宝石平面抛光盘的制备方法及用于制备抛光层的材料技术

本发明专利技术涉及一种用于宝石平面抛光的抛光盘的制备方法及制备所述抛光盘的抛光层材料，抛光盘的制备方法有以下步骤：在铸铁基体的端面加工出４条对称分布的用于固定抛光层的燕尾槽；取锡、铅、铜，先将锡加热至熔化，再将铅放入锡的液体中熔化，最后将铜放入锡铅的混合液中，熔化；预热抛光盘基体；预热的抛光盘基体上浇铸熔化的锡铅铜合金，使基体和抛光层的牢固结合；车削抛光盘即得所述抛光盘。采用本发明专利技术方法制备的抛光盘，对宝石平面抛光时，表面划伤少，表面光洁度提高，抛光盘利用率高，且抛光层抗氧化及耐磨性能好，达到提高质量及效率、降低成本、批量生产的目的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种抛光盘的制备方法，特别涉及一种宝石平面抛光盘的制备方法及 用于制备抛光层的材料。
技术介绍
人造蓝宝石具有硬度高，耐磨损，线性膨胀系数小，抗压强度高和耐酸碱、耐腐蚀 等特点，特别是与钢配合干摩擦系数小，因此消耗动力小，可以提高仪器仪表的精度，因此， 常用于制造成宝石平面轴承，广泛应用于航空航天、军工、量具等仪器仪表。但是，由于蓝宝 石莫氏硬度达9级，晶体具有各向异性，加工难度大。宝石的表面质量、光洁度及平面度，决 定了其使用寿命和性能。其中，抛光盘的平面度合适和抛光层的材料及是影响宝石平面抛 光质量的关键因素。现有的宝石平面抛光盘由纯锡直接浇铸而成。通常的宝石平面抛光盘的制备方法，是由纯锡熔化后，直接浇铸而成。用这种方 法制成的抛光盘，抗氧化性、耐磨性能差，在抛光过程中，宝石平面表面光洁度低，表面质量 差，70%的产品表面会产生严重擦痕，此外，还需经常对抛光盘表层进行车削，导致抛光盘 利用率低，批量加工困难，成本高。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种宝石平面的抛光盘的制备方法及用于制备抛光层的材 料。采用本专利技术方法制备的抛光盘，对宝石平面抛光时，表面划伤少，表面光洁度提高，抛光 盘利用率高，且抛光层抗氧化及耐磨性能好，达到提高质量及效率、降低成本、批量生产的 目的。本专利技术的技术方案如下用于宝石平面抛光的抛光盘的制备方法，有以下步骤(1)抛光盘基体制作将铸铁集体的表面车削平整后，在抛光盘的端面加工出4条 对称分布的用于固定抛光层的燕尾槽，清理基体的表面；(2)抛光层材料制备分别称取锡、铅、铜，先将锡加热至熔化，除去锡液表面的杂 质和浮渣；再将铅放入锡的液体中熔化，除去液体表面的杂质和浮渣；最后将铜放入锡铅 的混合液中，完全熔化三种材料，混合均勻，并除去液体表面的杂质和浮渣；(3)抛光盘基体的预热用薄铁皮沿基体平面的外缘围成筒状，将铸铁基体预热 至 200-250 °C ；(4)抛光盘浇铸将步骤(2)所述的熔液倒入围成筒状的基体表面，直至达到所需 的厚度，待表层冷却至100°c左右时，用平面度较好的钢板压置在基体表层，自然冷却，使基 体和抛光层的牢固结合；(5)抛光盘车削待抛光盘冷却后，除去铁皮，对基体表面进行车削，除去表层杂 质，即得所述抛光盘。3用于制备抛光盘的抛光层材料，由锡、铅和铜组成，各组分重量百分比为锡50-70%;铅27-47%;铜2-5%。其中，各组分采用锡为1号或2号纯锡，纯度大于99. 9%;铅为1号或2号纯铅， 纯度大于99. 9% ；铜的纯度大于98%。采用本专利技术技术方案，抛光盘的基体采用铸铁材料，在抛光盘的端面加工出4条 对称分布燕尾槽，用于固定抛光层。将熔液倒在基体上时，由于基体和熔液是两种的不同材 料，并且基体上还设置有燕尾槽，因此基体和抛光层的能够牢固地结合为一体。本专利技术所述 的抛光层材料中的铜可以增加抛光盘耐磨性、耐腐蚀性，提高抛光盘的延展性，铅可以调整 抛光盘性能，减小抛光盘硬度，使抛光盘硬度适中。因此，采用本专利技术抛光盘抛光时，产品的 表面划伤少，表面光洁度提高，抛光盘利用率高，且抛光层抗氧化及耐磨性能好铅的作用。表1为常规的抛光盘和本专利技术抛光盘的性能比较表 1 具体实施例方式抛光层所需的各组分按照表2配置表2 实施例1宝石平面抛光盘具体制作步骤如下(1)车制抛光盘基体基体材料一般用铸铁，基体的表面在车削平整后，在一端面 加工出4条对称分布的燕尾槽，固定抛光层材料。用棉纱沾汽油擦去基体表面上的油污，再用铜丝刷刷去表面铁屑和脏物。(2)抛光材料的熔炼按表序号1的配置称取锡、铅、铜。将锡置于铁锅中，放到电 炉上加热至熔化，用铁勺除去锡液表面的杂质和浮渣；再将铅放入锡的液体中熔化，用铁勺 除去液体表面的杂质和浮渣；最后将紫铜放入锡铅的混合液中，完全熔化三种材料，混合均 勻，并除去液体表面的杂质和浮渣。(3)基体的预热用报纸和薄铁皮沿基体平面的外缘围成筒状。将铸铁基体置于 另一个电炉上预热至200-250°C，取下基体放置于靠近熔混合材料近处的铁板上(铁板端 面应比较平整)。(4)抛光盘浇铸将加热熔化并经搅拌均勻的熔液倒入围成筒状的基体表面，直 至达到所需的厚度。待表层冷却至100°c左右时，用平面度较好的钢板压置在表层，使其自 然冷却。(5)抛光盘车削待抛光盘冷却后，除去铁皮等包扎物，用车床对表面进行车削， 除去表层杂质，即得本专利技术所述抛光盘。(6)保存贴上标签，做好标识，保存待用。实施例2与实施例不同的是抛光材料的熔炼时，按表序号2的配置称取锡、铅、铜，其余步 骤与实施例相同。实施例3与实施例不同的是抛光材料的熔炼时，按表序号3的配置称取锡、铅、铜，其余步 骤与实施例相同。实施例4与实施例不同的是抛光材料的熔炼时，按表序号4的配置称取锡、铅、铜，其余步 骤与实施例相同。所制备的抛光盘，均有对宝石平面抛光时，表面划伤少，表面光洁度高，抛抛光层 抗氧化及耐磨性能好的优点。虽然本专利技术已以较佳实施例披露如上，然其并非用以限定本专利技术，任何所属技术 领域的技术人员，在不脱离本专利技术之精神和范围内，当可作些许之更动与改进，因此本专利技术 之保护范围当视权利要求所界定者为准。权利要求一种用于宝石平面抛光的抛光盘制备方法，其特征在于有以下步骤(1)抛光盘基体制作将铸铁基体的表面车削平整后，在端面加工出4条对称分布的用于固定抛光层的燕尾槽，清理基体的表面；(2)抛光层材料制备分别称取锡、铅、铜，先将锡加热至熔化，除去锡液表面的杂质和浮渣；再将铅放入锡的液体中熔化，除去液体表面的杂质和浮渣；最后将铜放入锡铅的混合液中，完全熔化三种材料，混合均匀，并除去液体表面的杂质和浮渣；(3)抛光盘基体的预热用薄铁皮沿基体平面的外缘围成筒状，将铸铁基体预热至200-250℃；(4)抛光盘浇铸将步骤(2)所述的熔液倒入围成筒状的基体表面，直至达到所需的厚度，待表层冷却至100℃左右时，用平面度较好的钢板压置在基体表层，自然冷却，使基体和抛光层的牢固结合；(5)抛光盘车削待抛光盘冷却后，除去铁皮，对基体表面进行车削，除去表层杂质，即得所述抛光盘。2.一种用于制备权利要求1所述抛光盘的抛光层材料，其特征在于由锡、铅和铜组成， 各组分重量百分比为锡 50-70% ；铅 27-47% ；铜 2-5%。3.根据权利要求2所述的材料，其特征在于所述材料各组分锡为1号或2号纯锡，纯 度大于99. 9% ；铅为1号或2号纯铅，纯度大于99. 9% ；铜的纯度大于98%。全文摘要本专利技术涉及一种用于宝石平面抛光的抛光盘的制备方法及制备所述抛光盘的抛光层材料，抛光盘的制备方法有以下步骤在铸铁基体的端面加工出4条对称分布的用于固定抛光层的燕尾槽；取锡、铅、铜，先将锡加热至熔化，再将铅放入锡的液体中熔化，最后将铜放入锡铅的混合液中，熔化；预热抛光盘基体；预热的抛光盘基体上浇铸熔化的锡铅铜合金，使基体和抛光层的牢固结合；车削抛光盘即得所述抛光盘。采用本专利技术方法制备的抛光盘，对宝石平面抛光时，表面划伤少，表面光洁度提高，抛光盘利用率高，且抛光层抗氧化及耐磨性能好，达到提高质量及效率、降低成本、批量生产的目的。文档编号B24D18/00GK101875185SQ20091010373公开日2010年11月3日 申请日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于宝石平面抛光的抛光盘制备方法，其特征在于有以下步骤：（１）抛光盘基体制作：将铸铁基体的表面车削平整后，在端面加工出４条对称分布的用于固定抛光层的燕尾槽，清理基体的表面；（２）抛光层材料制备：分别称取锡、铅、铜，先将锡加热至熔化，除去锡液表面的杂质和浮渣；再将铅放入锡的液体中熔化，除去液体表面的杂质和浮渣；最后将铜放入锡铅的混合液中，完全熔化三种材料，混合均匀，并除去液体表面的杂质和浮渣；（３）抛光盘基体的预热：用薄铁皮沿基体平面的外缘围成筒状，将铸铁基体预热至２００－２５０℃；（４）抛光盘浇铸：将步骤（２）所述的熔液倒入围成筒状的基体表面，直至达到所需的厚度，待表层冷却至１００℃左右时，用平面度较好的钢板压置在基体表层，自然冷却，使基体和抛光层的牢固结合；（５）抛光盘车削：待抛光盘冷却后，除去铁皮，对基体表面进行车削，除去表层杂质，即得所述抛光盘。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：柏教林，
申请(专利权)人：重庆川仪自动化股份有限公司，
类型：发明
国别省市：85[中国|重庆]