本申请提供一种制备柔性衬底用的支撑装置、烘烤设备及制备方法，支撑装置包括支撑件，多个支撑件阵列分布，支撑件用于支撑所述基板，支撑件包括相互连接的主体部及支撑部，支撑部包括沿背离主体部的方向相继分布的连接端、控温部和顶撑端，控温部上设置有热交换膜层；激光发生器，能够向所述热交换膜层发射特定频率的激光。本申请的热交换膜层能够吸收预定频率的激光，预定频率的激光光子可以阻碍热交换膜层内原子的运动，使热交换膜层发生制冷效应，制冷后的热交换膜层能将支撑件上的顶撑端的热量经由控温部吸走，从而实现对顶撑端降温的效果，使得本申请能够有效解决由于支撑件的顶撑端和基板存在温差导致的成膜不均匀现象。象。象。
【技术实现步骤摘要】
制备柔性衬底用的支撑装置、烘烤设备及制备方法
[0001]本申请涉及显示装置制造领域，尤其涉及一种制备柔性衬底用的支撑装置、烘烤设备及制备方法。
技术介绍
[0002]OLED行业中，柔性衬底由PI(Polyimide，聚酰亚胺)形成，PI涂布机将PI ink(聚酰亚胺墨水)涂敷在玻璃基板上，再经由Oven(烤炉)加热使溶剂挥发和PI固化。。
[0003]PI在烘烤固化过程中，通过支撑结构支撑玻璃基板，而由于支撑结构和玻璃基板存在温差导致基板在支撑位置容易形成不均匀现象。
技术实现思路
[0004]本申请实施例提供一种制备柔性衬底用的支撑装置、烘烤设备及制备方法，可以使得基板在支撑位置成膜均匀。
[0005]第一方面，本申请实施例提供的一种制备柔性衬底用的支撑装置，包括：支撑件，多个支撑件阵列分布，支撑件用于支撑目标物，支撑件包括相互连接的主体部及支撑部，支撑部包括沿背离主体部的方向相继分布的连接端、控温部和顶撑端，控温部上设置有热交换膜层，热交换膜层吸收特定频率的激光释放荧光并吸收控温部的热量；激光发生器，能够向所述热交换膜层发射特定频率的激光。
[0006]第二方面，本申请实施例提供的一种制备柔性衬底用的烘烤设备，包括：烘烤室，烘烤室设置有用于烘烤的加热空间；支撑装置，支撑装置的多个支撑件阵列设置于加热空间内。
[0007]第三方面，本申请实施例提供的一种柔性衬底的制备方法，包括：提供基板，在基板上涂覆目标涂层；利用支撑件对基板进行支撑并开始对基板和目标涂层加热；加热过程中监测支撑件的温度是否超过预设值：在支撑件的温度超过预设值的情况下，向支撑件的热交换膜层发射特定频率的激光，以使得热交换膜层发生制冷反应并吸收支撑件的热量；在支撑件的温度低于预设值的情况下，停止发射特定频率的激光。
[0008]本申请的制备柔性衬底用的支撑装置、烘烤设备及制备方法至少具有如下有益效果：
[0009]本申请的支撑装置通过在控温部上设置热交换膜层，热交换膜层能够吸收预定频率的激光，预定频率的激光光子可以阻碍热交换膜层内原子的运动，使热交换膜层发生制冷效应，制冷后的热交换膜层能将支撑件上的顶撑端的热量经由控温部吸走，从而实现对顶撑端降温的效果，使得本申请能够有效解决由于支撑件的顶撑端和目标物存在温差导致的成膜不均匀现象。
附图说明
[0010]通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通
技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本申请的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
[0011]图1是本申请一些实施例提供的支撑装置的结构示意图；
[0012]图2是图1所示支撑装置中的支撑件的使用过程态的立体结构示意图；
[0013]图3是图2的另一视角的示意图；
[0014]图4是图1所示支撑装置中的支撑件使用过程态的另一种示意图；
[0015]图5是图4的另一视角的示意图；
[0016]图6是本申请一些实施例提供的支撑装置的另一种示意图；
[0017]图7是本申请一些实施例中烘烤设备的示意图；
[0018]图8是本申请一些实施例中烘烤设备的另一角度示意图；
[0019]图9是本申请一些实施例中制备方法的流程图；
[0020]具体实施方式中的附图标号如下：
[0021]1、支撑件；11、主体部；12、支撑部；121、连接端；122、控温部；123、顶撑端；124、热交换膜层；
[0022]2、激光发生器；2a、光路；2b、第一光束；2c、第二光束；
[0023]3、透镜组；31、分束镜；311、分束镜的入射面；
[0024]4、烘烤设备；41、烘烤室；4a、加热空间；
[0025]5、基板。
具体实施方式
[0026]下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本申请进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅意在解释本申请，而不是限定本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解。
[0027]需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0028]在阐述本申请实施例所提供的技术方案之前，为了便于对本申请实施例理解，本申请实施例首先对相关技术中存在的问题进行具体说明：
[0029]OLED行业中，柔性衬底由PI(Polyimide，聚酰亚胺)形成，PI涂布机将PI ink(聚酰亚胺墨水)涂敷在玻璃基板上，再经由Oven(烤炉)加热使聚酰亚胺溶剂挥发和聚酰亚胺固化，在烘烤过程中，由支撑结构支撑玻璃基板。
[0030]本申请的专利技术人研究发现，由于烤炉内采用支撑件支撑基板的方式，支撑件的支撑部位会对玻璃基板导热，因此玻璃基板与支撑件接触位置的温度相比其他区域要高，使
得该接触位置的聚酰亚胺溶剂成分挥发更快如导致周边的聚酰亚胺墨水向该接触位置靠拢堆积，最后成膜完成时，会在该位置形成mura不良(mura指的是显示亮度不均匀，造成各种痕迹的现象)。
[0031]在上述情形中，当前行业内暂无有效改善方式，现有技术中主要通过烤炉的气流改善、升温速率改善等方面减弱接触位置的不均匀现象，但仍不能从根本上改善。
[0032]为了解决上述问题，本申请实施例提供一种制备柔性衬底用的支撑装置、烘烤设备及制备方法，首先对本申请实施例的支撑装置进行介绍。
[0033]如图1所示，本申请实施例提供的支撑装置包括：支撑件1，多个支撑件1阵列分布，支撑件1用于支撑目标物，支撑件1包括相互连接的主体部11及支撑部12，支撑部12包括沿背离主体部11的方向相继分布的连接端121、控温部122和顶撑端123，控温部122上设置有热交换膜层124，所述热交换膜层124吸收特定频率的激光释放荧光并吸收控温部122的热量；激光发生器2，能够向热交换膜层124发射特定频率的激光。
[0034]本申请实施例的支撑装置通过在控温部122上设置热交换膜层124，热交换膜层124能够吸收预定频率的激光，预定频率的激光光子可以阻碍热交换膜层124内的原子运动，使本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种制备柔性衬底用的支撑装置，其特征在于，包括：支撑件(1)，多个所述支撑件(1)阵列分布，所述支撑件(1)用于支撑目标物，所述支撑件(1)包括相互连接的主体部(11)及支撑部(12)，所述支撑部(12)包括沿背离所述主体部(11)的方向相继分布的连接端(121)、控温部(122)和顶撑端(123)，所述控温部(122)上设置有热交换膜层(124)，所述热交换膜层(124)吸收特定频率的激光释放荧光并吸收所述控温部(122)的热量；激光发生器(2)，能够向所述热交换膜层(124)发射所述特定频率的激光。2.根据权利要求1所述的支撑装置，其特征在于，所述支撑部(12)的外径沿背离所述主体部(11)的方向渐缩设置，所述支撑部(12)背离所述主体部(11)的端部配置为所述顶撑端(123)。3.根据权利要求1所述的支撑装置，其特征在于，所述热交换膜层(124)沿所述控温部(122)的外周表面分布。4.根据权利要求3所述的支撑装置，其特征在于，所述热交换膜层(124)为环状带状，所述热交换膜层(124)与所述顶撑端(123)的最小距离H满足0.5cm≤H≤5cm；所述热交换膜层的厚度D满足0.5cm≤D≤2cm。5.根据权利要求3所述的支撑装置，其特征在于，所述热交换膜层(124)的材质包括铜、铝、钨以及钼中的一种或以上。6.根据权利要求1
‑
5任意一项所述的支撑装置，其特征在于，多个所述支撑件(1)沿第一方向以及第二方向呈行列设置，所述第一方向与第二方向相交设置。7.根据权利要求6所述的支撑装置，其特征在于，还包括透镜组(3)，所述透镜组(3)包括沿所述激光发生器(2)的光路(2a)设置的至少一个分...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘崇业，
申请(专利权)人：厦门天马显示科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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