真空泵制造技术

提供一种能够从转子室良好地排出气体中含有的粉体的真空泵。真空泵(1)具备：在内部具有转子室(5)的泵壳体(6)；配置于转子室(5)内的一对罗茨转子(8)；及支承一对罗茨转子(8)的一对旋转轴(9)。泵壳体(6)具有与转子室(5)连通的气体入口(12)和气体出口(13)，形成转子室(5)的内壁(22)与形成气体出口(13)的内壁(23)的连接部(25)位于通过各罗茨转子(8)的旋转中心(RC)和下止点(LP)地延伸的转子中心线(CL)上，或者位于转子中心线(CL)的外侧。或者位于转子中心线(CL)的外侧。或者位于转子中心线(CL)的外侧。

【技术实现步骤摘要】
真空泵


[0001]本专利技术涉及一种真空泵，尤其是涉及一种适用于对在半导体器件、液晶面板、LED、太阳电池等的制造中被使用的处理气体进行排气的用途的真空泵。

技术介绍

[0002]在制造半导体器件、液晶面板、LED、太阳电池等的制造过程中，将处理气体导入处理腔室内来进行蚀刻处理、CVD处理等各种处理。被导入处理腔室的处理气体被真空泵排气。一般而言，在需要高清洁度的这些制造过程中被使用的真空泵是在气体的流路内不使用油的所谓的干燥真空泵。作为这样的干燥真空泵的代表例，有使配置于转子室内的一对罗茨转子彼此向相反方向旋转而转移气体的容积式真空泵。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2010
‑
101321号公报
[0006]专利技术要解决的技术问题
[0007]处理气体有时包含由副生成物构成的粉体。这样的粉体与处理气体一起流入至真空泵内。粉体的大部分与处理气体一起从真空泵排出，但粉体的一部分停留在转子室内，在转子室内逐渐堆积。粉体堆积在转子室的内壁和罗茨转子的外表面上，结果，可能妨碍罗茨转子的旋转。

技术实现思路

[0008]于是，本专利技术提供一种能够从转子室良好地排出气体中含有的粉体的真空泵。
[0009]用于解决技术问题的技术手段
[0010]在一个方式中，提供一种真空泵，具备：泵壳体，该泵壳体在内部具有至少一个转子室；至少一对罗茨转子，该至少一对罗茨转子配置于所述转子室内；以及至少一对旋转轴，该至少一对旋转轴支承所述至少一对罗茨转子，所述泵壳体具有与所述转子室连通的气体入口和气体出口，形成所述转子室的内壁与形成所述气体出口的内壁的连接部位于通过各罗茨转子的旋转中心和下止点地延伸的转子中心线上，或者位于所述转子中心线的外侧。
[0011]在一个方式中，所述气体出口的宽度大于所述气体入口的宽度。
[0012]在一个方式中，所述至少一对罗茨转子是至少一对二叶罗茨转子，从所述旋转中心至所述连接部的直线相对于所述转子中心线的角度在0度～35度的范围内。
[0013]在一个方式中，所述至少一对罗茨转子是至少一对三叶罗茨转子，从所述旋转中心至所述连接部的直线相对于所述转子中心线的角度在0度～45度的范围内。
[0014]在一个方式中，所述至少一对罗茨转子包含一对第一罗茨转子和一对第二罗茨转子，该一对第二罗茨转子在气体的输送方向上配置于所述一对第一罗茨转子的下游侧，所述至少一个转子室包含配置所述一对第一罗茨转子的第一转子室和配置所述一对第二罗
茨转子的第二转子室，所述泵壳体具有与所述第一转子室连通的第一气体入口和第一气体出口以及与所述第二转子室连通的第二气体入口和第二气体出口，形成所述第一转子室的内壁与形成所述第一气体出口的内壁的第一连接部位于通过各第一罗茨转子的旋转中心和下止点地延伸的第一转子中心线的外侧，形成所述第二转子室的内壁与形成所述第二气体出口的内壁的第二连接部位于通过各第二罗茨转子的旋转中心和下止点地延伸的第二转子中心线上，或者位于所述第二转子中心线的外侧，所述第一气体出口的宽度大于所述第二气体出口的宽度。
[0015]专利技术效果
[0016]根据本专利技术，与转子室连通的气体出口的宽度变大，气体中含有的粉体难以在转子室内停留。结果，粉体与气体一起从转子室排出，能够降低在转子室内堆积的粉体的量。
附图说明
[0017]图1是表示真空泵装置的一个实施方式的剖视图。
[0018]图2是图1的A
‑
A线剖视图。
[0019]图3是表示形成转子室的内壁与形成气体出口的内壁的连接部的其他实施方式的剖视图。
[0020]图4是表示形成转子室的内壁与形成气体出口的内壁的连接部的又一实施方式的剖视图。
[0021]图5是表示气体出口的其他实施方式的剖视图。
[0022]图6是表示三叶罗茨转子的一个实施方式的剖视图。
[0023]图7是表示真空泵装置的其他实施方式的剖视图。
[0024]图8是图7的B
‑
B线剖视图。
[0025]图9是图7的C
‑
C线剖视图。
[0026]符号说明
[0027]1真空泵
[0028]2电动机
[0029]2A电动机转子
[0030]2B电动机定子
[0031]5、5A～5E转子室
[0032]6泵壳体
[0033]8、8A～8E罗茨转子
[0034]9旋转轴
[0035]12、12A～12E气体入口
[0036]13、13A～13E气体出口
[0037]14电动机外壳
[0038]16齿轮外壳
[0039]17轴承
[0040]18轴承
[0041]20齿轮
[0042]22泵壳体的内壁
[0043]23气体出口的内壁
[0044]25连接部
[0045]CL转子中心线
[0046]RC罗茨转子的旋转中心
[0047]LP罗茨转子的下止点
[0048]CP转子室的中心点
具体实施方式
[0049]以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行说明。
[0050]图1是表示真空泵装置的一个实施方式的剖视图。下文说明的实施方式的真空泵装置为容积式真空泵装置。尤其是，图1所示的真空泵装置是在气体的流路内不使用油的所谓的干式真空泵装置。干式真空泵装置中的气化的油不向上游侧流动，因此能够适用于需要高清洁度的半导体器件的制造装置。
[0051]如图1所示，真空泵装置具备真空泵1和驱动该真空泵1的电动机2。真空泵1具备在内部具有转子室5的泵壳体6、配置在转子室5内的一对罗茨转子8以及支承一对罗茨转子8的一对旋转轴9。各罗茨转子8和各旋转轴9可以是一体结构物。在图1中仅描绘了一个罗茨转子8和一个旋转轴9，但一对罗茨转子8配置在转子室5内，并分别支承于一对旋转轴9。电动机2与一对旋转轴9中的一方连结。在一个实施方式中，也可以是，一对电动机2与一对旋转轴9分别连结。
[0052]本实施方式的罗茨转子8是单级泵转子，但在一个实施方式中，罗茨转子8也可以是多级泵转子。
[0053]泵壳体6具有与转子室5连通的气体入口12和气体出口13。气体入口12与被应当输送充满的腔室(未图示)连结。在一例中，气体入口12与半导体设备的制造装置的处理腔室连结，真空泵1被用作对导入至处理腔室的处理气体进行排气的用途。
[0054]真空泵1还具备位于泵壳体6的侧壁6A的外侧的齿轮外壳16。在齿轮外壳16的内部配置有彼此啮合的一对齿轮20。另外，在图1中仅描绘了一个齿轮20。这些齿轮20分别固定于旋转轴9。电动机2通过未图示的电动机驱动器旋转，与电动机2连结的一方的旋转轴9经由齿轮20而使不与电动机2连结的另一方的旋转轴9向相反方向旋转。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空泵，其特征在于，具备：泵壳体，该泵壳体在内部具有至少一个转子室；至少一对罗茨转子，该至少一对罗茨转子配置于所述转子室内；以及至少一对旋转轴，该至少一对旋转轴支承所述至少一对罗茨转子，所述泵壳体具有与所述转子室连通的气体入口和气体出口，形成所述转子室的内壁与形成所述气体出口的内壁的连接部位于通过各罗茨转子的旋转中心和下止点地延伸的转子中心线上，或者位于所述转子中心线的外侧。2.根据权利要求1所述的真空泵，其特征在于，所述气体出口的宽度大于所述气体入口的宽度。3.根据权利要求1或2所述的真空泵，其特征在于，所述至少一对罗茨转子是至少一对二叶罗茨转子，从所述旋转中心至所述连接部的直线相对于所述转子中心线的角度在0度～35度的范围内。4.根据权利要求1或2所述的真空泵，其特征在于，所述至少一对罗茨转子是至少一对三叶罗茨转子，从所述旋转中心至所述连接部的直线相对于所述转子中心...

【专利技术属性】
技术研发人员：杉浦哲郎，大渕真志，盐川笃志，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：