本实用新型专利技术提供可均匀进气的原子层沉积装置，涉及原子层沉积技术领域。该可均匀进气的原子层沉积装置转动轴转动带动转动板转动，此时可以使通过进气筒进入到真空反应腔内部的反应气体与真空反应腔内部微粒进行充分的均匀地接触混合，使反应气体布满在真空反应腔内部的各个区域，以此在微粒表面形成一层均匀的薄膜，此结构有益于使反应气体均匀分布在微粒表面形成均匀薄膜。该可均匀进气的原子层沉积装置包括支撑板，所述支撑板顶部设置有转动杆，所述转动杆一侧固定连接有反应槽，所述反应槽内部设置有真空反应腔，所述反应槽内部固定连接有齿圈，所述齿圈内部啮合连接有多个齿轮。轮。轮。
【技术实现步骤摘要】
可均匀进气的原子层沉积装置
[0001]本技术涉及一种原子层沉积装置，具体为可均匀进气的原子层沉积装置，属于原子层沉积
技术介绍
[0002]原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。
[0003]根据专利号CN 214088659 U的技术提供一种微粒的原子层沉积装置，主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元，其中驱动单元经由轴封装置连接并驱动真空腔体转动。真空腔体包括一反应空间，用以容纳复数个微粒，其中反应空间为多边形柱状体或圆形波浪状柱状体。一抽气管线及一进气管线流体连接真空腔体，其中进气管线用以将前驱物气体及非反应气体输送至反应空间，配合反应空间的特殊形状，可透过非反应气体有效翻搅反应空间内的微粒，以利于透过原子层沉积制程在微粒的表面形成厚度均匀的薄膜。
[0004]以上对比文件中,在原子层沉积的过程中，向反应槽内部进气的气体，通过配合反应空间的特殊形状来使反应气体和微粒进行混合的并不均匀，导致反应气体不能在微粒表面形成均匀的薄膜。
技术实现思路
[0005](一)解决的技术问题
[0006]本技术的目的在于，为了解决上述问题，提供可均匀进气的原子层沉积装置，以解决现有技术中通过配合反应空间的特殊形状来使反应气体和微粒进行混合的并不均匀，导致反应气体不能在微粒表面形成均匀的薄膜的问题。
[0007](二)技术方案
[0008]本技术通过以下技术方案予以实现：可均匀进气的原子层沉积装置，包括支撑板，所述支撑板顶部设置有转动杆，所述转动杆一侧固定连接有反应槽，所述反应槽内部设置有真空反应腔，所述反应槽内部固定连接有齿圈，所述齿圈内部啮合连接有多个齿轮，转动杆转动带动反应槽转动，反应槽转动带动齿圈转动，齿圈转动带动齿轮转动用于带动转动板转动，使进气的反应气体可以和微粒均匀的混合，所述齿轮内部固定连接有进气均匀组件。
[0009]优选地，所述进气均匀组件包括转动轴，所述转动轴固定连接于齿轮内部，所述转动轴外侧固定连接有转动板，通过设置转动板用于使通过进气筒进入到真空反应腔内的反应气体和微粒进行混合，转动轴转动带动转动板转动，此时可以使通过进气筒进入到真空反应腔内部的反应气体，与真空反应腔内部微粒进行充分的均匀地接触混合，使反应气体布满真空反应腔内部的各个区域，以此在微粒表面形成一层均匀的薄膜，此结构有益于使
反应气体再进入到真空反应腔内部，并均匀分布在微粒表面，形成均匀薄膜。
[0010]优选地，所述反应槽内部转动连接有圆形盘，所述转动轴转动连接于圆形盘内壁，所述圆形盘设置于反应槽内部，通过设置圆形盘用于使反应气体与微粒进行混合。
[0011]优选地，所述圆形盘内部开设有多个条形槽，所述转动板设置于条形槽内部，通过设置条形槽用于给转动板预留一个转动的位置。
[0012]优选地，所述圆形盘一侧固定连接有进气筒，所述支撑板顶部固定连接有第一支板，所述进气筒固定连接于第一支板内部，通过设置第一支板用于对进气筒进行支撑，便于进气筒运行得更加稳定。
[0013]优选地，所述支撑板顶部固定连接有第三支板，所述转动杆转动连接于第三支板内部，通过设置第三支板用于对转动杆进行支撑，便于转动杆运行得更加稳定。
[0014]优选地，所述第三支板一侧固定连接有第二支板，所述第二支板顶部固定连接有电机，所述电机的输出端与转动杆固定连接，通过设置第二支板用于对电机进行支撑，便于电机可以稳定地带动转动杆转动。
[0015]本技术提供了可均匀进气的原子层沉积装置，其具备的有益效果如下：
[0016]该可均匀进气的原子层沉积装置，齿圈转动带动齿轮转动，齿轮转动带动转动轴转动，转动轴转动带动转动板转动，此时可以使通过进气筒进入到真空反应腔内部的反应气体与真空反应腔内部微粒，进行充分的均匀地接触混合，使反应气体布满真空反应腔内部的各个区域，以此在微粒表面形成一层均匀的薄膜，此结构有益于使反应气体再进入到真空反应腔内部，并均匀分布在微粒表面，形成均匀薄膜。
附图说明
[0017]图1为本技术的整体结构示意图；
[0018]图2为本技术圆形盘结构示意图；
[0019]图3为本技术转动杆结构示意图；
[0020]图4为本技术图3的A部结构放大图。
[0021]【主要组件符号说明】
[0022]1、支撑板；2、转动杆；3、反应槽；4、齿圈；5、齿轮；6、转动轴；7、转动板；8、圆形盘；9、条形槽；10、进气筒；11、第一支板；12、第二支板；13、电机；14、第三支板。
具体实施方式
[0023]本技术实施例提供可均匀进气的原子层沉积装置。
[0024]请参阅图1、图2、图3和图4，包括支撑板1，支撑板1顶部设置有转动杆2，转动杆2一侧固定连接有反应槽3，反应槽3内部设置有真空反应腔，反应槽3内部固定连接有齿圈4，齿圈4内部啮合连接有多个齿轮5，齿轮5内部固定连接有进气均匀组件，进气均匀组件包括转动轴6，转动轴6固定连接于齿轮5内部，转动轴6外侧固定连接有转动板7，通过设置转动板7用于使通过进气筒10进入到真空反应腔内的反应气体和微粒进行混合，反应槽3内部转动连接有圆形盘8，转动轴6转动连接于圆形盘8内壁，圆形盘8设置于反应槽3内部，通过设置圆形盘8用于使反应气体与微粒进行混合，圆形盘8内部开设有多个条形槽9，转动板7设置于条形槽9内部，通过设置条形槽9用于给转动板7预留一个转动的位置，圆形盘8一侧固定
连接有进气筒10，第三支板14一侧固定连接有第二支板12，第二支板12顶部固定连接有电机13，电机13的输出端与转动杆2固定连接，通过设置第二支板12用于对电机13进行支撑，便于电机13可以稳定的带动转动杆2转动。
[0025]本技术在使用时：反应气体通过进气筒10进入到真空反应腔内部，此时可以启动电机13，电机13带动转动杆2转动，转动杆2转动带动反应槽3转动，反应槽3转动带动齿圈4转动，齿圈4转动带动齿轮5转动，齿轮5转动带动转动轴6转动，转动轴6转动带动转动板7转动，此时可以使通过进气筒10进入到真空反应腔内部的反应气体与真空反应腔内部微粒可以进行充分的均匀地接触混合，使反应气体布满真空反应腔内部的各个区域，以此在微粒表面形成一层均匀的薄膜，此结构有益于使反应气体再进入到真空反应腔内部，并均匀分布在微粒表面形成均匀薄膜。
[0026]请再次参阅图1、图2和图3，支撑板1顶部固定连接有第一支板11，进气筒10固定连接于第一支板11内部，通过设置第一支板11用于对进气筒10进行支撑，便于进气筒10运行得更加稳定，支撑板1顶部固定连接有第三支板14，转动杆2转动连接于第三支板14内部，通过设置第三支板14用于对转动杆2进行支撑，便于转动杆2本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.可均匀进气的原子层沉积装置，包括支撑板(1)，其特征在于：所述支撑板(1)顶部设置有转动杆(2)，所述转动杆(2)一侧固定连接有反应槽(3)，所述反应槽(3)内部设置有真空反应腔，所述反应槽(3)内部固定连接有齿圈(4)，所述齿圈(4)内部啮合连接有多个齿轮(5)，所述齿轮(5)内部固定连接有进气均匀组件。2.根据权利要求1所述的可均匀进气的原子层沉积装置，其特征在于：所述进气均匀组件包括转动轴(6)，所述转动轴(6)固定连接于齿轮(5)内部，所述转动轴(6)外侧固定连接有转动板(7)。3.根据权利要求2所述的可均匀进气的原子层沉积装置，其特征在于：所述反应槽(3)内部转动连接有圆形盘(8)，所述转动轴(6)转动连接于圆形盘(8)内壁，所述圆形盘(8)设置于反应槽(3)内部。4.根据权利要求3所述的可...
【专利技术属性】
技术研发人员：张义颖，张良，雍晓龙，何奇，
申请(专利权)人：披刻半导体苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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