本申请涉及一种镀膜均匀的真空镀膜设备，涉及镀膜技术领域，一种镀膜均匀的真空镀膜设备，包括:腔体和腔盖，腔体的腔壁设置为空心腔壁且腔体一侧开口，腔体的腔壁内灌入导热油用于对腔体内部空间进行加热，腔盖与腔体开口的一端连接，腔盖靠近腔体的一面固定连接有安装柱，安装柱固定连接在腔盖中心，安装柱远离腔盖的一端固定连接有加热块，加热块处于腔体中心位置。本申请具有镀膜均匀的效果。本申请具有镀膜均匀的效果。本申请具有镀膜均匀的效果。
【技术实现步骤摘要】
一种镀膜均匀的真空镀膜设备
[0001]本申请涉及镀膜
，尤其是涉及一种镀膜均匀的真空镀膜设备。
技术介绍
[0002]真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。而进行真空镀膜则需要使用真空镀膜设备。
[0003]相关技术中，真空镀膜设置包括真空机、腔体、加热丝、腔盖和夹具，真空机与腔体连接，腔体一侧开口，腔盖摆动连接在腔体开口的一端，夹具安装在腔盖靠近腔体的一面上，加热丝安装在腔体的内表面上且绕腔体一周设置。
[0004]进行镀膜前，开启腔盖，使用夹具将待镀件夹住，再关闭腔盖，使用真空机将腔体中的空气抽出形成真空环境，当真空环境达到预设值后，开启加热丝对腔体进行加热，当腔体内的温度达到预设值后，再对待镀件进行电镀处理。
[0005]针对上述中的相关技术，使用加热丝对腔体进行加热，热量从加热丝位置向中间靠近，当腔体较大时，温度在传递过程中会造成损耗，二腔体较大，则热量在传递过程中损耗较大，从而导致腔体中心温度与腔体边缘温度相差较大，进而导致在腔体中进行电镀的待镀件的电镀效果变差，从而导致电镀的镀膜分布不均匀，厚度不均匀。
技术实现思路
[0006]本申请的目的是提供一种镀膜均匀的真空镀膜设备。
[0007]本申请提供的一种镀膜均匀的真空镀膜设备采用如下的技术方案：一种镀膜均匀的真空镀膜设备，包括:腔体和腔盖，所述腔体的腔壁设置为空心腔壁且所述腔体一侧开口，所述腔体的腔壁内灌入导热油用于对所述腔体内部空间进行加热，所述腔盖与所述腔体开口的一端连接，所述腔盖靠近所述腔体的一面固定连接有安装柱，所述安装柱固定连接在所述腔盖中心，所述安装柱远离所述腔盖的一端固定连接有加热块，所述加热块处于所述腔体中心位置。
[0008]通过采用上述技术方案，在进行加热时，同时开启加热块和通入导热油，使腔体的中心部位和边缘部位同时进行加热，进而使得腔体内部温度分布比较均匀，进而镀膜较为均匀。而且导热油相对于加热丝加热，温度分布更加均匀，从而使腔体内部温度分布更加均匀，进而使镀膜更加均匀。
[0009]可选的，所述安装柱采用电动伸缩杆，所述安装柱能够带动所述加热块沿所述腔盖轴线方向移动。
[0010]通过采用上述技术方案，在进行电镀之前，将加热块向上收缩，使导热油单独对腔体进行保温。当加热块进行加热时，加热块处的温度较高，当腔体处于预设温度时，关闭加热块，将加热块收到腔盖位置，从而减少了加热源，使导热油单独对腔体进行保温，进而进一步增加了腔体内温度分布的均匀程度，进而使镀膜更加均匀。
[0011]可选的，所述腔盖靠近腔体的一面开设有限位槽，所述安装柱固定连接在限位槽
内壁中心，所述加热块能完全嵌入所述限位槽内。
[0012]通过采用上述技术方案，在安装柱收缩时，将加热块收入到限位槽中，从而使加热块占据的腔体的内部空间减少，增加了腔体内部可以使用 的空间。
[0013]可选的，所述腔体侧壁安装有上料机构，所述上料机构包括固定组件、上料板和密封板，所述腔体侧壁开设有上料口，所述上料板穿过所述上料口插入所述腔体中；
[0014]所述上料板远离所述上料口的一端与所述密封板固定连接，所述密封板与所述上料口大小适配；
[0015]所述固定组件安装在所述上料板上用于固定待镀件。
[0016]通过采用上述技术方案，上料时，将待镀件放置在上料板上，通过固定组件将待镀件进行固定，进而将待镀件推入到腔体中，对待镀件进行电镀处理。
[0017]可选的，所述上料板有两个，两个所述上料板分别安装在所述密封板的两端，两个所述上料板均滑动连接在密封板上；
[0018]两个所述上料板之间设置有用于调节上料板之间距离的调节组件；
[0019]所述固定组件包括第一电磁铁和第二电磁铁，所述第一电磁铁和所述第二电磁铁均设置有两个，两个所述第一电磁铁相互对称设置，两个所述第二电磁铁相互对称设置，两个所述第一电磁铁安装在一块所述上料板上，两个所述第二电磁铁安装在另一块所述上料板上。
[0020]通过采用上述技术方案，将待镀件一端放置在两个第一电磁铁之间，将待镀件另一端放置在两个第二电磁铁之间，给第一电磁铁和第二电磁铁通电，从而将待镀件夹住，进而对待镀件进行固定。
[0021]可选的，所述调节组件包括第三电磁铁和弹性件，两块所述上料板上均安装一个所述第三电磁铁，两个所述第三电磁铁相对设置；
[0022]所述密封板上固定连接有两个安装板，两个所述安装板相对设置，两个所述上料板设置在两个安装板之间；
[0023]每个所述上料板与相邻所述安装板之间均设置一个所述弹性件，所述弹性件一端与所述安装板固定连接，所述弹性件另一端与所述上料板固定连接；
[0024]两个所述上料板相互靠近的一面均安装一个所述第三电磁铁，两个所述第三电磁铁相互对称设置。
[0025]在进行电镀的过程中，第一电磁铁和第二电磁铁夹取部位不容易被电镀上，通过采用上述技术方案，当需要电镀第一电磁铁夹取部位时，开启第一电磁铁，使两个上料板相互远离，进而对待镀件进行电镀，当需要对第二电磁铁夹取部位进行电镀时，关闭第第三电磁铁和第二电磁铁，进而对第二电磁铁夹取部位进行电镀处理，从而减少电镀过程中未电镀到的部位。
[0026]可选的，每个所述弹性件位置均设置一个伸缩件，所述弹性件套设在所述伸缩件上，所述伸缩件一端与所述安装板固定连接，所述伸缩件另一端与所述密封板固定连接。
[0027]通过采用上述技术方案，在弹性件进行复位和拉伸的过程中，容易发生径向弯曲，将弹性件套设在伸缩件上，减少了弹性件发生径向弯曲的可能性。
[0028]可选的，所述密封板与所述腔体之间设置有密封条，所述密封条绕所述密封板一周设置且固定连接在密封板上。
[0029]通过采用上述技术方案，减少了密封板与上料口内壁之间的间隙，从而增加了腔体的密封性。
[0030]综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：
[0031]1.在进行加热时，同时开启加热块和通入导热油，使腔体的中心部位和边缘部位同时进行加热，进而使得腔体内部温度分布比较均匀，进而镀膜较为均匀。而且导热油相对于加热丝加热，温度分布更加均匀，从而使腔体内部温度分布更加均匀，进而使镀膜更加均匀；
[0032]2.第一电磁铁和第二电磁铁夹取部位不容易被电镀上，通过采用上述技术方案，当需要电镀第一电磁铁夹取部位时，开启第一电磁铁，使两个上料板相互远离，进而对待镀件进行电镀，当需要对第二电磁铁夹取部位进行电镀时，关闭第第三电磁铁和第二电磁铁，进而对第二电磁铁夹取部位进行电镀处理，从而减少电镀过程中未电镀到的部位；
[0033]3.在弹性件进行复位和拉伸的过程中，容易发生径向弯曲，将弹性件套设在伸缩件上，减少了弹性件发生径向弯曲的可能性。
附图说明
[0034]图1是本申请实施例一种镀膜均匀的真空镀膜设备的整体结本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种镀膜均匀的真空镀膜设备，包括:腔体（1）和腔盖（2），其特征在于:所述腔体（1）的腔壁设置为空心腔壁且所述腔体（1）一侧开口，所述腔体（1）的腔壁内灌入导热油用于对所述腔体（1）内部空间进行加热，所述腔盖（2）与所述腔体（1）开口的一端连接，所述腔盖（2）靠近所述腔体（1）的一面固定连接有安装柱（22），所述安装柱（22）固定连接在所述腔盖（2）中心，所述安装柱（22）远离所述腔盖（2）的一端固定连接有加热块（23），所述加热块（23）处于所述腔体（1）中心位置。2.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于:所述安装柱（22）采用电动伸缩杆，所述安装柱（22）能够带动所述加热块（23）沿所述腔盖（2）轴线方向移动。3.根据权利要求2所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于:所述腔盖（2）靠近腔体（1）的一面开设有限位槽（21），所述安装柱（22）固定连接在限位槽（21）内壁中心，所述加热块（23）能完全嵌入所述限位槽（21）内。4.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于: 所述腔体（1）侧壁安装有上料机构（3），所述上料机构（3）包括固定组件（33）、上料板（31）和密封板（32），所述腔体（1）侧壁开设有上料口（11），所述上料板（31）穿过所述上料口（11）插入所述腔体（1）中；所述上料板（31）远离所述上料口（11）的一端与所述密封板（32）滑动连接，所述密封板（32）与所述上料口（11）大小适配；所述固定组件（33）安装在所述上料板（31）上用于固定待镀件。5.根据权利要求4所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于:所述上料板（31）有两个，两个所述上料板（31）分别安装在所述密封板（32）的两端，两个所述上料板（31）均滑动连接在密封板（32）上；两个所述上料板（31...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡冀，占兵，周家维，
申请(专利权)人：深圳市黄金屋真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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