新型石墨坩埚制造技术

本实用新型专利技术所设计新型石墨坩埚，它主要由坩埚体组成，坩埚体是由至少两块相同的坩埚壁组件以及与坩埚壁组件相配合的坩埚底组件组成。本产品和原有的石墨坩埚相比减小了每个部分的体积，从而降低了石墨坩埚的加工生产成本。采用了坩埚壁组件和坩埚底组件配合的形式，进一步减小了生产每个组件所需要的原料石墨的大小，同时避免了在原有的石墨坩埚组件底部含有尖端，尖端处的磕碰而造成的渗硅，漏硅的隐患。并经试验证明，改进后的石墨坩埚的使用寿命比原有的石墨坩埚的使用寿命延长了５炉，降低了企业的生产成本。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种坩埚，特别是用于单晶硅直拉炉石墨热场的新型石墨坩埚。
技术介绍
目前的单晶硅直拉炉中所使用的石墨坩埚基本都是山三个相同的石墨件直接拼成埚休的，如图3所示，由于石墨件经常需要移出单晶炉进行清扫，然后再组装后放入单晶 炉中重新使用，石墨件的尖端处经常会碰伤，减少了石墨坩埚的使用寿命，并存在着一 定的渗硅，漏硅的隐患；另一方面，每个单瓣的石墨件必须是由整块的原料石墨加工而 成，而越大块的石墨价格越高，生产成本越高。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决上述技术的不足而提供一种生产制造时所需原料石墨 休积小，且结构存在尖角较少的的新型石墨坩埚。为了达到上述目的，本技术设计的新型石墨坩埚，它主要由坩埚体组成，坩埚 休是由至少两块相同的坩埚壁组件以及与坩埚壁组件相配合的坩埚底组件组成。为了消 除原有坩埚壁组件的底部的尖角，坩埚壁组件配合连接成底部含有无底中空的坩埚体， 坩埚底组件配合设置在无底屮空内。为降低加工坩埚壁组件所需要的原料的体积，坩埚 体可包含有四块相同的坩埚壁组件，从而减少每一块坩埚壁组件所用的原料石墨的大小。本技术所得到的新型石墨坩埚，和原有的石墨坩埚相比减小了每个部分的体积， 从而降低丫石墨坩埚的加工生产成本。采用了坩埚壁组件和坩埚底组件配合的形式，进 一步减小了生产每个组件所需要的原料石墨的大小，同时避免了在原有的石墨坩埚组件 底部含有尖端，尖端处的磕碰而造成的渗硅，漏硅的隐患。并经试验证明，改进后的石 墨坩埚的使用寿命比原有的石墨坩埚的使用寿命延长了 5炉，降低了企业的生产成本。附图说明图1是木技术实施例1的俯视图； 图2是本实川新型实施例1的剖视图； 图3是现有石墨坩埚的俯视图。图中1、坩埚体 2、坩埚壁组件 3、坩埚底组件 4、现有的石墨坩埚石墨 件的尖端具体实施方式下而通过实施例结合附阁对木实川新W作进歩的描述。 实施例1如图1所示，本实施例描述的新型石墨坩埚，它主要由坩埚体l组成，坩埚体l是由四块相同的坩埚壁组件2以及与坩埚壁组件2相配合的坩埚底组件3组成。坩埚壁组 件2配合连接成底部含有无底中空的坩埚体1，坩埚底组件3配合设置在无底中空内。权利要求1.一种新型石墨坩埚，它主要由坩埚体(1)组成，其特征是坩埚体(1)是由至少两块相同的坩埚壁组件(2)以及与坩埚壁组件(2)相配合的坩埚底组件(3)组成。2. 根据权利要求1所述的新型石墨坩埚，其特征是所述的坩埚壁组件(2)配合连 接成底部含有无底中空的坩埚体(1)，坩埚底组件(3)配合设置在无底中空内。3. 根据权利要求1或2所述的新型石墨坩埚，其特征是所述的坩埚体(1)包含有 四块相同的坩埚壁组件(2)。专利摘要本技术所设计新型石墨坩埚，它主要由坩埚体组成，坩埚体是由至少两块相同的坩埚壁组件以及与坩埚壁组件相配合的坩埚底组件组成。本产品和原有的石墨坩埚相比减小了每个部分的体积，从而降低了石墨坩埚的加工生产成本。采用了坩埚壁组件和坩埚底组件配合的形式，进一步减小了生产每个组件所需要的原料石墨的大小，同时避免了在原有的石墨坩埚组件底部含有尖端，尖端处的磕碰而造成的渗硅，漏硅的隐患。并经试验证明，改进后的石墨坩埚的使用寿命比原有的石墨坩埚的使用寿命延长了5炉，降低了企业的生产成本。文档编号C30B15/10GK201351186SQ200920113530公开日2009年11月25日 申请日期2009年2月5日 优先权日2009年2月5日专利技术者苗 苗 申请人:嘉兴嘉晶电子有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型石墨坩埚，它主要由坩埚体（１）组成，其特征是坩埚体（１）是由至少两块相同的坩埚壁组件（２）以及与坩埚壁组件（２）相配合的坩埚底组件（３）组成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：苗苗，
申请(专利权)人：嘉兴嘉晶电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：33[中国|浙江]