一种真空镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜设备，真空镀膜设备包括进料腔室、缓冲腔室、工艺腔室、出料腔室和真空泵，进料腔室和工艺腔室之间以及工艺腔室和出料腔室之间均设置有缓冲腔室，缓冲腔室的第一端连接工艺腔室，缓冲腔室的第二端连接进料腔室或出料腔室，缓冲腔室的侧壁设置有真空泵，靠近缓冲腔室第一端的真空泵数量多于靠近缓冲腔室第二端的真空泵。利用真空泵在缓冲腔室形成第二端向第一端的气流，在缓冲腔室与工艺腔室连通时，能够减少工艺气体从工艺腔室向缓冲腔室的流动，且在缓冲腔室连通进料腔室或出料腔室时，缓冲腔室中第二端向第一端的气流也能够防止工艺气体泄漏至大气，减少对环境的影响。本实用新型专利技术可广泛应用于真空镀膜技术领域。膜技术领域。膜技术领域。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜设备


[0001]本技术涉及真空镀膜
，特别涉及一种真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]真空镀膜是一种在高真空高温环境下对工件表面镀膜的技术，镀膜过程中，真空镀膜设备中营造具有工艺气体的腔室环境，众所周知，工件进入或送出真空镀膜设备时，工艺气体可能会外溢，若泄露至大气，则存在安全隐患。常见的处理方式是设计缓冲腔室隔离工艺腔室，工件先进入缓冲腔室，缓冲腔室通过真空泵清理工艺气体后，工件再进入工艺腔室或出料腔室。这种方式虽然能够防止工艺气体外泄，但是负压抽吸工艺气体形成缓冲腔室的真空环境所需的时间将会增加，影响真空镀膜设备的效率。

技术实现思路

[0003]为解决上述技术问题中的至少之一，本技术提供一种真空镀膜设备，所采用的技术方案如下。
[0004]本技术所提供的真空镀膜设备包括进料腔室、缓冲腔室、工艺腔室、出料腔室和真空泵，所述进料腔室和所述工艺腔室之间以及所述工艺腔室和所述出料腔室之间均设置有所述缓冲腔室，所述缓冲腔室的第一端连接所述工艺腔室，所述缓冲腔室的第二端连接所述进料腔室或所述出料腔室，所述缓冲腔室的侧壁设置有所述真空泵，靠近所述缓冲腔室第一端的所述真空泵数量多于靠近所述缓冲腔室第二端的所述真空泵。
[0005]本技术的某些实施例中，所述缓冲腔室的前侧壁和后侧壁均设置有所述真空泵。
[0006]本技术的某些实施例中，所述真空泵在所述缓冲腔室的前侧壁和后侧壁位置对称。
[0007]本技术的某些实施例中，所述缓冲腔室的顶部侧壁设置有所述真空泵。r/>[0008]本技术的某些实施例中，所述真空泵包括分子泵或罗茨泵或机械泵。
[0009]本技术所提供的真空镀膜设备包括进料腔室、缓冲腔室、工艺腔室、出料腔室和真空泵，所述进料腔室和所述工艺腔室之间以及所述工艺腔室和所述出料腔室之间均设置有所述缓冲腔室，所述缓冲腔室的第一端连接所述工艺腔室，所述缓冲腔室的第二端连接所述进料腔室或所述出料腔室，所述缓冲腔室的侧壁设置有所述真空泵，所述真空泵靠近所述缓冲腔室的第一端。
[0010]本技术所提供的真空镀膜设备包括进料腔室、缓冲腔室、工艺腔室、出料腔室和真空泵，所述进料腔室和所述工艺腔室之间以及所述工艺腔室和所述出料腔室之间均设置有所述缓冲腔室，所述缓冲腔室的第一端连接所述工艺腔室，所述缓冲腔室的第二端连接所述进料腔室或所述出料腔室，所述缓冲腔室的侧壁设置有所述真空泵，所述真空泵用于在所述缓冲腔室形成第一端负压小于第二端负压的气压环境。
[0011]本技术所提供的真空镀膜设备包括进料腔室、缓冲腔室、过渡腔室、工艺腔
室、出料腔室和真空泵，所述进料腔室和所述工艺腔室之间以及所述工艺腔室和所述出料腔室之间均设置有所述缓冲腔室和所述过渡腔室，所述缓冲腔室的第一端连接所述过渡腔室，所述缓冲腔室的第二端连接所述进料腔室或所述出料腔室，所述缓冲腔室的侧壁设置有所述真空泵，靠近所述缓冲腔室第一端的所述真空泵数量多于靠近所述缓冲腔室第二端的所述真空泵。
[0012]本技术所提供的真空镀膜设备包括进料腔室、缓冲腔室、过渡腔室、工艺腔室、出料腔室和真空泵，所述进料腔室和所述工艺腔室之间以及所述工艺腔室和所述出料腔室之间均设置有所述缓冲腔室和所述过渡腔室，所述缓冲腔室的第一端连接所述过渡腔室，所述缓冲腔室的第二端连接所述进料腔室或所述出料腔室，所述缓冲腔室的侧壁设置有所述真空泵，所述真空泵靠近所述缓冲腔室的第一端。
[0013]本技术所提供的真空镀膜设备包括进料腔室、缓冲腔室、过渡腔室、工艺腔室、出料腔室和真空泵，所述进料腔室和所述工艺腔室之间以及所述工艺腔室和所述出料腔室之间均设置有所述缓冲腔室和所述过渡腔室，所述缓冲腔室的第一端连接所述过渡腔室，所述缓冲腔室的第二端连接所述进料腔室或所述出料腔室，所述缓冲腔室的侧壁设置有所述真空泵，所述真空泵用于在所述缓冲腔室形成第一端负压小于第二端负压的气压环境。
[0014]本技术的实施例至少具有以下有益效果：利用真空泵在缓冲腔室形成第二端向第一端的气流，在缓冲腔室与工艺腔室连通时，能够减少工艺气体从工艺腔室向缓冲腔室的流动，且在缓冲腔室连通进料腔室或出料腔室时，缓冲腔室中第二端向第一端的气流也能够防止工艺气体泄漏至大气，减少对环境的影响。本技术可广泛应用于真空镀膜

附图说明
[0015]本技术的实施例所描述和/或所附加的方面和优点，结合下面附图将变得明显和容易理解。应说明的是，下面附图所体现的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0016]图1为真空镀膜设备的结构图，图中显示具有过渡腔室。
[0017]图2为真空镀膜设备的结构图，图中显示不具有过渡腔室。
[0018]图3为缓冲腔室的结构示意图，图中显示在前侧侧壁和后侧侧壁分别设置真空泵，靠近第一端设置两个真空泵、靠近第二端设置一个真空泵。
[0019]图4为缓冲腔室的结构示意图，图中显示在顶部侧壁设置有真空泵。
[0020]图5为缓冲腔室的结构示意图，图中显示在顶部侧壁设置有真空泵。
[0021]附图标记：101、进料腔室；102、缓冲腔室；103、工艺腔室；104、出料腔室；105、真空泵；106、过渡腔室。
具体实施方式
[0022]下面结合图1至图5详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对
本技术的限制。
[0023]在本技术的描述中，需要理解的是，若出现术语“中心”、“中部”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0024]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0025]本技术涉及一种真空镀膜设备，真空镀膜设备包括进料腔室101、缓冲腔室102、工艺腔室103和出料本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备，其特征在于：包括进料腔室、缓冲腔室、工艺腔室、出料腔室和真空泵，所述进料腔室和所述工艺腔室之间以及所述工艺腔室和所述出料腔室之间均设置有所述缓冲腔室，所述缓冲腔室的第一端连接所述工艺腔室，所述缓冲腔室的第二端连接所述进料腔室或所述出料腔室，所述缓冲腔室的侧壁设置有所述真空泵，靠近所述缓冲腔室第一端的所述真空泵数量多于靠近所述缓冲腔室第二端的所述真空泵。2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述缓冲腔室的前侧壁和后侧壁均设置有所述真空泵。3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述真空泵在所述缓冲腔室的前侧壁和后侧壁位置对称。4.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述缓冲腔室的顶部侧壁设置有所述真空泵。5.根据权利要求1至4任一项所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述真空泵包括分子泵或罗茨泵或机械泵。6.一种真空镀膜设备，其特征在于：包括进料腔室、缓冲腔室、工艺腔室、出料腔室和真空泵，所述进料腔室和所述工艺腔室之间以及所述工艺腔室和所述出料腔室之间均设置有所述缓冲腔室，所述缓冲腔室的第一端连接所述工艺腔室，所述缓冲腔室的第二端连接所述进料腔室或所述出料腔室，所述缓冲腔室的侧壁设置有所述真空泵，所述真空泵靠近所述缓冲腔室的第一端。7.一种真空镀膜设备，其特征在于：包括进料腔室、缓冲腔室、工艺腔室、出料腔室和真空泵，所述进料腔室和所述工艺腔室之间以及所述工艺腔室和所述出料腔室之间均设置有所述缓冲腔室，所述缓冲腔室的第一端连接所述工艺腔室，所述缓...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：广东利元亨智能装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：