工业园区的废水处理制造技术

一种先进的、高效节能的工业园区的废水处理工艺，采用先进的Ａ／Ｏ２废水处理工艺和氧化絮凝一生物接触氧化组合工艺能有效的去除ＣＯＤ、ＢＯＤ５、ＴＰ和ＮＨ３－Ｎ，达到了工业废水排放标准。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种处理工业园区废水的最佳工艺流程属工业水处理领域。特别是一 种电子工业废水的处理。
技术介绍
在这电子工业实现技术更新的年代，战略性的工业园区进入了一个全面而又特殊 的发展阶段。工业园区集中了医药、化工、磁性材料、染料、酸洗、电镀等企业。这些企业使 用的原料不同、生产工艺不同，产生的废水也不同，其中很多是高污染难处理的废水，特别 是电子工业酸洗废水成分复杂、处理难度较大，采用一般的污水处理方法以及单一物化处 理或生化处理都很难达到排放要求。采用吹脱、萃取等手段处理后的废水进入生化处理池时B0D5、COD仍比较高，我国 城市污水处理厂及工业污水处理装置主要采用的生化处理工艺包括普通活性污泥、氧化 沟、SBR、Α/0、Α2/0、Α/Β、BAF等，并且它们都是采用空气曝气、其中80%以上的污水处理厂 采用普通活性污泥法、因而现在的污水处理厂普遍存在工艺技术落后而造成的建设工程投 资高、占地面积大、建成投入运行能耗高、剩余污泥产量大等问题。本专利技术的目的是解决上述问题，提供一种先进的、高效节能的工业园区的废水处 理工艺技术、采用先进的Α/02废水处理工艺和絮凝氧化组合工艺，C0D、B0D、NH3-N的去除率 高，出水达到GB8978-1996《污水综合排放标准》一级标准。为工业园区高污染、废水难处 理达标开辟了一条新路径。本专利技术解决其技术问题的技术方案①氧化絮凝组合工艺技术有氧化和絮凝两种 功效为一体，对COD、TP和NH3-N均有良好的去除率，为后续生化组合处理奠定了基础。②工业园区中电子行业集中，特别是电子工业酸洗废水成分复杂，很难处理，采用 单一物化处理或生化处理都很难达到排放要求，采用强化絮凝一生物接触氧化组合工艺能 有效地去除COD、BOD5, TP和NH3-N。③当工业园区废水进入COD < 1600mg/L，流号5L/h，药剂投加量为160mg/L，停留 时间为7h时，经强化絮凝和两级好氧处理后，出水COD < 100mg/L、TP < 1. 5mg/L、NH3-N < 8mg/L达到了工业废水排放的要求。工业园区的电子产品企业在排放的废水中含有大量的磷酸盐、乙二酸胺等污染 物，COD在1500-2000mg/L，该废水组成复杂，废水呈酸性难以直接进行生化处理，而采用一 般物化处理又难以达到排放。目前国内外对有机工业废水的处理主要用物化水解酸化加好 氧法和生化加絮凝法等，而对工业园区电子工业、IT行业废水处理较少报道。为次，本专利技术研究实验了强化絮凝生物接触氧化组合工艺，处理工业园区电子工 业废水的可行性和处理效果，确定了合理经济的设备运行参数。为工业园区废水处理实际 操作提供依据。一、方法和设备；废水取自工业园区IT企业生产厂、废水呈灰白色、浊度高、含有乙二酸胺、磷酸3盐、铝离子等污染物，每天排放量约300m3，其水质特征为PH5 5. 5,COD1400 1650mg/L、 B0DS550 640mg/L、NH3-N 200 280mg/L、TP 150 220mg/L。①强化絮凝以常用的工业品硫酸铝和氧化钙为基本原料，进行化学改性制得铝盐和改性钙盐 (含有高价铁盐等氧化剂)进行复合，制得氧化絮凝剂对废水进行予处理。烧标试验，采用六联搅拌器搅拌光以300v/min快搅lmin，再以60v/min慢速搅 15min，沉淀30min后，取上层清液分析。动态试验在絮凝模拟装置中进行，废水经泵打入混 合池中与药剂混合1 2min后进入反应池进行絮凝反应10 15min，沉淀45 60min，污 泥由底部排放。②生化处理采用两级生物接触氧化，对予处理原废水进行生化处理，两级好氧柱溶积为35L， 停留时间为7h，柱内装有填料，生物菌种为伏势菌加兼氧性活性污泥，经一周驯化挂膜后， 逐步加予处理后废水进行生化处理，定期分析一级好氧和二级好氧出水中各项指标。③废水处理工艺根据水质分析和烧杯实验，该废水处理采用强化絮凝，两级接触生物氧化，工艺流 程如附图所示二、结果和讨论1、氧化絮凝剂在处理过程中充分发挥氧化、絮凝、吸附、共沉等作用，不仅对悬浮 物和胶体物质有去除效果，同时可以将溶解性有机物氧化成带负电荷的微粒，最后絮凝、吸 附去除。因此采用氧化絮凝法对废水中COD的去除率高达55%，出水COD < 700mg/L，PH从 5. 4升高到6. 5为后续生化处理提供条件基础。氧化絮凝剂质量浓度为140 160mg/L时COD的去除率> 55 %，出水COD < 700mg/L，满足试验要求。故试验选择药剂最佳药量为150mg/L。2、生化动态试验经二级好氧处理后，出水COD < 100mg/L,TP < 1. 5mg/L,NH3-N < 8mg/L,、达到了 排放要求。此时B0D5/C0D为0. 22说明二级出水中可降解的有机物已很少了。3在最佳工艺条件下动态模拟试验结果在氧化絮凝剂投加量150mg/L，废水流量5L/h，好氧柱停留7h工艺条件下，试验结 果显示采用强化絮凝生化组合工艺对工业园区电子酸性废水有较好的去除效果，在最佳 工艺条件下，COD去除率平均> 94 %，TP总去除率平均> 98 %，NH3-N总去除率平均> 97 %， 最终出水COD < 100mg/L, TP < 1. 5mg/L, NH3-N < 8mg/L，达到了工业废水排放要求。附图说明图1是强化絮凝，两级接触生物氧化，工艺流程图。权利要求工业园区的废水处理，其特征是采用强化絮凝生化组合工艺对工业园区废水进行治理，有效去除COD、BOD5、TP和NH3-N。2.根据权利要求所述的工业园区的废水处理，其氧化絮凝剂对工业园区的废水有较好 的净化效果，对生化处理具有促进作用，药剂的最佳投加量为100 180mg/L，可根据水质 进行复配。3.根据权利要求所述的工业园区的废水处理，采用的两级生物接触氧化、两级好氧柱 工作容积可相同和不相同，停留时间设置相同或不同。全文摘要一种先进的、高效节能的工业园区的废水处理工艺，采用先进的A/O2废水处理工艺和氧化絮凝一生物接触氧化组合工艺能有效的去除COD、BOD5、TP和NH3-N，达到了工业废水排放标准。文档编号C02F9/14GK101880104SQ20091009828公开日2010年11月10日 申请日期2009年5月5日 优先权日2009年5月5日专利技术者范志平 申请人:宁波万吉电子科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
工业园区的废水处理，其特征是采用强化絮凝生化组合工艺对工业园区废水进行治理，有效去除ＣＯＤ、ＢＯＤ↓［５］、ＴＰ和ＮＨ↓［３］－Ｎ。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：范志平，
申请(专利权)人：宁波万吉电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：33[中国|浙江]