异常放电判定方法、异常放电判定系统和基板处理装置制造方法及图纸

本公开提供一种异常放电判定方法、异常放电判定系统和基板处理装置，通过机器学习完毕的判定模型来判定等离子体处理腔室的内部有无异常放电的发生。一种异常放电判定方法，通过机器学习完毕的判定模型来判定等离子体处理腔室的内部有无异常放电的发生，所述异常放电判定方法包括：获取在不同的时刻拍摄等离子体处理腔室的内部而得到的第一图像和第二图像的差分图像；将差分图像转换为白色和黑色的二值图像；从二值图像的白色区域提取轮廓；基于轮廓，制作向判定模型输入的多个特征量；以及基于被输入了多个特征量的判定模型的输出，来判定等离子体处理腔室的内部有无异常放电的发生。的发生。的发生。

【技术实现步骤摘要】
异常放电判定方法、异常放电判定系统和基板处理装置


[0001]本公开涉及一种异常放电判定方法、异常放电判定系统和基板处理装置。

技术介绍

[0002]在例如使用高密度等离子体CVD(Chemical Vapor Deposition：化学气相沉积)的FPD(Flat Panel Display：平板显示器)制造装置等基板处理装置中，有时在等离子体处理腔室的内部产生异常放电。在专利文献1中记载有一种用于检测等离子体处理装置中的异常放电的方法。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2001
‑
319922号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
[0007]本公开提供一种通过机器学习完毕的判定模型来判定等离子体处理腔室的内部有无异常放电的发生的技术。
[0008]用于解决问题的方案
[0009]本公开的一个方式是一种异常放电判定方法，通过机器学习完毕的判定模型来判定等离子体处理腔室的内部有无异常放电的发生，所述异常放电判定方法包括：(a)获取在不同的时刻拍摄所述等离子体处理腔室的内部而得到的第一图像和第二图像的差分图像；(b)将所述差分图像转换为白色和黑色的二值图像；(c)从所述二值图像的白色区域提取轮廓；(d)基于所述轮廓，制作向所述判定模型输入的多个特征量；以及(e)基于被输入了所述多个特征量的所述判定模型的输出，来判定所述等离子体处理腔室的内部有无异常放电的发生。
[0010]专利技术的效果
[0011]根据本公开，能够提供一种通过机器学习完毕的判定模型来判定等离子体处理腔室的内部有无异常放电的发生的技术。
附图说明
[0012]图1是本实施方式所涉及的异常放电判定系统的一例的说明图。
[0013]图2是计算机的一例的硬件结构图。
[0014]图3是本实施方式所涉及的异常放电判定系统的一例的功能结构图。
[0015]图4是训练数据制作处理的一例的流程图。
[0016]图5是生成差分图像的处理的一例的说明图。
[0017]图6是制作多个特征量的处理的一例的流程图。
[0018]图7是将差分图像转换为二值图像的处理的一例的说明图。
[0019]图8是针对二值图像进行的处理的一例的说明图。
[0020]图9是从白色区域提取轮廓的处理的一例的说明图。
[0021]图10是被应用了从二值化图像的白色区域提取出的轮廓的二值化之前的原始图像的一例的说明图。
[0022]图11是异常放电发生判定处理的一例的流程图。
[0023]图12是本实施方式所涉及的异常放电判定系统的一例的功能结构图。
具体实施方式
[0024]下面，参照附图来进行用于实施本专利技术的方式的说明。在本说明书和附图中，适当地省略对在本实施方式的说明中不需要的部分的图示及说明。
[0025]图1是本实施方式所涉及的异常放电判定系统的一例的说明图。图1的异常放电判定系统是FPD制造装置等基板处理装置1与服务器装置20经由通信路以可通信的方式连接的结构。
[0026]基板处理装置1具备等离子体处理腔室10。在等离子体处理腔室10的内部，针对用于制造FPD的玻璃基板等进行利用等离子体进行的处理。利用等离子体进行的处理例如是蚀刻处理、成膜处理等。本实施方式所涉及的异常放电判定系统如以下所示那样判定在等离子体处理过程中等离子体处理腔室10的内部有无异常放电的发生。
[0027]在等离子体处理腔室10的侧壁设置有窗18。窗18由光的透射性高的透光性材料(例如石英玻璃)构成，以能够从等离子体处理腔室10的外部进行拍摄。另外，基板处理装置1具备从窗18拍摄等离子体处理腔室10的内部的摄像机等摄影部14。通过摄影部14，能够进行生成了等离子体的状态下的等离子体处理腔室10的内部的拍摄。
[0028]摄影部14拍摄等离子体处理过程中的等离子体处理腔室10的内部，并输出摄影数据。从摄影部14输出的摄影数据记录于基板处理装置1的记录部16和服务器装置20的记录部24中的至少一方。从摄影部14输出的摄影数据既可以是运动图像(下面，简称为动图)，也可以是静止图像(下面，简称为图像)。
[0029]基板处理装置1的控制部12或服务器装置20的控制部22通过对从摄影部14输出的摄影数据进行处理，来如后述那样制作用于判定等离子体处理腔室10的内部有无异常放电的发生的判定模型。另外，基板处理装置1的控制部12或服务器装置20的控制部22通过使用后述的机器学习完毕的判定模型来判定等离子体处理腔室10的内部有无异常放电的发生。分发部26从服务器装置20向基板处理装置1通知等离子体处理腔室10的内部有无异常放电的发生的信息等。
[0030]基板处理装置1的控制部12是进行装置整体的动作的控制的计算机。在控制部12的记录部16保存有控制装置整体的动作的程序。通过执行程序，控制部12向基板处理装置1中用于进行基板处理的各部发送控制信号，来控制各部的动作。程序例如从硬盘、光盘、光磁盘、存储卡、软盘等存储介质安装到控制部12。
[0031]另外，基板处理装置1的控制部12和服务器装置20的控制部22进行用于从作业者接受信息的输入的画面的显示、用于对作业者输出结果等信息的画面的显示。此外，基板处理装置1的控制部12既可以如图1所示内置于基板处理装置1，也可以设置于基板处理装置1的外部，并经由通信路与基板处理装置1以可通信的方式连接。
[0032]通信路可以是有线通信方式，也可以是无线通信方式，只要是用于在计算机的内外交换各种信号的通信路即可。通信路可以利用局域网(LAN)等网络。
[0033]基板处理装置1的控制部12例如由图2所示的硬件结构的计算机500来实现。另外，服务器装置20例如也由图2所示的硬件结构的计算机500来实现。图2是计算机的一例的硬件结构图。
[0034]图2的计算机500具备输入装置501、输出装置502、外部I/F(接口)503、RAM(Random Access Memory：随机存取存储器)504、ROM(Read Only Memory：只读存储器)505、CPU(Central Processing Unit：中央处理单元)506、通信I/F 507以及HDD(Hard Disk Drive：硬盘驱动器)508等，它们通过总线B相互连接。此外，输入装置501和输出装置502也可以为在需要时进行连接来利用的方式。
[0035]输入装置501是键盘、鼠标、触摸面板等，用于作业者等输入各操作信号。输出装置502是显示器等，用于显示计算机500的处理结果。通信I/F 507是将计算机500连接于网络等的接口。HDD 508是保存有程序、数据的非易失性的记录部的一例。
[0036]外部I/F 503是与外部装置之间的接口。计算机500能够经由外部I/F 503进行SD(S本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种异常放电判定方法，通过机器学习完毕的判定模型来判定等离子体处理腔室的内部有无异常放电的发生，所述异常放电判定方法包括：(a)获取在不同的时刻拍摄所述等离子体处理腔室的内部而得到的第一图像和第二图像的差分图像；(b)将所述差分图像转换为白色和黑色的二值图像；(c)从所述二值图像的白色区域提取轮廓；(d)基于所述轮廓，制作向所述判定模型输入的多个特征量；以及(e)基于被输入了所述多个特征量的所述判定模型的输出，来判定所述等离子体处理腔室的内部有无异常放电的发生。2.根据权利要求1所述的异常放电判定方法，其特征在于，还包括：(f)从所述二值图像去除噪声；以及(g)进行合成，以使被去除了所述噪声的所述二值图像的白色区域的离散部分连续，在所述(c)中，所述轮廓是从合成后的所述二值图像的白色区域提取的。3.根据权利要求1或2所述的异常放电判定方法，其特征在于，在所述(d)中，将在所述(c)中提取出的所述轮廓应用于所述差分图像，制作至少包括所述差分图像中的所述轮廓内的HSV平均值、所述轮廓内的HSV标准偏差、所述轮廓所包围的区域的面积、以及所述轮廓的长度的所述多个特征量。4.根据权利要求1至3中的任一项所述的异常放电判定方法，其特征在于，所述机器学习完毕的判定模型通过使用了训练数据的有监督机器学习来制作，该训练数据是将有无所述异常放电的发生的有无信息设为目标变量、将所述多个特征量设为说明变量的数据。5.根据权利要求4所述的异常放电判定方法，其特征在于，所述机器学习完毕的判定模型通过使用了以下的训练数据的有监督机器学习来生成，所述训练数据是，在将根据在所述异常放电发生前拍摄到的所述等离子体处理腔室的内部的图像与在所述异常放电发生后拍摄到的所述等离子体处理腔室的内部的...

【专利技术属性】
技术研发人员：向井俊介，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：