一种高抗拉锂电铜箔制造方法技术

本发明专利技术公开了一种高抗拉锂电铜箔制造方法，包括如下步骤：步骤一、将金属铜单质放入含有硫酸和硫化镍混合液的溶铜塔中，并使用鼓风机向溶铜塔内鼓入高温空气，将铜溶解制备硫酸铜溶液；步骤二、混合硫酸铜溶液溢流到污液塔内，涉及属于锂电铜箔制造技术领域。本发明专利技术通过使用稀土细化剂能够使镍离子的沉积效率提高且通过加入稀土细化剂改善其力学性能，使镍电沉积层晶粒细化的作用，从而缩短工艺流程，调控镍板微观组织结构和均匀性，有望提升工业生产效率；同时使用乳酸和盐酸的混合液作为络合剂，随沉积电位的提高，薄膜成核密度增大，晶粒尺寸减小，致密度提高，使得制备的电解铜箔抗拉强度和延伸率都具有极大的提高。抗拉强度和延伸率都具有极大的提高。

【技术实现步骤摘要】
一种高抗拉锂电铜箔制造方法


[0001]本专利技术属于锂电铜箔制造
，特别是涉及一种高抗拉锂电铜箔制造方法。

技术介绍

[0002]电解铜箔是覆铜板及印制电路板、锂离子电池制造的重要的材料。在当今电子信息产业高速发展中，电解铜箔被称为电子产品信号与电力传输、沟通的"神经网络"。作为PCB的基板材料覆铜板也成为世界上第三大生产国。由此也使我国的电解铜箔产业在近几年有了突飞猛进的发展。
[0003]制备电解铜箔高抗拉锂电铜箔对电解液的要求比较高，一般锂电铜箔添加剂配方都需要包括三个主要部分，即光亮剂、整平剂和走位剂，相互配合，从而获得具有优良力学性能的电解铜箔。光亮剂，是促进铜箔毛面迅速起光亮的一类添加剂，多为一些含硫有机化合物；整平剂，是促进铜箔晶粒面心生长的一类剂，如不同分子量蛋白；走位剂，顾名思义，是帮助其它功能添加剂“走”到阴极辊表面各处的一类辅助添加剂，如聚醚类添加剂。
[0004]研究表明将稀土作为添加剂直接加入工业电解液中，稀土元素对镍沉积层的细化作用，从而缩短工艺流程，调控镍板微观组织结构和均匀性,有望提升工业生产效率，同时稀土使沉积层细化程度提高、组织均匀，且添加稀土后镍离子的沉积效率提高；并且以乳酸为络合剂的电解液中沉积出的Cu2O薄膜的晶粒尺寸比以三乙醇胺为络合剂的电解液中沉积出的薄膜晶粒尺寸大，结晶度好，致密度更高。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种高抗拉锂电铜箔制造方法，解决了上述技术背景中的问题。
[0006]为解决上述技术问题，本专利技术是通过以下技术方案实现的：
[0007]本专利技术为一种高抗拉锂电铜箔制造方法，包括如下步骤：
[0008]步骤一、将金属铜单质放入含有硫酸和硫化镍混合液的溶铜塔中，并使用鼓风机向溶铜塔内鼓入高温空气，将铜溶解制备硫酸铜溶液；
[0009]步骤二、混合硫酸铜溶液溢流到污液塔内，经过污液泵的抽液效果后先流入到过滤器中进行过滤，获得纯净硫酸铜溶液，然后再将纯净硫酸铜溶液压入到净液塔内；
[0010]步骤三、将特制的添加剂以计量化形式打入到净液塔内，搅拌均匀。
[0011]获得电解液；
[0012]步骤四、在40
‑
60℃温度和40
‑
80A/dm2的电流密度下进行电解获得半成品高抗拉电解铜箔，余废料回流到溶铜塔内。
[0013]步骤五、对半成品高抗拉电解铜箔进行酸洗、打磨、烘烤处理得到高抗拉电解铜箔。
[0014]本专利技术具有以下有益效果：
[0015]本专利技术通过使用稀土细化剂能够使镍离子的沉积效率提高且通过加入稀土细化
剂改善其力学性能，使镍电沉积层晶粒细化的作用，从而缩短工艺流程，调控镍板微观组织结构和均匀性，有望提升工业生产效率；同时使用乳酸和盐酸的混合液作为络合剂，随沉积电位的提高，薄膜成核密度增大，晶粒尺寸减小，致密度提高，使得制备的电解铜箔抗拉强度和延伸率都具有极大的提高。
具体实施方式
[0016]下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0017]实施例1
[0018]将金属铜单质放入含有硫酸和硫化镍混合液的溶铜塔中，并使用鼓风机向溶铜塔内鼓入高温空气，将铜溶解制备硫酸铜溶液；混合硫酸铜溶液溢流到污液塔内，经过污液泵的抽液效果后先流入到过滤器中进行过滤，获得纯净硫酸铜溶液，然后再将纯净硫酸铜溶液压入到净液塔内；将特制的添加剂以计量化形式打入到净液塔内，搅拌均匀。获得电解液；在40℃温度和40A/dm2的电流密度下进行电解获得半成品高抗拉电解铜箔，余废料回流到溶铜塔内。对半成品高抗拉电解铜箔进行酸洗、打磨、烘烤处理得到高抗拉电解铜箔；
[0019]添加剂的组成是：
[0020]10g/L稀土细化剂，且稀土细化剂中遴选出Ce、La、Pr、Nd四种元素；
[0021]20g/L乳酸和盐酸的混合液；
[0022]10g/L聚二硫二丙烷磺酸钠。
[0023]实施例2。
[0024]将金属铜单质放入含有硫酸和硫化镍混合液的溶铜塔中，并使用鼓风机向溶铜塔内鼓入高温空气，将铜溶解制备硫酸铜溶液；混合硫酸铜溶液溢流到污液塔内，经过污液泵的抽液效果后先流入到过滤器中进行过滤，获得纯净硫酸铜溶液，然后再将纯净硫酸铜溶液压入到净液塔内；将特制的添加剂以计量化形式打入到净液塔内，搅拌均匀。获得电解液；在60℃温度和80A/dm2的电流密度下进行电解获得半成品高抗拉电解铜箔，余废料回流到溶铜塔内。对半成品高抗拉电解铜箔进行酸洗、打磨、烘烤处理得到高抗拉电解铜箔；
[0025]添加剂的组成是：
[0026]50g/L稀土细化剂，且稀土细化剂中遴选出Ce、La、Pr、Nd四种元素；
[0027]60g/L乳酸和盐酸的混合液；
[0028]70g/L硫醇基丙烷磺酸钠。
[0029]实施例3。
[0030]将金属铜单质放入含有硫酸和硫化镍混合液的溶铜塔中，并使用鼓风机向溶铜塔内鼓入高温空气，将铜溶解制备硫酸铜溶液；混合硫酸铜溶液溢流到污液塔内，经过污液泵的抽液效果后先流入到过滤器中进行过滤，获得纯净硫酸铜溶液，然后再将纯净硫酸铜溶液压入到净液塔内；将特制的添加剂以计量化形式打入到净液塔内，搅拌均匀。获得电解液；在50℃温度和60A/dm2的电流密度下进行电解获得半成品高抗拉电解铜箔，余废料回流到溶铜塔内。对半成品高抗拉电解铜箔进行酸洗、打磨、烘烤处理得到高抗拉电解铜箔；
[0031]添加剂的组成是：
[0032]30g/L稀土细化剂，且稀土细化剂中遴选出Ce、La、Pr、Nd四种元素；
[0033]40g/L乳酸和盐酸的混合液；
[0034]50g/L二烯丙基三硫化合物。
[0035]实施例4。
[0036]将金属铜单质放入含有硫酸和硫化镍混合液的溶铜塔中，并使用鼓风机向溶铜塔内鼓入高温空气，将铜溶解制备硫酸铜溶液；混合硫酸铜溶液溢流到污液塔内，经过污液泵的抽液效果后先流入到过滤器中进行过滤，获得纯净硫酸铜溶液，然后再将纯净硫酸铜溶液压入到净液塔内；将特制的添加剂以计量化形式打入到净液塔内，搅拌均匀。获得电解液；在45℃温度和63A/dm2的电流密度下进行电解获得半成品高抗拉电解铜箔，余废料回流到溶铜塔内。对半成品高抗拉电解铜箔进行酸洗、打磨、烘烤处理得到高抗拉电解铜箔；
[0037]添加剂的组成是：
[0038]35g/L稀土细化剂，且稀土细化剂中遴选出Ce、La、Pr、Nd四种元素；
[0039]42g/L乳酸和盐酸的混合液；
[0040]50g/L硫醇基丙烷磺酸钠和二烯丙基三硫化合物的混合物。
[0041]对比例1
[0042]采用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高抗拉锂电铜箔制造方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤一、将金属铜单质放入含有硫酸和硫化镍混合液的溶铜塔中，并使用鼓风机向溶铜塔内鼓入高温空气，将铜溶解制备硫酸铜溶液；步骤二、混合硫酸铜溶液溢流到污液塔内，经过污液泵的抽液效果后先流入到过滤器中进行过滤，获得纯净硫酸铜溶液，然后再将纯净硫酸铜溶液压入到净液塔内；步骤三、将特制的添加剂以计量化形式打入到净液塔内，搅拌均匀。获得电解液；步骤四、在40
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60℃温度和40
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80A/dm2的电流密度下进行电解获得半成品高抗拉电解铜箔，余废料回流到溶铜塔内。步骤五、对半成品高抗拉电解铜箔进行酸洗、打磨、烘烤处理得到高抗拉电解铜箔。2.根据权利要求1所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：万桐，李成全，帕提古丽，
申请(专利权)人：新疆亿日铜箔科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：