本实用新型专利技术涉及蚀刻机技术领域,具体为一种支撑底座及等离子蚀刻机,包括:等离子刻蚀机,连接柱和调节螺杆,所述等离子刻蚀机连接有支撑腿,所述连接柱侧壁开设有螺纹槽一和环形槽,所述调节螺杆连接有调节环和固定板;有益效果为:在使用时,首先根据地面的平整度转动调节环,使得凸块与环形槽进行分离,随后通过螺纹槽一与调节螺杆之间的螺纹连接,对调节螺杆进行转动,当调节到适当的高度时,再通过橡胶条回旋调节环,将凸块插入到环形槽当中,以此来防止地面不平整造成等离子刻蚀机的晃动的同时通过调节环进一步加强调节螺杆与连接柱的连接,以便于防止螺纹槽一与调节螺杆之间产生松动,进而影响等离子刻蚀机的正常使用。用。用。
【技术实现步骤摘要】
一种支撑底座及等离子蚀刻机
[0001]本技术涉及蚀刻机
,具体为一种支撑底座及等离子蚀刻机。
技术介绍
[0002]等离子刻蚀机是一种通过等离子体引起的化学反应和轰击产生的物理反应对待刻蚀件进行刻蚀的装置。
[0003]现有技术中,在对等离子刻蚀机进行使用的时候,通常需要对其进行支撑,以此来确保等离子刻蚀机的稳定。
[0004]但是,在对等离子刻蚀机进行支撑的时候,通常使用螺杆支脚进行高度调节,但是这种支脚底座减震效果较差,且螺杆在使用后容易出现松动现象,从而影响等离子刻蚀机的正常使用。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于提供一种支撑底座及等离子蚀刻机,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种支撑底座,所述支撑底座包括:
[0007]支撑腿,所述支撑腿设有四个,四个所述支撑腿同一端固定连接有等离子刻蚀机,每个所述支撑腿的内部设有阻尼减震器;
[0008]连接柱,一端与支撑腿相连接,所述连接柱远离支撑腿的一端侧壁上开设有螺纹槽一和环形槽;及
[0009]调节螺杆,与连接柱相连接,所述调节螺杆连接有调节环和固定板。
[0010]优选的,所述支撑腿的内部开设有安装槽,所述安装槽远离等离子刻蚀机的一端内壁上开设有通孔。
[0011]优选的,所述阻尼减震器的一端与安装槽靠近离子刻蚀机的一端内壁固定连接,所述阻尼减震器的另一端与连接柱位于安装槽的一端固定连接。
[0012]优选的,所述连接柱的另一端竖向穿过通孔,所述连接柱通过螺纹槽一与调节螺杆的一端螺纹连接,所述螺纹槽一位于环形槽内侧。
[0013]优选的,所述调节环套接在调节螺杆的外壁上,所述调节环的内圈开设有螺纹槽二,所述调节环的外圈侧壁上设有若干个均匀分布的橡胶条。
[0014]优选的,所述调节环靠近连接柱的一端侧壁上固定连接有凸块,所述凸块呈环形,所述凸块与环形槽相连接。
[0015]优选的,所述固定板与调节螺杆相对的侧壁上固定连接有防滑垫。
[0016]一种等离子蚀刻机,包括上述的支撑底座。
[0017]与现有技术相比,本技术的有益效果是:
[0018]在对等离子刻蚀机进行使用时,首先根据地面的平整度转动调节环,使得凸块与
环形槽进行分离,随后通过螺纹槽一与调节螺杆之间的螺纹连接,对调节螺杆进行转动,当调节到适当的高度时,再通过橡胶条回旋调节环,将凸块插入到环形槽当中,以此来防止地面不平整造成等离子刻蚀机的晃动的同时通过调节环进一步加强调节螺杆与连接柱的连接,以便于防止螺纹槽一与调节螺杆之间产生松动,进而影响等离子刻蚀机的正常使用。
附图说明
[0019]图1为本技术整体结构示意图;
[0020]图2为本技术支撑腿结构示意图;
[0021]图3为本技术支撑腿内部结构示意图;
[0022]图4为本技术图3中A处结构放大示意图。
[0023]图中:1、等离子刻蚀机;2、支撑腿;3、连接柱;4、调节环;5、调节螺杆;6、固定板;7、防滑垫;8、安装槽;9、通孔;10、螺纹槽一;11、阻尼减震器;12、环形槽;13、橡胶条;14、螺纹槽二;15、凸块。
具体实施方式
[0024]为了使本专利技术的目的、技术方案进行清楚、完整地描述,及优点更加清楚明白,以下结合附图对本专利技术实施例进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例,仅仅用以解释本专利技术实施例,并不用于限定本专利技术实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。
[0025]实施例一:
[0026]请参阅图1
‑
图4,本技术提供一种技术方案:一种支撑底座,支撑底座包括:支撑腿2,支撑腿2设有四个,四个支撑腿2同一端固定连接有等离子刻蚀机1,每个支撑腿2的内部设有阻尼减震器11;连接柱3,一端与支撑腿2相连接,连接柱3远离支撑腿2的一端侧壁上开设有螺纹槽一10和环形槽12;调节螺杆5,与连接柱3相连接,调节螺杆5连接有调节环4和固定板6;支撑腿2的内部开设有安装槽8,安装槽8远离等离子刻蚀机1的一端内壁上开设有通孔9;一种等离子蚀刻机,包括上述的支撑底座。
[0027]在对等离子刻蚀机1进行使用时,首先根据地面的平整度转动调节环4,使得凸块15与环形槽12进行分离,随后通过螺纹槽一10与调节螺杆5之间的螺纹连接,对调节螺杆5进行转动,当调节到适当的高度时,再通过橡胶条13回旋调节环4,将凸块15插入到环形槽12当中,以此来防止地面不平整造成等离子刻蚀机1的晃动的同时通过调节环4进一步加强调节螺杆5与连接柱3的连接,以防止螺纹槽一10与调节螺杆5之间产生松动,进而影响等离子刻蚀机1的正常使用。
[0028]实施例二:
[0029]在实施例一的基础上,为了防止等离子刻蚀机1在工作时产生晃动,进而影响实验效果,使得阻尼减震器11的一端与安装槽8靠近离子刻蚀机1的一端内壁固定连接,阻尼减震器11的另一端与连接柱3位于安装槽8的一端固定连接;固定板6与调节螺杆5相对的侧壁上固定连接有防滑垫7。
[0030]通过连接柱3与阻尼减震器11之间进行固定连接,在等离子刻蚀机1产生晃动的时
候,通过阻尼减震器11带动连接柱3在安装槽8内部进行减震处理,另外通过防滑垫7防止等离子刻蚀机1在工作时发生位移。
[0031]实施例三:
[0032]在实施例一的基础上,为了防止调节螺杆5产生滑动,连接柱3的另一端竖向穿过通孔9,连接柱3通过螺纹槽一10与调节螺杆5的一端螺纹连接,螺纹槽一10位于环形槽12内侧;调节环4套接在调节螺杆5的外壁上,调节环4的内圈开设有螺纹槽二14,调节环4的外圈侧壁上设有若干个均匀分布的橡胶条13;调节环4靠近连接柱3的一端侧壁上固定连接有凸块15,凸块15呈环形,凸块15与环形槽12相连接。
[0033]首先转动调节环4,使得凸块15与环形槽12进行分离,随后通过螺纹槽一10与调节螺杆5之间的螺纹连接,对调节螺杆5进行转动,当调节到适当的高度时,再通过橡胶条13回旋调节环4,将凸块15插入到环形槽12当中,以此来防止地面不平整造成等离子刻蚀机1的晃动的同时通过调节环4进一步加强调节螺杆5与连接柱3的连接,以防止螺纹槽一10与调节螺杆5之间产生松动,进而影响等离子刻蚀机1的正常使用。
[0034]实际使用时,在对等离子刻蚀机1进行使用时,首先根据地面的平整度转动调节环4,使得凸块15与环形槽12进行分离,随后通过螺纹槽一10与调节螺杆5之间的螺纹连接,对调节螺杆5进行转动,当调节到适当的高度时,再通过橡胶条13回旋调节环4,将凸块15插入到环形槽12当中,以此来防止地面不平整造成等离子刻蚀机1的晃动的同时通过调节环4进一步加强调节螺杆5与连接柱3的连接本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种支撑底座,其特征在于:所述支撑底座包括:支撑腿(2),所述支撑腿(2)设有四个,四个所述支撑腿(2)同一端固定连接有等离子刻蚀机(1),每个所述支撑腿(2)的内部设有阻尼减震器(11);连接柱(3),一端与支撑腿(2)相连接,所述连接柱(3)远离支撑腿(2)的一端侧壁上开设有螺纹槽一(10)和环形槽(12);及调节螺杆(5),与连接柱(3)相连接,所述调节螺杆(5)连接有调节环(4)和固定板(6)。2.根据权利要求1所述的一种支撑底座,其特征在于:所述支撑腿(2)的内部开设有安装槽(8),所述安装槽(8)远离等离子刻蚀机(1)的一端内壁上开设有通孔(9)。3.根据权利要求2所述的一种支撑底座,其特征在于:所述阻尼减震器(11)的一端与安装槽(8)靠近离子刻蚀机(1)的一端内壁固定连接,所述阻尼减震器(11)的另一端与连接柱(3)位于安装槽(8)的一端固定连接。4.根据权利要求2所述的一种...
【专利技术属性】
技术研发人员:骆晔,
申请(专利权)人:迈捷克纳米科技苏州有限公司,
类型:新型
国别省市:
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