一种温度控制装置制造方法及图纸

本申请提供一种温度控制装置，用于控制刻蚀设备的腔室内的温度，包括至少一个温度调节组件，温度调节组件包括：环形管道，环形管道设置在刻蚀设备的腔室的外表面上，环形管道上开设有入口和出口；至少一个温控组件，温控组件包括入口通道和出口通道，入口通道与入口连接，出口通道与出口连接；其中，入口通道用于通入冷却介质，入口通道内设置有用于将冷却介质加热到指定温度的加热结构。本申请实施例提供的温度控制装置能够对刻蚀设备的腔室内的温度具有较好的降温效果，保证刻蚀设备工作时腔室内的温度能够稳定在允许范围内。室内的温度能够稳定在允许范围内。室内的温度能够稳定在允许范围内。

【技术实现步骤摘要】
一种温度控制装置


[0001]本申请涉及温度控制技术，特别涉及一种温度控制装置，用于控制刻蚀设备腔室内的温度。

技术介绍

[0002]在半导体制造工艺中，通常需要刻蚀设备来对半导体产品进行刻蚀以获取所需图案或结构。刻蚀设备在连续工作时，刻蚀设备的腔室内的温度会持续上升，而超过允许范围(例如，达到138℃以上)，如果不对腔室内的温度加以控制，则会对产品性能造成消极影响(例如，精度差等)。
[0003]因此，如何控制刻蚀设备腔室内的温度是目前亟需解决的问题。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种温度控制装置，用于控制刻蚀设备的腔室内的温度，包括至少一个温度调节组件，所述温度调节组件包括：环形管道，所述环形管道设置在所述刻蚀设备的腔室的外表面上，所述环形管道上开设有入口和出口；至少一个温控组件，所述温控组件包括入口通道和出口通道，所述入口通道与所述入口连接，所述出口通道与所述出口连接；其中，所述入口通道用于通入冷却介质，所述入口通道内设置有用于将冷却介质加热到指定温度的加热机构。
[0005]在一些实施例中，所述环形管道包括第一弧形管道和第二弧形管道，所述第一弧形管道的第一端和第二端分别与所述第二弧形管道的第一端和第二端连接形成所述环形管道；所述至少一个温控组件包括第一温控组件和第二温控组件；其中，所述第一弧形管道的第一端和第二端的外侧面上分别开设有第一入口和第一出口；所述第二弧形管道的第二端和第一端的外侧面上分别开设有第二入口和第二出口；所述第一温控组件包括第一入口通道和第一出口通道，所述第一入口通道与所述第一入口连接，所述第一出口通道与所述第二出口连接；所述第二温控组件包括第二入口通道和第二出口通道，所述第二入口通道与所述第二入口连接，所述第二出口通道与所述第一出口连接。
[0006]在一些实施例中，所述第一弧形管道的弧度和所述第二弧形管道的弧度相同。
[0007]在一些实施例中，所述温度控制装置包括多个温度调节组件，所述多个温度调节组件中的环形管道同心设置在所述腔室的外表面上，且所述多个温度调节组件中的环形管道的直径各不相同。
[0008]在一些实施例中，所述加热机构包括两个相对设置的加热片。
[0009]在一些实施例中，所述入口通道内还设置流速增强机构，所述风速增强机构位于所述两个相对设置的加热片之间。
[0010]在一些实施例中，所述入口通道、所述出口通道以及所述环形管道的内径为1cm至10cm。
[0011]在一些实施例中，所述温控组件包括主体，所述入口通道和所述出口通道为开设
在所述主体中的通腔结构。
[0012]在一些实施例中，所述入口通道和所述出口通道为管道结构。
[0013]在一些实施例中，温度控制装置还包括：温度监测装置，所述温度监测装置用于监测所述刻蚀设备腔室内的温度；冷却介质供应装置，用于向所述入口通道通入冷却介质；当所述温度监测装置监测到所述刻蚀设备的腔室内的温度超过预设温度时，所述冷却介质供应装置向所述入口通道通入冷却介质，所述加热机构能够将所述冷却介质加热到指定温度。
[0014]本申请实施例提供的温度控制装置通过冷却介质在设置刻蚀设备的腔室的外表面上的环形管道内流动，以带走腔室内的热量，能够对刻蚀设备的腔室内的温度具有较好的降温效果，保证刻蚀设备工作时腔室内的温度能够稳定在允许范围内。
附图说明
[0015]以下附图详细描述了本申请中披露的示例性实施例。其中相同的附图标记在附图的若干视图中表示类似的结构。本领域的一般技术人员将理解这些实施例是非限制性的、示例性的实施例，附图仅用于说明和描述的目的，并不旨在限制本申请的范围，其他方式的实施例也可能同样的完成本申请中的专利技术意图。应当理解，附图未按比例绘制。
[0016]其中：
[0017]图1是刻蚀设备连续工作时腔室内的温度随工作时间变化的曲线图；
[0018]图2是根据本申请一些实施例所示的温度控制装置的应用框图；
[0019]图3是根据本申请一些实施例所示的温度控制装置设置在刻蚀设备的腔室的外表面上的示意图；
[0020]图4是根据本申请一些实施例所示的环形管道的结构示意图；
[0021]图5是根据本申请一些实施例所示的温控组件的结构示意图；
[0022]图6是图5示出的温控组件的主视图；
[0023]图7是图5示出的温控组件的俯视图；
[0024]图8是图5是示出的温控组件的右视图；
[0025]图9是根据本申请一些实施例所示的加热机构的结构示意图；
[0026]图10是根据本申请一些实施例所示的温度控制装置设置在刻蚀设备的腔室的外表面上的示意图；
[0027]图11是采用本申请一些实施例提供的温度控制装置的刻蚀设备连续工作时腔室内的温度随工作时间变化的曲线图。
具体实施方式
[0028]以下描述提供了本申请的特定应用场景和要求，目的是使本领域技术人员能够制造和使用本申请中的内容。对于本领域技术人员来说，对所公开的实施例的各种局部修改是显而易见的，并且在不脱离本申请的精神和范围的情况下，可以将这里定义的一般原理应用于其他实施例和应用。因此，本申请不限于所示的实施例，而是与权利要求一致的最宽范围。
[0029]图1是刻蚀设备连续工作时腔室内的温度随工作时间变化的曲线图。
[0030]从图1中可以看出，随着工作时间的增加，刻蚀设备的腔室内温度在持续上升，刻蚀设备工作2.5小时后，刻蚀设备的腔室内温度能够达到138℃以上。然而，综合考虑刻蚀设备的腔室周边各部件的寿命以及腔室内的温度对产品性能的影响，腔室内温度的允许范围一般会在120℃以下。由此看来，如果不对刻蚀设备的腔室内温度加以控制，腔室内温度则会随着工作时间的增加而超过允许范围，从而会对腔室周边各部件的寿命以及产品性能造成消极影响。在实际中，通过控制刻蚀设备的腔室的排气速度虽然能够达到对腔室内的温度进行控制的目的，但无法实现稳定控制刻蚀设备工作时腔室内的温度。
[0031]本申请实施例提供一种温度控制装置，可以用于控制刻蚀设备的腔室内的温度，包括至少一个温度调节组件，所述温度调节组件包括：至少一个环形管道，环形管道设置在刻蚀设备的腔室的外表面上，环形管道上开设有入口和出口；至少一个温控组件，温控组件包括入口通道和出口通道，入口通道与入口连接，出口通道与出口连接；其中，所述入口通道用于通入冷却介质，所述入口通道内设置有用于将冷却介质加热到指定温度的加热机构。本申请实施例提供的温度控制装置通过将环形管道设置在腔室的外表面上，利用温控组件的入口通道通入冷却介质，冷却介质被加热机构加热到指定温度后通过环形管道上的入口进入到环形管道内流动，腔室内的部分热量可以传递到环形管道内的冷却介质中，然后随着冷却介质从环形管道上的出口进入到出口通道内而离开环形管道，以此减少了腔室内的热量，而达到对腔室内的温度降低的目的，从而能够实现刻蚀设备工作时对腔室内的温度的稳定控制本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种温度控制装置，用于控制刻蚀设备的腔室内的温度，其特征在于，包括至少一个温度调节组件，所述温度调节组件包括：环形管道，所述环形管道设置在所述刻蚀设备的腔室的外表面上，所述环形管道上开设有入口和出口；至少一个温控组件，所述温控组件包括入口通道和出口通道，所述入口通道与所述入口连接，所述出口通道与所述出口连接；其中，所述入口通道用于通入冷却介质，所述入口通道内设置有用于将冷却介质加热到指定温度的加热机构。2.根据权利要求1所述的温度控制装置，其特征在于，所述环形管道包括第一弧形管道和第二弧形管道，所述第一弧形管道的第一端和第二端分别与所述第二弧形管道的第一端和第二端连接形成所述环形管道；所述至少一个温控组件包括第一温控组件和第二温控组件；其中，所述第一弧形管道的第一端和第二端的外侧面上分别开设有第一入口和第一出口；所述第二弧形管道的第二端和第一端的外侧面上分别开设有第二入口和第二出口；所述第一温控组件包括第一入口通道和第一出口通道，所述第一入口通道与所述第一入口连接，所述第一出口通道与所述第二出口连接；所述第二温控组件包括第二入口通道和第二出口通道，所述第二入口通道与所述第二入口连接，所述第二出口通道与所述第一出口连接。3.根据权利要求2所述的温度控制装置，其特征在于，所述第一弧形管道的弧度和所述第二弧...

【专利技术属性】
技术研发人员：于涵立，程远，
申请(专利权)人：北方集成电路技术创新中心北京有限公司，
类型：新型
国别省市：