提供一种能够均匀且可靠地对内层的外周面进行等离子体处理的等离子体处理装置，以及，通过使用该等离子体处理装置对内层的外周面进行等离子体处理，而内层与外层的粘合性较高的多层管状成型体及其制造方法。等离子体处理装置(100)具有：介电体(200)，其具备内腔部(210)且呈圆筒状；内部电极(300)，其配置在介电体(200)的内周面侧，并沿轴向卷绕成线圈状；外部电极(400)，其配置在介电体(200)的外周面侧，并在其与内部电极(300)之间施加交流电压；气体供给部(500)，其通过施加交流电压而向内腔部(210)供给用于产生等离子体的气体。腔部(210)供给用于产生等离子体的气体。腔部(210)供给用于产生等离子体的气体。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】多层管状成型体、等离子体处理装置及多层管状成型体的制造方法
[0001]本专利技术涉及一种多层管状成型体、等离子体处理装置及多层管状成型体的制造方法。
技术介绍
[0002]由于能够相对容易地赋予多种所需性能，因此所使用的是多层管状成型体。
[0003]在这种情况下，例如，当内层由非极性聚合物如聚烯烃或氟系聚合物构成时，如果试图用外层被覆其外周，则需要插入粘合性聚合物层，或者预先将粘合性官能团附加到氟系聚合物上。
[0004]例如，专利文献1中公开了一种多层管状成型体，其具有：由自粘性硅橡胶构成的内层部；以及设置在该内层部的内侧且由自粘性乙烯
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四氟乙烯共聚物构成的阻隔层。
[0005]专利文献1中还记载了可通过等离子体处理将阻隔层的与内层部相对向的表面粗糙化。然而，专利文献1没有记载等离子体处理的具体方法。
[0006]传统的等离子体处理通常是在于阻隔层即筒状体内侧和外侧配置了电极的状态下进行。然而，采用这种方法，难以仅对筒状体的外周面进行等离子体处理。
[0007]另外，在对筒状体的外周面进行等离子体处理时，需要在筒状体的内侧插入电极，或者将筒状体本身作为接地侧电极使用。
[0008]在上述结构的情况下，如果由于电极的形状、排列和组合而导致电极与筒状体的外周面之间的分离距离不均匀，则在外周面上将产生加工不均匀，因此，存在无法导入目标官能团的问题。
[0009]并且，如果不能在外周面导入官能团，则无法将作为筒状体的内层和外层粘合。另外，在存在加工不均匀的部分，内层与外层的粘合强度容易降低，应力集中于该部位，而有可能发生剥离。
[0010]现有技术文献
[0011]专利文献1：日本专利特开2020
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046047公报
技术实现思路
[0012]专利技术要解决的问题
[0013]本专利技术的目的在于提供一种能够均匀且可靠地对内层的外周面进行等离子体处理的等离子体处理装置，以及，通过使用该等离子体处理装置对内层的外周面进行等离子体处理，而内层与外层的粘合性较高的多层管状成型体及其制造方法。
[0014]解决问题的方法
[0015]上述目的通过下述(1)～(11)的本专利技术实现。
[0016](1)一种多层管状成型体，其特征在于，具有内层和被覆该内层的外周的外层，所述内层的外周面通过等离子体处理而被改性。
[0017](2)一种等离子体处理装置，其特征在于，具有：
[0018]具备内腔部的圆筒状的介电体、
[0019]配置于所述介电体的内周面侧并沿轴向卷绕而成的线圈状的内部电极、
[0020]配置于所述介电体的外周面侧并对与所述内部电极之间施加交流电压的外部电极、以及
[0021]将用于通过施加所述交流电压而产生等离子体的气体向所述内腔部供给的气体供给部。
[0022](3)如上述(2)所述的等离子体处理装置，其中，构成所述内部电极的线材的间距为0.5～10mm。
[0023](4)如上述(1)或(2)所述的等离子体处理装置，其中，构成所述内部电极的线材的与长边方向正交的方向的截面形状为具有角的形状。
[0024](5)如上述(2)～(4)中任一项所述的等离子体处理装置，其中，所述外部电极由网状或箔状的圆筒状体构成。
[0025](6)如上述(2)～(5)中任一项所述的等离子体处理装置，其中，所述交流电压的最大值为1～20kV。
[0026](7)如上述(2)～(6)中任一项所述的等离子体处理装置，其中，所述交流电压的频率为1～30kHz。
[0027](8)如上述(2)～(7)中任一项所述的等离子体处理装置，其中，所述交流电压的施加时间为0.1～20秒。
[0028](9)一种多层管状成型体的制造方法，其特征在于，具有如下工序：
[0029]在使内层通过上述(2)～(8)中任一项所述的等离子体处理装置的所述内腔部的同时对其外周面进行等离子体处理的工序、以及
[0030]对所述内层的外周被覆外层的工序。
[0031](10)如上述(9)所述的多层管状成型体的制造方法，其中，所述内部电极与所述内层的分离距离为1～10mm。
[0032](11)如上述(9)或(10)所述的多层管状成型体的制造方法，其中，所述内层由非极性树脂材料构成。
[0033]专利技术效果
[0034]根据本专利技术，可获得能够对内层的外周面均匀且可靠地进行等离子体处理，并且内层与外层的粘合性较高的多层管状成型体。
[0035]另外，根据本专利技术，能够不损害内层的内周面的耐化学性和耐洗脱性而仅对外周面进行等离子体处理。
[0036]另外，由于能够在将内层的形状保持为圆筒状的状态下进行等离子体处理，因此能够容易地将与电极的距离维持一定，能够对外周面均匀地进行等离子体处理。因此，提高了内层和外层之间的粘合性，有助于提高剥离强度。
附图说明
[0037]图1是示出通过本专利技术的多层管状成型体的制造方法制造的多层管状成型体的前端部的结构的立体图。
[0038]图2是示出本专利技术的等离子体处理装置的整体结构的示意图。
[0039]图3是示出使用图2的等离子体处理装置对内层的外周面进行等离子体处理的状态的截面图。
具体实施方式
[0040]以下，根据附图所示的优选实施方式，对本专利技术的多层管状成型体、等离子体处理装置以及多层管状成型体的制造方法进行详细说明。
[0041]<多层管状成型体>
[0042]图1是示出通过本专利技术的多层管状成型体的制造方法制造的多层管状成型体的前端部的结构的立体图。
[0043]图1所示的多层管状成型体1具有内层2以及被覆内层2的外周的外层3。
[0044]以下，将依次说明各层的结构。
[0045]<<内层2>>
[0046]内层2的构成材料没有特别限定，优选非极性(低极性)的树脂材料。
[0047]此处，由非极性树脂材料构成的内层2，其外周面的粘合性较差。因此，当用外层3被覆内层2时，需要在内层2和外层3之间介入粘合性聚合物层或者选择粘合聚合物作为外层3的构成材料。换句话说，可用于构成多层管状成型体1的材料的选择范围变小，难以获得具有所需性能和功能的多层管状成型体1。
[0048]因此，在本专利技术中，在用外层3进行被覆之前，在内层2的外周面提前导入提高与外层3的粘合性的官能团，以下称为“粘合性官能团”。即，通过等离子体处理对内层2的外周面进行改性。结果，无论内层2和外层3的构成材料如何，并且不使用粘合剂即结合剂，也可以获得内层2和外层3之间具有高粘合性的多层管状成型体1。
[0049]因此，本专利技术适用于制造具有由非极性树脂材料构成的内层2的多层管状成型体1。
[0050]作为非极性树脂本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种多层管状成型体，其特征在于，具有内层和被覆所述内层的外周的外层，所述内层的外周面通过等离子体处理而被改性。2.一种等离子体处理装置，其特征在于，具有：具备内腔部的圆筒状的介电体、配置于所述介电体的内周面侧并沿轴向卷绕而成的线圈状的内部电极、配置于所述介电体的外周面侧并对与所述内部电极之间施加交流电压的外部电极、以及将用于通过施加所述交流电压而产生等离子体的气体向所述内腔部供给的气体供给部。3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，构成所述内部电极的线材的间距为0.5～10m m。4.根据权利要求2或3所述的等离子体处理装置，其中，构成所述内部电极的线材的与长边方向正交的方向的截面形状为具有角的形状。5.根据权利要求2～4中任一项所述的等离子体处理装置，其中，所述外部电极由网状或箔状的圆筒状体构成...
【专利技术属性】
技术研发人员：沼田健一，青木大地，
申请(专利权)人：东洋克斯株式会社，
类型：发明
国别省市：
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