取代的哒嗪酮除草剂制造技术

披露了：式1的化合物，包括其所有立体异构体、A

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】取代的哒嗪酮除草剂


[0001]本专利技术涉及某些哒嗪酮除草剂，其N
‑
氧化物、盐和组合物，以及其用于控制不希望植被的方法。

技术介绍

[0002]控制不希望植被在实现高作物效率中是极其重要的。实现对杂草生长的选择性控制，尤其是在此类有用的作物尤其如稻、大豆、甜菜、玉蜀黍、马铃薯、小麦、大麦、番茄和种植作物中，是非常希望的。在此类有用的作物中的未加抑制的杂草生长可造成产量的显著下降，并且从而导致消费者的成本增加。在非作物区域中对不希望植被的控制也是重要的。为了这些目的，许多产品是可商购的，但持续需要更有效、较低成本、较低毒性、对环境更安全或具有不同的作用位点的新型化合物。

技术实现思路

[0003]本专利技术涉及式1的化合物、其所有立体异构体、N
‑
氧化物和盐，含有它们的农业组合物，以及它们作为除草剂的用途：
[0004][0005]其中
[0006]R1是H、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C3‑
C7烷硫基烷基、C1‑
C7烷氧基、或苄基或苯基，所述苄基或苯基中的环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；或含有选自碳和最高达1个O和1个S的环成员的5元或6元饱和或部分饱和杂环，所述环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；
[0007]R2是H、卤素、氰基、甲酰基、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C2‑
C4烷基羰基、C2‑
C7烷基羰氧基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C1‑
C4烷基亚磺酰基、C1‑
C4烷基磺酰基、C1‑
C4烷基氨基、C2‑
C8二烷基氨基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C1‑
C7烷氧基、C1‑
C5烷硫基或C2‑
C3烷氧基羰基；或任选地被卤素、C1‑
C4烷基或C1‑
C4卤代烷基取代的苯基；
[0008]R3是H、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C3‑
C7烷硫基烷基、C1‑
C7烷氧基、或苄基或苯基，所述苄基或苯基中的环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；或含有选自碳和最高达1个O和1个S的环成员的5元或6元饱和或部分饱和杂环，所述环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；
[0009]R4是H、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C3‑
C7烷硫基烷基、C1‑
C7烷氧基、(CH2CH2O)
t
R5、或苄基或苯基，所述苄基或苯基中的环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；或含有选自碳和最高达1个O和1个S的环成员的5元或6元饱和或部分饱和杂环，所述环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；
[0010]R5是H、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C3‑
C7烷硫基烷基、C1‑
C7烷氧基、或苄基或苯基，所述苄基或苯基中的环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；或含有选自碳和最高达1个O和1个S的环成员的5元或6元饱和或部分饱和杂环，所述环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；
[0011]t是从1至10的整数；
[0本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种式1的化合物，其所有立体异构体、N
‑
氧化物和盐其中R1是H、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C3‑
C7烷硫基烷基、C1‑
C7烷氧基、苄基或苯基，所述苄基或苯基中的环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；或含有选自碳和最高达1个O和1个S的环成员的5元或6元饱和或部分饱和杂环，所述环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；R2是H、卤素、氰基、甲酰基、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C2‑
C4烷基羰基、C2‑
C7烷基羰氧基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C1‑
C4烷基亚磺酰基、C1‑
C4烷基磺酰基、C1‑
C4烷基氨基、C2‑
C8二烷基氨基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C1‑
C7烷氧基、C1‑
C5烷硫基或C2‑
C3烷氧基羰基；或任选地被卤素、C1‑
C4烷基或C1‑
C4卤代烷基取代的苯基；R3是H、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C3‑
C7烷硫基烷基、C1‑
C7烷氧基、或苄基或苯基，所述苄基或苯基中的环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；或含有选自碳和最高达1个O和1个S的环成员的5元或6元饱和或部分饱和杂环，所述环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；R4是H、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C3‑
C7烷硫基烷基、C1‑
C7烷氧基、(CH2CH2O)
t
R5、或苄基或苯基，所述苄基或苯基中的环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；或含有选自碳和最高达1个O和1个S的环成员的5元或6元饱和或部分饱和杂环，所述环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；
R5是H、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C3‑
C7烷硫基烷基、C1‑
C7烷氧基、或苄基或苯基，所述苄基或苯基中的环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；或含有选自碳和最高达1个O和1个S的环成员的5元或6元饱和或部分饱和杂环，所述环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；t是从1至10的整数；X是直接键、O、S或NR6；R6是H、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C3‑
C7烷硫基烷基、C1‑
C7烷氧基、或苄基或苯基，所述苄基或苯基中的环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；或含有选自碳和最高达1个O和1个S的环成员的5元或6元饱和或部分饱和杂环，所述环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；或者R4和R6可以与它们所附接的氮原子一起形成3元至7元环，该环含有碳原子和任选地1至3个氧原子、硫原子或氮原子作为环成员，其中最高达2个碳原子环成员独立地选自C(＝O)和C(＝S)，并且该硫原子环成员选自S、S(O)或S(O)2，所述环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；A选自
以及X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7、X8、X9和X
10
各自独立地是N或CR7；前提是X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7、X8、X9和X
10
中的不超过4个是N；X
11
是O、S或NR9；或者X
11
是
‑
C(R
10
)＝C(R
11
)
‑
，其中键合至R
10
的碳原子也键合至与R
13
键合的碳原子，并且键合至R
11
的碳原子也键合至式1中的苯基环部分；Y是O、S或NR8；Y1是O、S、NR8或CR
7a
R
7b
；每个R7独立地是H、卤素、氰基、硝基、C1‑
C5烷基、C2‑
C5烯基、C2‑
C5炔基、C3‑
C5环烷基、C4‑
C5环烷基烷基、C1‑
C5卤代烷基、C3‑
C5卤代烯基、C3‑
C5卤代炔基、C2‑
C5烷氧基烷基、C1‑
C5烷氧基、C1‑
C5卤代烷氧基、C1‑
C5烷硫基、C1‑
C4烷基亚磺酰基、C1‑
C4烷基磺酰基、C1‑
C5卤代烷硫基或C2‑
C5烷氧基羰基；R
7a
是H、卤素、
‑
CN、硝基、C1‑
C5烷基、C2‑
C5烯基、C2‑
C5炔基、C3‑
C5环烷基、C4‑
C5环烷基烷基、C1‑
C5卤代烷基、C3‑
C5卤代烯基、C3‑
C5卤代炔基、C2‑
C5烷氧基烷基、C1‑
C5烷氧基、C1‑
C5卤代烷氧基、C1‑
C5烷硫基、C1‑
C4烷基亚磺酰基、C1‑
C4烷基磺酰基、C1‑
C5卤代烷硫基或C2‑
C5烷氧基羰基；
R
7b
是H、卤素、
‑
CN、硝基、C1‑
C5烷基、C2‑
C5烯基、C2‑
C5炔基、C3‑
C5环烷基、C4‑
C5环烷基烷基、C1‑
C5卤代烷基、C3‑
C5卤代烯基、C3‑
C5卤代炔基、C2‑
C5烷氧基烷基、C1‑
C5烷氧基、C1‑
C5卤代烷氧基、C1‑
C5烷硫基、C1‑
C4烷基亚磺酰基、C1‑
C4烷基磺酰基、C1‑
C5卤代烷硫基或C2‑
C5烷氧基羰基；或者R
7a
和R
7b
一起为＝O；或R
7a
和R
7b
与它们所键合的碳原子一起形成任选地取代的3元至7元碳环；R8是H、C1‑
C3烷基或C1‑
C3卤代烷基；R9是H、C1‑
C3烷基或C1‑
C3卤代烷基；R
10
和R
11
独立地是H、卤素、硝基、
‑
CN、C1‑
C5烷基、C2‑
C5烯基、C2‑
C5炔基、C3‑
C5环烷基、C4‑
C5环烷基烷基、C1‑
C5卤代烷基、C3‑
C5卤代烯基、C3‑
C5卤代炔基、C2‑
C5烷氧基烷基、C1‑
C5烷氧基、C1‑
C5卤代烷氧基、C1‑
C5烷硫基、C1‑
C4烷基亚磺酰基、C1‑
C4烷基磺酰基、C1‑
C5卤代烷硫基或C2‑
C5烷氧基羰基；每个R
12
独立地是卤素、
‑
CN、硝基、C1‑
C5烷基、C2‑
C5烯基、C2‑
C5炔基、C3‑
C5环烷基、C4‑
C5环烷基烷基、C1‑
C5卤代烷基、C3‑
C5卤代烯基、C3‑
C5卤代炔基、C2‑
C5烷氧基烷基、C1‑
C5烷氧基、C1‑
C5卤代烷氧基、C1‑
C5烷硫基、C1‑
C5卤代烷硫基或C2‑
C5烷氧基羰基；R
13
是H、卤素、硝基、
‑
CN、C1‑
C5烷基、C2‑
C5烯基、C2‑
C5炔基、C3‑
C5环烷基、C4‑
C5环烷基烷基、C1‑
C5卤代烷基、C3‑
C5卤代烯基、C3‑
C5卤代炔基、C2‑
C5烷氧基烷基、C1‑
C5烷氧基、C1‑
C5卤代烷氧基、C1‑
C5烷硫基、C1‑
C4烷基亚磺酰基、C1‑
C4烷基磺酰基、C1‑
C5卤代烷硫基或C2‑
C5烷氧基羰基；R
14
是H；并且n是0、1、2、3或4。2.如权利要求1所述的化合物，其中，A是A
‑
11；R1是H、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C3‑
C7烷硫基烷基、C1‑
C7烷氧基、或苄基或苯基，所述苄基或苯基中的环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取代基取代；R2是H、卤素、氰基、甲酰基、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C2‑
C4烷基羰基、C2‑
C7烷基羰氧基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C1‑
C4烷基亚磺酰基、C1‑
C4烷基磺酰基、C1‑
C4烷基氨基、C2‑
C8二烷基氨基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C1‑
C7烷氧基、C1‑
C5烷硫基或C2‑
C3烷氧基羰基；R3是H、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C4‑
C7烷基环烷基、C3‑
C7烯基、C3‑
C7炔基、C3‑
C7环烷基、C4‑
C7环烷基烷基、C2‑
C3氰基烷基、C1‑
C4硝基烷基、C2‑
C7卤代烷氧基烷基、C1‑
C7卤代烷基、C3‑
C7卤代烯基、C2‑
C7烷氧基烷基、C3‑
C7烷硫基烷基、C1‑
C7烷氧基、或苄基或苯基，所述苄基或苯基中的环任选地被至少一个独立地选自由卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基组成的组的取
代基取代；R4是H、C1‑
C7烷基、C3‑
C8烷基羰基烷基、C3‑
C8烷氧基羰基烷基、C4...

【专利技术属性】
技术研发人员：S，
申请(专利权)人：FMC公司，
类型：发明
国别省市：