一种薄膜基材的镀膜方法和薄膜产品技术

本发明专利技术提供一种薄膜基材的镀膜方法和薄膜产品，该镀膜方法包括：取薄膜基材；将所述薄膜基材放卷于第一镀膜设备中采用悬浮式镀膜方式进行第一次蒸镀；将第一次蒸镀后的薄膜基材放卷于第二镀膜设备中采用贴辊式镀膜方式进行第二次蒸镀。或者先将薄膜基材放卷于第一镀膜设备中采用贴辊式镀膜方式进行第一次蒸镀，然后将第一次蒸镀后的薄膜基材放卷于第二镀膜设备中采用悬浮式镀膜方式进行第二次蒸镀。本发明专利技术实施例中，第一镀膜设备采用的是悬浮式镀膜，第二镀膜设备采用贴辊式镀膜；或者第一镀膜设备为贴辊式，第二镀膜设备为悬浮式，采用这种双重控制模式，不仅可解决翘边鼓边的问题，还可以减少薄膜孔洞，提高薄膜的延伸性。伸性。伸性。

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜基材的镀膜方法和薄膜产品


[0001]本专利技术涉及薄膜制备
，具体涉及一种薄膜基材的镀膜方法和薄膜产品。

技术介绍

[0002]导电金属薄膜是一类具有多种良好性能的材料，现已广泛应用于电池中作为正极集流体或者负极集流体。随着真空镀膜技术的发展，柔性导电材料的生产工艺由真空镀膜逐步取代了传统的电镀、涂覆和化学处理方法，减少了传统工艺方法产生的污染，且拥有镀层纯度高、结合力好、均匀性好的优点。市面上现有两种类型的镀膜设备，一种是贴辊式蒸镀设备，另一种是悬浮式蒸镀设备。现有的镀膜方法如下几种：
[0003]1、生产中仅仅使用悬浮镀这种方法进行镀膜，由于悬浮镀采用蒸发舟加热，铝丝通过电机不停的送丝，在铝丝被熔化蒸发的过程很容易形成溅铝，而且溅铝不可控，容易导致膜面烧孔，生产出来的薄膜产品孔洞比较多，导致薄膜产品的延伸性较差；
[0004]2、生产中仅仅使用贴辊镀的方法进行镀膜，但是辊贴镀中的加热是采用坩埚式蒸发，其加热过程中能量损耗比较高，镀膜完成后不能立即出仓，需要将坩埚内没有蒸发完的铝料继续蒸发干净，冷却时间也比较长，接近2个小时，所以整个的贴辊镀生产周期长，效率低。
[0005]3、如专利号为CN113981376A，名称为镀膜组件及镀膜装置和镀膜方法的专利中，在一个蒸镀设备中同时进行悬浮式和贴辊式的方式进行蒸镀，由于悬浮式和贴辊式共用一个蒸发源，由于电流无法控制，其仍然无法解决产品孔洞问题，且在生产效率上大打折扣，另外，这种在同一设备中采用悬浮和贴辊镀的镀膜方式中，并且镀膜过程中无法查看铝丝的蒸发状态，因为悬浮镀膜过程中采用蒸发舟融化铝丝，在镀膜过程中采用送丝电机来驱动铝丝盘转动将铝丝送入蒸发舟的舟面，这种送丝方式，铝丝容易偏丝，目无法避免铝丝与蒸发电极接触而导致短路，此时必然会形成溅铝，导致膜面孔洞剧增。另外，在同一设备中采用悬浮和贴辊镀的镀膜方式，如果发生偏丝，关掉单个蒸发舟后，容易导致膜面的方阻不均匀。
[0006]但是，无论是单独使用贴辊式镀膜还是单独使用悬浮式镀膜的方法生产的薄膜产品都会容易产生孔洞，导致薄膜产品延伸性较差的技术问题。

技术实现思路

[0007]有鉴于此，本专利技术实施例的目的在于提供一种薄膜基材的镀膜方法和薄膜产品，以解决现有技术中所使用的镀膜方法在生产的薄膜产品都会容易产生孔洞，导致薄膜产品延伸性较差的技术问题。
[0008]为达上述目的，第一方面本专利技术实施例提供了一种薄膜基材的镀膜方法，所述镀膜方法包括：
[0009]取薄膜基材；
[0010]将所述薄膜基材放卷于第一镀膜设备中采用悬浮式镀膜方式进行第一次蒸镀；
[0011]将第一次蒸镀后的薄膜基材放卷于第二镀膜设备中采用贴辊式镀膜方式进行第二次蒸镀。
[0012]在一些可能的实施方式中，所述第一镀膜设备为悬浮式真空蒸镀设备，所述悬浮式真空蒸镀设备包括：设置在真空腔室中的第一放卷装置、第一收卷装置、蒸发舟、若干过辊、第一张力辊和第一冷却辊，所述若干过辊用于对所述薄膜基材进行导向，所述第一张力辊用于控制所述薄膜基材的张力，所述第一冷却辊用于对所述薄膜基材进行冷却；其中，所述薄膜基材的走膜速度为100m/min至400m/min，所述蒸发舟的送丝速度为300mm/min至500mm/min。
[0013]在一些可能的实施方式中，所述第二镀膜设备为贴辊式真空蒸镀设备，所述贴辊式真空蒸镀设备包括：设置在所述真空腔室中的第二放卷装置和第二收卷装置，第二冷却辊、展平辊、第二张力辊和坩埚，所述第二冷却辊用于对所述薄膜基材进行冷却，所述展平辊用于对薄膜基材进行展平，所述第二张力辊用于控制所述薄膜基材的张力；其中，所述薄膜基材的走膜速度为70m/min至100m/min。
[0014]在一些可能的实施方式中，在所述的将所述薄膜基材放卷于第一镀膜设备中采用悬浮式镀膜方式进行第一次蒸镀之前，还包括：
[0015]对薄膜基材进行预处理，在所述薄膜基材上设置一层粘结层。
[0016]第二方面，本专利技术实施例提供了另一种薄膜基材的镀膜方法，所述镀膜方法包括：
[0017]取薄膜基材；
[0018]将所述薄膜基材放卷于第一镀膜设备中采用贴辊式镀膜方式进行第一次蒸镀；
[0019]将第一次蒸镀后的薄膜基材放卷于第二镀膜设备中采用悬浮式镀膜方式进行第二次蒸镀。
[0020]在一些可能的实施方式中，所述第一镀膜设备为贴辊式真空蒸镀设备，所述贴辊式真空蒸镀设备中采用坩埚作为蒸发源，所述薄膜基材的走膜速度为70m/min至100m/min。
[0021]在一些可能的实施方式中，所述第二镀膜设备为悬浮式真空蒸镀设备，所述悬浮式真空蒸镀设备中采用蒸发舟作为蒸发源，所述薄膜基材的走膜速度为100m/min至400m/min，所述蒸发舟的送丝速度为300mm/min至500mm/min。
[0022]在一些可能的实施方式中，在将所述薄膜基材放卷于第一镀膜设备中采用贴辊式镀膜方式进行第一次蒸镀之前，还包括：
[0023]对薄膜基材进行预处理，在所述薄膜基材上设置一层粘结层。
[0024]第三方面，本专利技术实施例还提供了一种使用上述方法生产的薄膜产品，所述薄膜产品上的孔洞同时满足100um针孔频次小于等于0.2和500um针孔频次小于等于0.2，延伸率同时满足纵向拉伸率大于等于50％，且横向拉伸率大于等于40％。
[0025]第四方面，本专利技术实施例还提供了另一种使用上述方法生产的薄膜产品，所述薄膜产品上的孔洞同时满足100um针孔频次(ea/m2)≤0.1和500um针孔频次(ea/m2)≤0.2，延伸率同时满足纵向拉伸率大于等于55％，且横向拉伸率大于等于36％。
[0026]上述技术方案的有益技术效果在于：
[0027]本专利技术实施例提供的一种薄膜基材的镀膜方法和薄膜产品，该镀膜方法包括：取薄膜基材；将所述薄膜基材放卷于第一镀膜设备中采用悬浮式镀膜方式进行第一次蒸镀；将第一次蒸镀后的薄膜基材放卷于第二镀膜设备中采用贴辊式镀膜方式进行第二次蒸镀。
或者先将薄膜基材放卷于第一镀膜设备中采用贴辊式镀膜方式进行第一次蒸镀，然后将第一次蒸镀后的薄膜基材放卷于第二镀膜设备中采用悬浮式镀膜方式进行第二次蒸镀。本专利技术实施例中，第一镀膜设备采用的是悬浮式镀膜，然后将悬浮式镀膜后形成的产品运输到第二镀膜设备中，第二镀膜设备采用贴辊式镀膜；或者第一镀膜设备为贴辊式，第二镀膜设备为悬浮式，通过分别在不同的设备中采用不同的镀膜方式先后对薄膜基材进行蒸镀，采用这种双重控制模式，不仅可解决翘边鼓边的问题，还可以减少薄膜孔洞，提高薄膜的延伸性。
附图说明
[0028]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种薄膜基材的镀膜方法，其特征在于，所述镀膜方法包括：取薄膜基材；将所述薄膜基材放卷于第一镀膜设备中采用悬浮式镀膜方式进行第一次蒸镀；将第一次蒸镀后的薄膜基材放卷于第二镀膜设备中采用贴辊式镀膜方式进行第二次蒸镀。2.根据权利要求1所述的一种薄膜基材的镀膜方法，其特征在于，所述第一镀膜设备为悬浮式真空蒸镀设备，所述悬浮式真空蒸镀设备包括：设置在真空腔室中的第一放卷装置、第一收卷装置、蒸发舟、若干过辊、第一张力辊和第一冷却辊，所述若干过辊用于对所述薄膜基材进行导向，所述第一张力辊用于控制所述薄膜基材的张力，所述第一冷却辊用于对所述薄膜基材进行冷却；其中，所述薄膜基材的走膜速度为100m/min至400m/min，所述蒸发舟的送丝速度为300mm/min至500mm/min。3.根据权利要求1所述的一种薄膜基材的镀膜方法，其特征在于，所述第二镀膜设备为贴辊式真空蒸镀设备，所述贴辊式真空蒸镀设备包括：设置在所述真空腔室中的第二放卷装置、第二收卷装置、第二冷却辊、展平辊、第二张力辊和坩埚，所述第二冷却辊用于对所述薄膜基材进行冷却，所述展平辊用于对薄膜基材进行展平，所述第二张力辊用于控制所述薄膜基材的张力；其中，所述薄膜基材的走膜速度为70m/min至100m/min。4.根据权利要求1所述的一种薄膜基材的镀膜方法，其特征在于，在所述的将所述薄膜基材放卷于第一镀膜设备中采用悬浮式镀膜方式进行第一次蒸镀之前，还包括：对薄膜基材进行预处理，在所述薄膜基材上设置一层粘结层。5.一种薄膜基材的镀膜方法，其特征在于，所述镀膜方法包括：取薄膜基材；将所述薄膜基材放卷于第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：臧世伟，刘文卿，
申请(专利权)人：重庆金美新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：