本实用新型专利技术提供一种大尺寸版架,涉及光掩膜基板技术领域,包括壳体,所述壳体内侧设置有支撑台,所述壳体内侧设置有定位机构;所述定位机构包括转动台和移动块,所述转动台顶部表面设置有螺旋状滑槽,所述滑槽位于支撑台内侧,所述转动台位于支撑台下方,所述转动台上方设置有三个滑动块,所述滑动块底部固定连接有移动块,所述移动块底部固定连接有多个卡块,所述卡块位于滑槽内部,所述滑动块一侧固定连接有挤压垫。本实用新型专利技术将大尺寸版架放置在三个限位块内侧,然后通过转动轴、驱动齿轮、齿条、转动台、滑槽和卡块可以控制三个滑动块移动,然后通过三个挤压垫将需要加工的大尺寸版架定位好,可以适应于不同尺寸的基板。可以适应于不同尺寸的基板。可以适应于不同尺寸的基板。
【技术实现步骤摘要】
一种大尺寸版架
[0001]本技术涉及光掩膜基板
,尤其涉及一种大尺寸版架。
技术介绍
[0002]光掩膜基板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版。
[0003]现有技术中,如中国专利CN206833141U公开了一种用于光刻的版架,包括真空承载盘,真空承载盘的中部设置有真空环槽,真空承载盘上还设置有真空接口,真空环槽内设置有与真空接口相连通的连通孔,真空承载盘的上部设置有可以拆卸更换的掩膜板。本技术中真空承载盘、真空环槽以及掩膜板的配合设计,能够有效地保证接触的紧密程度,并可以对晶片损伤程度降到最低的曝光;该技术制得的晶片光刻线条和设计偏差小,线条尺寸均匀性好,且操作简单方便。
[0004]但是,在进行光刻工艺时,需要通过版架将光掩膜基板的基板进行定位,在对基板固定时,在对大尺寸版架定位时,由于不同基板的尺寸不同,而且一般的版架不能根据基板随意调整,所以需要更换另外的版架,因此需要对不同的基板提供不同的版架。
技术实现思路
[0005]本技术的目的是为了解决现有的技术中存在在进行光刻工艺时,需要通过版架将光掩膜基板的基板进行定位,在对基板固定时,在对大尺寸版架定位时,由于不同基板的尺寸不同,而且一般的版架不能根据基板随意调整,所以需要更换另外的版架,因此需要对不同的基板提供不同的版架的问题,而提出的一种大尺寸版架。
[0006]为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:一种大尺寸版架,包括壳体,所述壳体内侧设置有支撑台,所述壳体内侧设置有定位机构;
[0007]所述定位机构包括转动台和移动块,所述转动台顶部表面设置有螺旋状滑槽,所述滑槽位于支撑台内侧,所述转动台位于支撑台下方,所述转动台上方设置有三个滑动块,所述滑动块底部固定连接有移动块,所述移动块底部固定连接有多个卡块,所述卡块位于滑槽内部,所述滑动块一侧固定连接有挤压垫,所述转动台底部设置有齿条,所述齿条底部设置有驱动齿轮,所述驱动齿轮内侧设置有转动轴。
[0008]优选的,所述转动轴与驱动齿轮固定连接,所述驱动齿轮与齿条啮合。
[0009]优选的,所述齿条为环形结构,所述转动轴一端向内凹槽设置有插接口。
[0010]优选的,所述支撑台表面开设有三个限位槽,所述移动块滑动设置在限位槽内部。
[0011]优选的,所述转动台边缘与壳体内壁转动连接,所述支撑台外表面与壳体内表面固定连接。
[0012]优选的,所述支撑台固定设置有三个限位块,所述限位块和挤压垫均为弧形结构。
[0013]优选的,三个所述限位块间距大于挤压垫切面宽度,且三个所述限位块以支撑台
中心为圆心均匀分布在支撑台表面。
[0014]与现有技术相比,本技术的优点和积极效果在于:
[0015]1、本技术中,将大尺寸版架放置在三个限位块内侧,然后通过转动轴、驱动齿轮、齿条、转动台、滑槽和卡块可以控制三个滑动块移动,然后通过三个挤压垫将需要加工的大尺寸版架定位好,可以适应于不同尺寸的基板。
[0016]2、本技术中,通过挤压垫可以将支撑台表面的大尺寸版架定位时,移动槽可以在限位槽的导向和限位下,会在限位槽内部移动,可以稳定准确将大尺寸版架定位好。
附图说明
[0017]图1为本技术提出一种大尺寸版架的立体图;
[0018]图2为本技术提出一种大尺寸版架的支撑台和转动台立体图;
[0019]图3为本技术提出一种大尺寸版架的转动台底部立体图;
[0020]图4为本技术提出一种大尺寸版架的转动台表面立体图。
[0021]图例说明:1、壳体;11、支撑台;12、限位块;13、限位槽;2、定位机构;21、滑动块;211、移动块;212、卡块;22、挤压垫;23、转动轴;231、插接口;24、驱动齿轮;25、转动台;251、齿条;26、滑槽。
具体实施方式
[0022]为了能够更清楚地理解本技术的上述目的、特征和优点,下面结合附图和实施例对本技术做进一步说明。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0023]在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术,但是,本技术还可以采用不同于在此描述的其他方式来实施,因此,本技术并不限于下面公开说明书的具体实施例的限制。
[0024]请参阅图1
‑
3,本技术提供一种技术方案:一种大尺寸版架,包括壳体1,壳体1内侧设置有支撑台11,壳体1内侧设置有定位机构2;
[0025]定位机构2包括转动台25和移动块211,转动台25顶部表面设置有螺旋状滑槽26,滑槽26位于支撑台11内侧,转动台25位于支撑台11下方,转动台25上方设置有三个滑动块21,滑动块21底部固定连接有移动块211,移动块211底部固定连接有多个卡块212,卡块212位于滑槽26内部,滑动块21一侧固定连接有挤压垫22,转动台25底部设置有齿条251,齿条251底部设置有驱动齿轮24,驱动齿轮24内侧设置有转动轴23;转动轴23与驱动齿轮24固定连接,驱动齿轮24与齿条251啮合。
[0026]将大尺寸版架防止在三个限位块12内侧时,通过拧动转动轴23转动,接着,转动轴23表面的驱动齿轮24也会一起转动,由于驱动齿轮24和齿条251啮合,齿条251在驱动齿轮24的带动下,可以带动转动台25转动,然后,转动台25转动时,通过滑槽26配合卡块212可以控制移动块211移动,当移动块211移动时,移动块211可以在限位槽13的限位下,沿着限位槽13轨迹进行移动,最后,滑动块21在移动块211带动下,通过三个挤压垫22将大尺寸版架夹持住,便于将不同尺寸的大尺寸版架定位好。
[0027]如图2
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4所示,齿条251为环形结构,转动轴23一端向内凹槽设置有插接口231;支
撑台11表面开设有三个限位槽13,移动块211滑动设置在限位槽13内部;转动台25边缘与壳体1内壁转动连接,支撑台11外表面与壳体1内表面固定连接;支撑台11固定设置有三个限位块12,限位块12和挤压垫22均为弧形结构;三个限位块12间距大于挤压垫22切面宽度,且三个限位块12以支撑台11中心为圆心均匀分布在支撑台11表面,通过插接口231可以与相匹配的把手进行插接,然后通过把手旋转转动轴23,可以降低转动的难度,当转动台25底部的齿条251在驱动齿轮24的带动下转动时,可以方便控制三个滑动块21移动,进行定位大尺寸版架,接着,挤压垫22在移动定位大尺寸版架时,会穿过两个限位板之间的间隙,通过限位块12可以在放置大尺寸版架时起初步限位的效果。
[0028]本装置的使用方法及工作原理:将大尺寸版架防止在三个限位块12内侧时,通过拧动转动轴23转动,接着,转动轴23表本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种大尺寸版架,包括壳体(1),所述壳体(1)内侧设置有支撑台(11),其特征在于:所述壳体(1)内侧设置有定位机构(2);所述定位机构(2)包括转动台(25)和移动块(211),所述转动台(25)顶部表面设置有螺旋状滑槽(26),所述滑槽(26)位于支撑台(11)内侧,所述转动台(25)位于支撑台(11)下方,所述转动台(25)上方设置有三个滑动块(21),所述滑动块(21)底部固定连接有移动块(211),所述移动块(211)底部固定连接有多个卡块(212),所述卡块(212)位于滑槽(26)内部,所述滑动块(21)一侧固定连接有挤压垫(22),所述转动台(25)底部设置有齿条(251),所述齿条(251)底部设置有驱动齿轮(24),所述驱动齿轮(24)内侧设置有转动轴(23)。2.根据权利要求1所述的一种大尺寸版架,其特征在于:所述转动轴(23)与驱动齿轮(24)固定连接,所述驱动齿轮(24...
【专利技术属性】
技术研发人员:萧训山,谭斌,
申请(专利权)人:深圳市精石光掩膜技术有限公司,
类型:新型
国别省市:
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