表面处理剂制造技术

本发明专利技术的课题在于提供一种能够形成拨液性优异、并且滑液性也优异的层的组合物。本发明专利技术提供一种含有成分(A)：交联性化合物和成分(B)：含氟拨液性化合物的组合物，其中，满足式：P

【技术实现步骤摘要】
表面处理剂


[0001]本专利技术涉及表面处理剂。

技术介绍

[0002]作为基材的表面处理用的组合物，已知有包含含氟烷氧基硅烷和二官能以上的烷氧基硅烷的组合物(专利文献1)、以及包含硅烷偶联剂和四官能的烷氧基硅烷的组合物(专利文献2)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2017－186495号公报
[0006]专利文献2：日本特开2013－213181号公报

技术实现思路

[0007]专利技术所要解决的课题
[0008]本专利技术的目的在于提供一种能够形成拨液性优异、并且滑液性也优异的层的组合物。
[0009]用于解决课题的技术方案
[0010]本专利技术包括以下的实施方式。
[0011][1]一种组合物，其含有：
[0012]成分(A)：交联性化合物，和
[0013]成分(B)：含氟拨液性化合物，
[0014]上述组合物满足后述式：
[0015]P
b
－P
c
＞0
[0016][式中：
[0017]P
b
为由上述含氟拨液性化合物形成的层的表面自由能中极性分量比的值，
[0018]P
c
为由上述组合物形成的层的表面自由能中极性分量比的值。]。
[0019][2]如[1]所述的组合物，其满足后述式：
[0020]P
b
－P
c
≥3.0。
[0021][3]如[1]或[2]所述的组合物，其中，
[0022]P
c
为20.0以下。
[0023][4]如[1]～[3]中任一项所述的组合物，其中，
[0024]上述交联性化合物具有金属醇盐基。
[0025][5]如[1]～[4]中任一项所述的组合物，其中，
[0026]上述交联性化合物为下述式(A1)或(A2)所示的化合物：
[0027]A[Z
a1
－M1(OR
a1
)
n1
(R
a2
)
n2－n1
]m1
[Z
a2
－R
a3
]m2
(A1)
[0028][式中：
[0029]A为1～10价的有机基团，
[0030]Z
a1
分别独立地为单键或2价的有机基团，
[0031]M1为Al、Ca、Fe、Ge、Hf、In、Si、Ta、Ti、Sn、Zr或Zn；
[0032]R
a1
分别独立地为氢原子或C
1－6
烷基，
[0033]R
a2
分别独立地为氢原子或烃基，
[0034]n1分别独立地为1以上且(M1的价数－1)以下，
[0035]n2分别独立地为(M1的价数－1)，
[0036]Z
a2
分别独立地为单键或2价的有机基团，
[0037]R
a3
分别独立地为反应性有机基团，
[0038]m1为1～10的整数，
[0039]m2为0～10的整数，
[0040]m1与m2的合计为A的价数。][0041][0042][式中：
[0043]M2为Al、Ca、Fe、Ge、Hf、In、Si、Ta、Ti、Sn、Zr或Zn；
[0044]R
a4
分别独立地为氢原子、C
1－6
烷基或R
a6
－CO－；
[0045]R
a6
为1价的烃基；
[0046]R
a5
分别独立地为C
1－3
烷基或C
1－3
烷氧基；
[0047]n3为上述M2的价数；
[0048]n4为0以上且上述M2的价数以下。]。
[0049][6]如[5]所述的组合物，其中，
[0050]n1为2以上。
[0051][7]如[5]或[6]所述的组合物，其中，
[0052]上述R
a1
为C
1－4
烷基。
[0053][8]如[5]～[7]中任一项所述的组合物，其中，
[0054]A为亚烷基或下述式所示的基团：
[0055][0056][式中：
[0057]X
a
分别独立地为单键或2价的有机基团。]。
[0058][9]如[5]～[8]中任一项所述的组合物，其中，
[0059]上述反应性有机基团为异氰酸酯基、环氧基或乙烯基。
[0060][10]如[1]～[9]中任一项所述的组合物，其中，
[0061]上述含氟拨液性化合物具有氟代烷基或氟代聚醚基。
[0062][11]如[10]所述的组合物，其中，
[0063]上述氟代聚醚基为下述式所示的基团：
[0064]－(OC6F
12
)
a
－(OC5F
10
)
b
－(OC4F8)
c
－(OC3R
Fa6
)
d
－(OC2F4)
e
－(OCF2)
f
－
[0065][式中，R
Fa
在各出现处分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，
[0066]a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，a、b、c、d、e和f之和为1以上，标注a、b、c、d、e或f并以括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，其中，在全部R
Fa
为氢原子或氯原子的情况下，a、b、c、e和f中的至少1个为1以上。]。
[0067][12]如[1]～[11]中任一项所述的组合物，其中，
[0068]上述含氟拨液性化合物为下述式(1)或式(2)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物：
[0069]R
F1α
‑
X
A
‑
R
Siβ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0070]R
Siγ
‑
X
A
‑
R
F2
‑
X
A
‑
R
Siγ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(2)
[0071][式中，
[0072]R
F1
在各出现处分别独立地为Rf1‑
或Rf1‑
R
F
‑
O
q
‑
；
[0073]R
F2
为
‑
Rf2‑
或
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种组合物，其特征在于，含有：成分(A)：交联性化合物，和成分(B)：含氟拨液性化合物，所述组合物满足下述式：P
b
－P
c
＞0式中：P
b
为由所述含氟拨液性化合物形成的层的表面自由能中极性分量比的值，P
c
为由所述组合物形成的层的表面自由能中极性分量比的值。2.如权利要求1所述的组合物，其特征在于：满足下述式：P
b
－P
c
≥3.0。3.如权利要求1所述的组合物，其特征在于：P
c
为20.0以下。4.如权利要求1所述的组合物，其特征在于：所述交联性化合物具有金属醇盐基。5.如权利要求1所述的组合物，其特征在于：所述交联性化合物为下述式(A1)或式(A2)所示的化合物：A[Z
a1
－M1(OR
a1
)
n1
(R
a2
)
n2－n1
]
m1
[Z
a2
－R
a3
]
m2
(A1)式(A1)中：A为1～10价的有机基团，Z
a1
分别独立地为单键或2价的有机基团，M1为Al、Ca、Fe、Ge、Hf、In、Si、Ta、Ti、Sn、Zr或Zn；R
a1
分别独立地为氢原子或C
1－6
烷基，R
a2
分别独立地为氢原子或烃基，n1分别独立地为1以上且(M1的价数－1)以下，n2分别独立地为(M1的价数－1)，Z
a2
分别独立地为单键或2价的有机基团，R
a3
分别独立地为反应性有机基团，m1为1～10的整数，m2为0～10的整数，m1与m2的合计为A的价数，式(2A)中：
M2为Al、Ca、Fe、Ge、Hf、In、Si、Ta、Ti、Sn、Zr或Zn；R
a4
分别独立地为氢原子、C
1－6
烷基或R
a6
－CO－；R
a6
为1价的烃基；R
a5
分别独立地为C
1－3
烷基或C
1－3
烷氧基；n3为所述M2的价数；n4为0以上且所述M2的价数以下。6.如权利要求5所述的组合物，其特征在于：n1为2以上。7.如权利要求5所述的组合物，其特征在于：所述R
a1
基为C
1－4
烷基。8.如权利要求5所述的组合物，其特征在于：A为亚烷基或下述式所示的基团：式中：X
a
分别独立地为单键或2价的有机基团。9.如权利要求5所述的组合物，其特征在于：所述反应性有机基团为异氰酸酯基、环氧基或乙烯基。10.如权利要求1所述的组合物，其特征在于：所述含氟拨液性化合物具有氟代烷基或氟代聚醚基。11.如权利要求10所述的组合物，其特征在于：所述氟代聚醚基为下述式所示的基团：
‑
(OC6F
12
)
a
‑
(OC5F
10
)
b
‑
(OC4F8)
c
‑
(OC3R
Fa6
)
d
‑
(OC2F4)
e
‑
(OCF2)
f
‑
式中，R
Fa
在各出现处分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，a、b、c、d、e和f之和为1以上，标注a、b、c、d、e或f并以括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，其中，在全部R
Fa
为氢原子或氯原子的情况下，a、b、c、e和f中的至少1个为1以上。12.如权利要求1所述的组合物，其特征在于：所述含氟拨液性化合物为下述式(1)或式(2)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物：R
F1α
‑
X
A
‑
R
Siβ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)R
Siγ
‑
X
A
‑
R
F2
‑
X
A
‑
R
Siγ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(2)式(1)或式(2)中：R
F1
在各出现处分别独立地为Rf1－或Rf1－R
F
－O
q
－；R
F2
为－Rf2－或－Rf
2p
－R
F
－O
q
－；
Rf1在各出现处分别独立地为可以取代有1个或1个以上氟原子的C
1－16
烷基；Rf2为可以取代有1个或1个以上氟原子的C
1－6
亚烷基；R
F
在各出现处分别独立地为2价的氟代聚醚基；p为0或1；q在各出现处分别独立地为0或1；R
Si
在各出现处分别独立地为包含结合有羟基、水解性基团或1价有机基团的Si原子的1价基团、或者包含反应性有机基团的1价基团；至少1个R
Si
为包含结合有羟基或水解性基团的Si原子的1价基团、或者包含反应性有机基团的1价基团；X
A
分别独立地为单键或2～10价的有机基团；α为1～9的整数；β为1～9的整数；γ分别独立地为1～9的整数。13.如权利要求12所述的组合物，其特征在于：R
F
在各出现处分别独立地为下式所示的基团：－(OC6F
12
)
a
－(OC5F
10
)
b
－(OC4F8)
c
－(OC3R
Fa6
)
d
－(OC2F4)
e
－(OCF2)
f
－式中，R
Fa
在各出现处分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，a、b、c、d、e和f之和为1以上，标注a、b、c、d、e或f并以括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，其中，在全部R
Fa
为氢原子或氯原子的情况下，a、b、c、e和f中的至少1个为1以上。14.如权利要求12所述的组合物，其特征在于：R
F
在各出现处分别独立地为下述式(f1)、式(f2)、式(f3)、式(f4)、式(f5)或式(f6)所示的基团：－(OC3F6)
d
－(OC2F4)
e
－(f1)式(f1)中，d为1～200的整数，e为0或1，－(OC4F8)
c
－(OC3F6)
d
－(OC2F4)
e
－(OCF2)
f
－(f2)式(f2)中，c和d分别独立地为0～30的整数；e和f分别独立地为1～200的整数；c、d、e和f之和为10～200的整数；标注脚标c、d、e或f并以括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，－(R6－R7)
g
－(f3)式(f3)中，R6为OCF2或OC2F4；R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F
10
和OC6F
12
的基团，或者，选自这些基团的2或3个基团的组合；g为2～100的整数，－(R6－R7)
g
－R
r
－(R7′
－R6′
)
g
′
－(f4)式(f4)中，R6为OCF2或OC2F4，R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F
10
和OC6F
12
的基团，或者，独立选自这些基团的2或3个基团的组合，
R6′
为OCF2或OC2F4，R7′
为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F
10
和OC6F
12
的基团，或者，独立选自这些基团的2或3个基团的组合，g为2～100的整数，g
′
为2～100的整数，R
r
为式中，＊表示结合位置；－(OC6F
12
)
a
－(OC5F
10
)
b
－(OC4F8)
c
－(OC3F6)
d
－(OC2F4)
e
－(OCF2)
f
－(f5)式(f5)中，e为1以上200以下的整数，a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数，并且，标注a、b、c、d、e或f并以括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，－(OC6F
12
)
a
－(OC5F
10
)
b
－(OC4F8)
c
－(OC3F6)
d
－(OC2F4)
e
－(OCF2)
f
－(f6)式(f6)中，f为1以上200以下的整数，a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数，并且，标注a、b、c、d、e或f并以括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。15.如权利要求12所述的组合物，其特征在于：所述反应性有机基团为异氰酸酯基、环氧基或乙烯基。16.如权利要求12所述的组合物，其特征在于：R
Si
为下述式(S1)、式(S2)、式(S3)、式(S4)或式(S5)所示的基团：
‑
SiR
11n1
R
123
‑
n1
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(S2)
‑
SiR
a1k1
R
b111
R
c1m1
ꢀꢀꢀꢀ
(S3)
‑
CR
d1k2
R
e112
R
f1m2
ꢀꢀꢀꢀꢀ
(S4)
‑
NR
g1
R
h1
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(S5)式(S1)、式(S2)、式(S3)、式(S4)或式(S5)中：R
11
在各出现处分别独立地为羟基或水解性基团；R
12
在各出现处分别独立地为1价的有机基团；n...

【专利技术属性】
技术研发人员：波北悟，森安礼奈，野村孝史，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：