度,形成氮化铝生坯带;
[0016]S3:裁切,将氮化铝生坯带按照尺寸要求裁切成氮化铝生坯片;
[0017]S4:印刷,按照不同产品的功率要求,使用金属浆料在氮化铝生坯片上印刷相应的加热电路,印刷使用的金属浆料根据不同产品特性进行相应选择,其中,所述金属浆料中所含金属包括W、Mo、AlN和WC/WC
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TiC;
[0018]S5:叠压,根据产品厚度要求进行不同层数的叠压,印刷面叠压在中间层,然后进行加热静压,制成氮化铝生坯块;
[0019]S6:切割,将氮化铝生胚块切割成产品要求的尺寸大小,得到氮化铝预制块;
[0020]S7:打孔、灌浆,在氮化铝预制块的加热电路两电极处进行打孔,并用导电浆料进行填充;
[0021]S8:排胶、烧结,烧结采用HTCC共烧工艺和氮氢混合气体气氛裂解配方体系;
[0022]S9:钎焊,通过灌浆孔将导线与内部加热电路连接,得到成品。
[0023]优选的,所述金属浆料所含金属重量比为W:Mo:AlN:WC=50~70:10~20:20~30:m,其中,m的范围是:0<m≤5。
[0024]进一步优选的,各金属粉体粒度为:W/Mo粉体为1~2μm,AlN粉体为0.3~0.5μm,WC粉体为0.2~0.3μm。
[0025]优选的,所述金属浆料所含金属重量比为:W:Mo:AlN:WC
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TiC=50~70:10~20:20~30:m,其中,m的范围是:0<m≤5;WC
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TiC中,WC与TiC按照任意比例混合。
[0026]进一步优选的,各金属粉体粒度为:W/Mo粉体为1~2μm,AlN粉体为0.3~0.5μm,WC
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TiC粉体为0.2~0.3μm。
[0027]与现有技术相比,本专利技术的至少具有以下优点:
[0028]本专利技术对加热电路浆料进行优化设计,降低加热电路浆料的电阻温度系数至2000ppm/℃左右,进而在相同加热电压下降低了产品热应力,也可获得更高的功率密度,提高了能量利用率。
附图说明
[0029]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
[0030]图1为本专利技术实施例公开的一种低电阻温度系数的氮化铝加热器的结构示意图。
具体实施方式
[0031]下面结合实施例及附图对本专利技术做进一步的详细说明,以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
[0032]实施例1:
[0033]参见图1所示,本专利技术实施例1公开了一种低电阻温度系数的氮化铝加热器,包括第一氮化铝基板1、加热电路2、第二氮化铝基板3和导线4,导线4与加热电路2电性连接;加热电路设于第一氮化铝基板1和第二氮化铝基板3之间,加热电路由金属浆料印刷而成,金属浆料中所含金属包括W、Mo、AlN和WC,金属浆料所含金属重量比为W:Mo:AlN:WC=60:16:20:4。各金属粉体粒度为:W/Mo粉体为1~2μm,AlN粉体为0.3~0.5μm,WC粉体为0.2~0.3μm。
[0034]上述低电阻温度系数的氮化铝加热器的制备方法包括以下步骤:
[0035]S1球磨:选用0.3~0.5μm氮化铝粉体与氧化钇粉体按照重量比95:5的比例进行配料,并加入一定数量的溶剂进行球磨,将粉料混合至均匀状态的浆料;
[0036]S2流延:将氮化铝浆料进行负压状态脱泡后即可进行流延,按照产品要求设置流延厚度,形成氮化铝生坯带;
[0037]S3裁本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种低电阻温度系数的氮化铝加热器,其特征在于:包括第一氮化铝基板、加热电路、第二氮化铝基板和导线,所述导线与加热电路电性连接;加热电路设于第一氮化铝基板和第二氮化铝基板之间,其中,所述加热电路由金属浆料印刷而成,所述金属浆料中所含金属包括W、Mo、AlN和WC/WC
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TiC。2.根据权利要求1所述的一种低电阻温度系数的氮化铝加热器,其特征在于:所述金属浆料所含金属重量比为W:Mo:AlN:WC=50~70:10~20:20~30:m,其中,m的范围是:0<m≤5。3.根据权利要求2所述的一种低电阻温度系数的氮化铝加热器,其特征在于:各金属粉体粒度为:W/Mo粉体为1~2μm,AlN粉体为0.3~0.5μm,WC粉体为0.2~0.3μm。4.根据权利要求1所述的一种低电阻温度系数的氮化铝加热器,其特征在于:所述金属浆料所含金属重量比为:W:Mo:AlN:WC
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TiC=50~70:10~20:20~30:m,其中,m的范围是:0<m≤5;WC
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TiC中,WC与TiC按照任意比例混合。5.根据权利要求4所述的一种低电阻温度系数的氮化铝加热器,其特征在于:各金属粉体粒度为:W/Mo粉体为1~2μm,AlN粉体为0.3~0.5μm,WC
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TiC粉体为0.2~0.3μm。6.一种低电阻温度系数的氮化铝加热器制备方法,其特征在于:包括以下步骤:S1:球磨,在氮化铝粉体与氧化钇粉体混合的粉料中加入溶剂进行球磨,得到混合均匀的氮化铝浆料;S2:流延,将氮化铝浆料进行负压脱泡后进行流延,按照产品要求设置流延厚度,形成氮化铝生坯带;S3:裁切,将氮化铝生坯带按照尺寸要求裁切成氮化铝生坯片;S4:印刷,按照不同产品的功...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴稀勇,陈建国,泮鑫琴,戚钰,吴一凡,颜宇慧,
申请(专利权)人:莱鼎电子材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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